本技術涉及單晶硅,尤其涉及一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置。
背景技術:
1、直拉法是一種晶體生產方法,主要用于半導體、金屬、鹽、合成寶石等單晶材料,直拉法通常應用于晶錠、晶棒、單晶硅的生長。
2、在用直拉法制備單晶硅時,晶棒在收尾時由于存在拉料單晶。由于拉料單晶已無法正常使用,需與正常的可使用晶棒部分分開。因此,需將晶棒升至副室上限位后,旋開副室將晶棒尾部降至收集車內,敲掉尾部的拉料單晶后放入取棒車。
3、現有技術中,去除尾部拉料單晶的方法是拉晶員工使用長柄鎢錘進行人工敲擊,由于擊打過程中不能一擊掉落,需反復敲擊,但是反復敲擊過程中會對晶棒尾部造成內部隱裂,在晶棒截斷過程中無法一次識別隱裂長度,造成多次反切,成本增加及工時浪費。
技術實現思路
1、本實用新型提供一種降低單晶硅尾部裂紋的沖擊截斷裝置,用以解決現有技術中人工敲擊晶棒尾部,反復敲擊過程中會對晶棒尾部造成內部隱裂,在晶棒截斷過程中無法一次識別隱裂長度,造成多次反切,成本增加及工時浪費的缺陷,實現一次沖擊完成尾部拉料敲料工作,避免反復擊打,減少隱裂,提高成品率。
2、本實用新型提供一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,包括:
3、棒料收集車體,具有車斗;
4、環(huán)板,設置于所述棒料收集車體的頂部;
5、多個沖擊截斷機構,均勻設置于所述環(huán)板的側壁上,且所述沖擊截斷機構與晶棒尾部對準。
6、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,所述沖擊截斷機構包括四個,且每相鄰兩個所述沖擊截斷機構間隔90度。
7、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,所述沖擊截斷機構包括沖擊氣缸。
8、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,所述沖擊氣缸靠近所述晶棒尾部的端部設置為錐形結構。
9、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,還包括氣缸控制器,所述氣缸控制器與多個所述沖擊氣缸均連接。
10、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,四個所述沖擊氣缸形成的圓環(huán)直徑較所述晶棒尾部的直徑大于10mm。
11、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,還包括:
12、多個支撐桿,垂直水平面設置,所述支撐桿的一端與所述棒料收集車體連接,另一端與所述環(huán)板連接;且多個所述支撐桿均勻分布于所述棒料收集車體的外側壁的頂部。
13、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,還包括:
14、多個距離檢測裝置,分別設置于所述環(huán)板的內周側,所述距離檢測裝置用于檢測所述環(huán)板內周側與所述晶棒之間的距離。
15、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,所述環(huán)板呈圓環(huán)型。
16、根據本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,所述棒料收集車體的側壁上開設有出料口;所述棒料收集車體的底部設置有萬向輪組。
17、本實用新型提供的一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,通過棒料收集車體的車斗收集敲擊下來的棒料;沖擊截斷機構均勻設置于環(huán)板的側壁上,且沖擊截斷機構與晶棒尾部對齊,多個沖擊截斷機構同時在晶棒尾部同一平面的不同部位進行沖擊,均自晶棒尾部的外周側向其中心處沖擊,實現一次沖擊即可完成尾部拉料的敲料工作,能夠避免反復敲打,減少內部隱裂,提高成品率。
1.一種降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,所述沖擊截斷機構(3)包括四個,且每相鄰兩個所述沖擊截斷機構(3)間隔90度。
3.根據權利要求1所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,所述沖擊截斷機構(3)包括沖擊氣缸。
4.根據權利要求3所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,所述沖擊氣缸靠近所述晶棒尾部的端部設置為錐形結構。
5.根據權利要求3所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,還包括氣缸控制器,所述氣缸控制器與多個所述沖擊氣缸均連接。
6.根據權利要求3所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,四個所述沖擊氣缸形成的圓環(huán)直徑較所述晶棒尾部的直徑大于10mm。
7.根據權利要求1所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,還包括:
8.根據權利要求1所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,還包括:
9.根據權利要求1所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,所述環(huán)板(2)呈圓環(huán)型。
10.根據權利要求1所述的降低單晶硅棒尾部裂紋的沖擊截斷裝置,其特征在于,所述棒料收集車體(1)的側壁上開設有出料口(5);所述棒料收集車體(1)的底部設置有萬向輪組(6)。