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清潔模組、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:39705143發(fā)布日期:2024-10-22 12:49閱讀:2來源:國知局
清潔模組、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)的制作方法

本申請屬于清潔裝置,具體涉及一種清潔模組、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)。


背景技術(shù):

1、隨著科技的進步與社會的發(fā)展,用于清潔的清潔系統(tǒng)逐漸進入了人們的生活。清潔系統(tǒng)包括滾刷,在清潔系統(tǒng)工作時,滾刷通過旋轉(zhuǎn),以進行清潔,可以降低了人們的負擔(dān),為人們的生活帶來便利。

2、為了避免滾刷的滾刷軸上纏繞上毛發(fā)、絲線等纏繞物影響滾刷的轉(zhuǎn)動,會采用切割件切割纏繞物。但是,在現(xiàn)有技術(shù)中,切割后的纏繞物易堆積在殼體內(nèi),不便于清理,影響用戶使用體驗。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為解決目前切割后的纏繞物易堆積在殼體內(nèi),不便于清理,影響用戶使用體驗的技術(shù)問題,本申請?zhí)峁┮环N清潔模組、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)。

2、在本申請的第一方面,提供一種清潔模組,包括:殼體,具有容納腔;滾刷,可轉(zhuǎn)動式地設(shè)于所述容納腔內(nèi),所述滾刷的端部設(shè)有滾刷軸;切割件,設(shè)于所述容納腔內(nèi),用于切割所述滾刷軸上的纏繞物;反彈件,設(shè)于所述容納腔內(nèi),用于反彈切割后的所述纏繞物;其中,所述滾刷軸在所述殼體上的投影至少部分與所述反彈件重疊。

3、在一些實施方式中,所述反彈件相對于所述滾刷軸的軸線傾斜設(shè)置。

4、在一些實施方式中,所述反彈件的傾斜方向與所述滾刷的轉(zhuǎn)動方向相同。

5、在一些實施方式中,所述反彈件與所述滾刷軸的軸線的夾角為銳角。

6、在一些實施方式中,所述殼體包括第二殼體和與所述第二殼體連接的第一殼體,所述反彈件包括多個反彈部,多個所述反彈部設(shè)于所述第二殼體和所述第一殼體中至少一個。

7、在一些實施方式中,多個所述反彈部環(huán)設(shè)于所述滾刷軸的周面。

8、在一些實施方式中,多個所述反彈部并列間隔設(shè)置。

9、在一些實施方式中,多個所述反彈部中至少一個設(shè)于所述滾刷軸的上方,多個所述反彈部中至少一個設(shè)于所述滾刷軸的下方。

10、在一些實施方式中,所述殼體設(shè)置有切割座,所述切割件設(shè)于所述切割座上。

11、在一些實施方式中,所述滾刷的數(shù)目為一個或多個,在所述滾刷的數(shù)目為多個時,多個所述滾刷并列間隔設(shè)置。

12、在本申請的第二方面,提供一種清潔設(shè)備,包括所述的清潔模組。

13、在本申請的第三方面,提供一種清潔系統(tǒng),包括清潔基站和所述的清潔設(shè)備。

14、根據(jù)本申請一個或多個實施例提供的清潔模組,在切割件切割滾刷軸上的纏繞物后,纏繞物因長度不夠不能繼續(xù)纏繞滾刷,在滾刷轉(zhuǎn)動的過程中,被切割后的纏繞物在離心力的作用下會被甩至反彈件上,通過反彈件反彈切割后的纏繞物,使得切割后的纏繞物易被吸入塵盒,避免切割后的纏繞物堆積在殼體內(nèi),方便用戶對清潔模組進行清理,提高用戶使用體驗。



技術(shù)特征:

1.一種清潔模組(1000),其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔模組(1000),其特征在于,所述反彈件(50)相對于所述滾刷軸(2021)的軸線傾斜設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔模組(1000),其特征在于,所述反彈件(50)的傾斜方向與所述滾刷(201)的轉(zhuǎn)動方向相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔模組(1000),其特征在于,所述反彈件(50)與所述滾刷軸(2021)的軸線的夾角為銳角。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的清潔模組(1000),其特征在于,所述殼體(10)包括第二殼體(102)和與所述第二殼體(102)連接的第一殼體(101),所述反彈件(50)包括多個反彈部(501),多個所述反彈部(501)設(shè)于所述第二殼體(102)和所述第一殼體(101)中至少一個。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔模組(1000),其特征在于,多個所述反彈部(501)環(huán)設(shè)于所述滾刷軸(2021)的周面。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔模組(1000),其特征在于,多個所述反彈部(501)并列間隔設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔模組(1000),其特征在于,多個所述反彈部(501)中至少一個設(shè)于所述滾刷軸(2021)的上方,多個所述反彈部(501)中至少一個設(shè)于所述滾刷軸(2021)的下方。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的清潔模組(1000),其特征在于,所述殼體(10)內(nèi)設(shè)置有切割座(301),所述切割件(302)設(shè)于所述切割座(301)上。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的清潔模組(1000),其特征在于,所述滾刷(201)的數(shù)目為一個或多個,在所述滾刷(201)的數(shù)目為多個時,多個所述滾刷(201)并列間隔設(shè)置。

11.一種清潔設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-10任一項所述的清潔模組(1000)。

12.一種清潔系統(tǒng),其特征在于,包括清潔基站和如權(quán)利要求11所述的清潔設(shè)備。


技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種清潔模組、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)。清潔模組(1000)包括:殼體(10),具有容納腔;滾刷(201),可轉(zhuǎn)動式地設(shè)于所述容納腔(103)內(nèi),所述滾刷(201)的端部設(shè)有滾刷軸(2021);切割件(302),設(shè)于所述容納腔(103)內(nèi),用于切割所述滾刷軸(2021)上的纏繞物;反彈件(50),設(shè)于所述容納腔(103)內(nèi),用于反彈切割后的所述纏繞物。

技術(shù)研發(fā)人員:周志威
受保護的技術(shù)使用者:北京石頭世紀科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240105
技術(shù)公布日:2024/10/21
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