本技術(shù)涉及醫(yī)療器械領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種磁力擴(kuò)弓器。

背景技術(shù)：

1、上頜牙弓狹窄是常見(jiàn)的錯(cuò)領(lǐng)畸形，常伴有牙齒擁擠、下領(lǐng)偏斜、下領(lǐng)前突等畸形，繼而引發(fā)咀嚼肌、下頜關(guān)節(jié)功能紊亂，針對(duì)此類(lèi)患者，需配合使用上頜矯治器進(jìn)行治療；目前，正畸臨床常用的上頜擴(kuò)弓裝置為螺旋擴(kuò)弓器等機(jī)械擴(kuò)弓裝置，機(jī)械擴(kuò)弓力為間斷力，起始力量大，力量衰減快，而且需要頻繁加力。

2、針對(duì)上述問(wèn)題，關(guān)于螺旋擴(kuò)弓器等機(jī)械擴(kuò)弓裝置力量衰減快，而且需要頻繁加力的技術(shù)問(wèn)題而言，經(jīng)過(guò)大量的檢索，查詢(xún)到專(zhuān)利號(hào)為cn218684763u的一種可復(fù)性無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)磁力擴(kuò)弓矯治器，包括第一包裹外殼和第二包裹外殼，第一包裹外殼的外側(cè)對(duì)稱(chēng)插接連接有第一推桿，第二包裹外殼的外側(cè)對(duì)稱(chēng)插接連接有第二推桿；該實(shí)用新型，通過(guò)設(shè)置有對(duì)應(yīng)的螺母與第一推桿或第二推桿的螺紋槽進(jìn)行螺紋連接，可實(shí)現(xiàn)該矯治器無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)限位實(shí)現(xiàn)擴(kuò)弓的可調(diào)，但是該專(zhuān)利所提供的技術(shù)方案存在以下問(wèn)題：

3、該種磁力擴(kuò)弓器操作繁復(fù)，需要反復(fù)調(diào)節(jié)推桿上的螺母，以達(dá)到磁力擴(kuò)弓效果，當(dāng)調(diào)節(jié)兩邊螺母不到位時(shí)，容易出現(xiàn)推桿長(zhǎng)短不一的情況。

4、本實(shí)用新型裝置不僅克服了傳統(tǒng)螺旋擴(kuò)弓器需要患者頻繁操作的缺點(diǎn)，同時(shí)通過(guò)重復(fù)加載設(shè)計(jì)，解決了以往磁力擴(kuò)弓矯治器矯治力隨著牙弓的擴(kuò)大，磁鐵間距的增加而急劇衰減的難題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型旨在于解決上述背景技術(shù)提出的技術(shù)問(wèn)題，提供一種磁力擴(kuò)弓器。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種磁力擴(kuò)弓器，包括：第一磁殼和第二磁殼，所述第一磁殼左右兩端固裝有第一接長(zhǎng)桿，所述第一磁殼內(nèi)嵌裝有第一磁體，所述第二磁殼左右兩端固裝有導(dǎo)桿，所述第二磁殼內(nèi)嵌裝有第二磁體；所述第二磁殼內(nèi)部設(shè)置有滑動(dòng)組件；所述第二磁殼后端設(shè)置有調(diào)節(jié)組件，所述調(diào)節(jié)組件包括限位塊、絲桿、調(diào)節(jié)螺母(11)、導(dǎo)向塊和第二接長(zhǎng)桿；所述第二磁殼后端面中部固裝有限位塊，所述限位塊后端面固裝有絲桿，所述絲桿尾端固裝有調(diào)節(jié)螺母，所述絲桿螺紋旋接有導(dǎo)向塊，所述導(dǎo)向塊左右兩側(cè)固裝有第二接長(zhǎng)桿，所述導(dǎo)桿貫穿所述導(dǎo)向塊。

3、進(jìn)一步的優(yōu)選方案：所述第一磁殼左右兩側(cè)端面縱截面為鉗形，所述第一磁殼上下端面中部開(kāi)設(shè)有長(zhǎng)條矩形和長(zhǎng)筒圓形組合槽，所述第一磁體縱截面呈倒工字型。

4、進(jìn)一步的優(yōu)選方案：所述第二磁殼左右兩側(cè)端面縱截面為鉗形，所述第二磁體縱截面呈倒工字型，所述第二磁殼殼體內(nèi)開(kāi)設(shè)有弧形框槽，所述第二磁殼后端面中部開(kāi)設(shè)有圓槽。

5、進(jìn)一步的優(yōu)選方案：所述滑動(dòng)組件包括：固定塊和導(dǎo)軌；

6、所述第二磁殼弧形框槽內(nèi)固裝有固定塊，所述第二磁體中部貫穿所述固定塊，所述固定塊上下兩端面連接有導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌貫穿所述第二磁殼前端面。

7、進(jìn)一步的優(yōu)選方案：所述導(dǎo)軌與所述固定塊一體成型，所述導(dǎo)軌可分為上下兩組，所述導(dǎo)軌上組尾端左側(cè)固裝有卡塊，所述導(dǎo)軌下組尾端右側(cè)固裝有卡塊。

8、進(jìn)一步的優(yōu)選方案：所述第一接長(zhǎng)桿后段與所述第二接長(zhǎng)桿前段非固定為直圓柱狀，皆設(shè)置有焊接部，可根據(jù)所需要的角度折彎焊接。

9、有益效果：

10、1.通過(guò)設(shè)置有長(zhǎng)條矩形和長(zhǎng)筒圓形組合槽，使導(dǎo)軌限制在第一磁殼上滑動(dòng)，同時(shí)組合槽中的長(zhǎng)條矩形槽可以觀察導(dǎo)軌在第一磁殼內(nèi)部移動(dòng)距離，從而使第一磁體和第二磁體相斥力始終保持在同一平面；

11、2.通過(guò)設(shè)置有弧形框槽，同時(shí)第二磁體貫穿固定塊，固定塊與導(dǎo)軌一體成型，使得固定塊牢牢固定在第二磁殼中，同時(shí)減少焊接點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)減輕擴(kuò)弓器重量的作用；

12、3.通過(guò)設(shè)置有調(diào)節(jié)組件，當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)節(jié)螺母，絲桿帶動(dòng)導(dǎo)向塊在導(dǎo)桿上移動(dòng)到所需要的位置，經(jīng)第一磁體與第二磁體同性相斥力作用下，使第二磁殼帶動(dòng)導(dǎo)軌在第一磁殼上移動(dòng)，達(dá)到打開(kāi)腭中縫、擴(kuò)大牙弓寬度，治療牙弓狹窄的效果；

13、4.綜上所述，該種磁力擴(kuò)弓器，通過(guò)設(shè)置有第一磁體、第二磁體、滑動(dòng)組件和調(diào)節(jié)組件等結(jié)構(gòu)，不僅克服了傳統(tǒng)螺旋擴(kuò)弓器需要患者頻繁操作的缺點(diǎn)，同時(shí)通過(guò)重復(fù)加載設(shè)計(jì)，解決了以往磁力擴(kuò)弓矯治器矯治力隨著牙弓的擴(kuò)大，磁鐵間距的增加而急劇衰減的難題。

技術(shù)特征：

1.一種磁力擴(kuò)弓器，包括：第一磁殼(1)和第二磁殼(4)，其特征在于：所述第一磁殼(1)左右兩端固裝有第一接長(zhǎng)桿(2)，所述第一磁殼(1)內(nèi)嵌裝有第一磁體(3)，所述第二磁殼(4)左右兩端固裝有導(dǎo)桿(9)，所述第二磁殼(4)內(nèi)嵌裝有第二磁體(5)；所述第二磁殼(4)內(nèi)部設(shè)置有滑動(dòng)組件；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁力擴(kuò)弓器，其特征在于：所述第一磁殼(1)左右兩側(cè)端面縱截面為鉗形，所述第一磁殼(1)上下端面中部開(kāi)設(shè)有長(zhǎng)條矩形和長(zhǎng)筒圓形組合槽，所述第一磁體(3)縱截面呈倒工字型。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁力擴(kuò)弓器，其特征在于：所述第二磁殼(4)左右兩側(cè)端面縱截面為鉗形，所述第二磁體(5)縱截面呈倒工字型，所述第二磁殼(4)殼體內(nèi)開(kāi)設(shè)有弧形框槽，所述第二磁殼(4)后端面中部開(kāi)設(shè)有圓槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁力擴(kuò)弓器，其特征在于：所述滑動(dòng)組件包括：固定塊(7)和導(dǎo)軌(8)；

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種磁力擴(kuò)弓器，其特征在于：所述導(dǎo)軌(8)與所述固定塊(7)一體成型，所述導(dǎo)軌(8)可分為上下兩組，所述導(dǎo)軌(8)上組尾端左側(cè)固裝有卡塊，所述導(dǎo)軌(8)下組尾端右側(cè)固裝有卡塊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5任一項(xiàng)所述的一種磁力擴(kuò)弓器，其特征在于：所述第一接長(zhǎng)桿(2)后段與所述第二接長(zhǎng)桿(13)前段非固定為直圓柱狀，皆設(shè)置有焊接部，可根據(jù)所需要的角度折彎焊接。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種磁力擴(kuò)弓器，包括第一磁殼和第二磁殼，第一磁殼左右兩端固裝有第一接長(zhǎng)桿，第一磁殼內(nèi)嵌裝有第一磁體，第二磁殼左右兩端固裝有導(dǎo)桿，第二磁殼內(nèi)嵌裝有第二磁體；第二磁殼內(nèi)部設(shè)置有滑動(dòng)組件；第二磁殼后端設(shè)置有調(diào)節(jié)組件。該種磁力擴(kuò)弓器，不僅克服了傳統(tǒng)螺旋擴(kuò)弓器需要患者頻繁操作的缺點(diǎn)，同時(shí)通過(guò)重復(fù)加載設(shè)計(jì)，解決了以往磁力擴(kuò)弓矯治器矯治力隨著牙弓的擴(kuò)大，磁鐵間距的增加而急劇衰減的難題作用。

技術(shù)研發(fā)人員：童菲,龍廣寧,李玉堯,劉汾,顏旖萌,陳怡
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南昌大學(xué)附屬口腔醫(yī)院（江西省口腔醫(yī)院）
技術(shù)研發(fā)日：20231121
技術(shù)公布日：2024/10/21