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擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):2812642閱讀:529來源:國知局
專利名稱:擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型一種擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)改良,尤指一種可應(yīng)用于背光模塊的擴(kuò)散結(jié)構(gòu),且不需再形成另 一 防密著(Anti-sticky) 層,而同時(shí)具有光擴(kuò)散以及防密著(Anti-sticky)效果的擴(kuò)散結(jié) 構(gòu)改良。
背景技術(shù)
一種習(xí)知的光擴(kuò)散結(jié)構(gòu)于透明基板的上表面形成一具粗糙度的表 面結(jié)構(gòu),使光線通過時(shí)造成散射現(xiàn)象,進(jìn)而達(dá)到光線擴(kuò)散的功能。另 一習(xí)知光擴(kuò)散結(jié)構(gòu)IO,如圖l所示,于透明基板ll的上表面設(shè)置一擴(kuò)散 層12,該擴(kuò)散層12包括多個(gè)擴(kuò)散粒子121及黏著物122,該等擴(kuò)散粒子 121可埋入教著物122或凸出于黏著物,以形成一具粗糙度的表面,光 線經(jīng)由該擴(kuò)散層12向外射出時(shí),即可造成光線擴(kuò)散的功能,其中該擴(kuò) 散粒子為透明的自然成型的球狀物,依據(jù)透鏡原理,于聚焦后,亦可 將光線予以擴(kuò)散。而該光擴(kuò)散結(jié)構(gòu)欲組裝于背光模塊中時(shí),因需要與其它光學(xué)膜片 相互疊置,但為了防止各光學(xué)膜片(包含光擴(kuò)散結(jié)構(gòu))間因?yàn)殪o電而相互 接觸甚至密合,而造成畫面不均勻的情形發(fā)生, 一般多會(huì)于光學(xué)膜片 表面另外設(shè)置有一可防密著的結(jié)構(gòu),如中國臺(tái)灣專利公開號(hào)第 200724578號(hào)公告號(hào)第M313790號(hào)以及公告號(hào)第M295745號(hào)中所揭示的 抗靜電層,而如圖l所示中,則在透明基板ll下表面再形成一防密著結(jié) 構(gòu)(例如抗靜電層13),以防止光擴(kuò)散結(jié)構(gòu)與其它光學(xué)膜片密合在一起; 惟,另外增設(shè)的抗靜電層增加了加工程序及時(shí)間,不僅增加了加工成 本,且該抗靜電層亦增加了整體光擴(kuò)散結(jié)構(gòu)10的厚度。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型,其主要目的為提供一種可應(yīng)用于背光模塊的擴(kuò)散結(jié)構(gòu),且不需再形成另一防密著(Anti-sticky)層,而同時(shí)具有光擴(kuò)散以及 防密著(Anti-sticky)效果的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)改良。為達(dá)上述目的,本實(shí)用新型的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)主要包含有一基材層,該 基材層設(shè)有復(fù)數(shù)突出表面的粒子,使該基材層的表面形成凹凸表面, 使光線經(jīng)由復(fù)數(shù)粒子可具有光擴(kuò)散的效果,且該擴(kuò)散結(jié)構(gòu)組裝于背光 才莫塊中時(shí),可由該凹凸表面與其它膜片間形成間隙,可防止與其它膜 片接觸甚至密合,以達(dá)到防密著(Anti-sticky)的效果。本實(shí)用新型進(jìn)一步可于該基材表面設(shè)有復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元,使該 基材層以及各擴(kuò)散聚光單元的表面形成凹凸表面,令光線經(jīng)由各擴(kuò)散 聚光單元可進(jìn)一步達(dá)到光線聚光的效果。本實(shí)用新型的有益效果為本實(shí)用新型的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)藉由基材層表 面所設(shè)置的粒子,不需再形成另一防密著(Anti-sticky)層,而具有防密 著(Anti-sticky)的效果,以防止靜電吸附作用,而造成畫面不均勻情形 產(chǎn)生,且本實(shí)用新型基材層表面所設(shè)置的各擴(kuò)散聚光單元以及粒子, 更可將通過的光線形成擴(kuò)散及聚光的效果。


圖1為習(xí)有擴(kuò)散片的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖2為本實(shí)用新型中第一 實(shí)施例擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖3為本實(shí)用新型中第二實(shí)施例擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖4為本實(shí)用新型中第二實(shí)施例擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)立體圖; 圖5為本實(shí)用新型中第二實(shí)施例擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的另一結(jié)構(gòu)示意圖; 圖6為本實(shí)用新型中第二實(shí)施例擴(kuò)散聚光單元的放大示意圖; 圖7A、 B為本實(shí)用新型中第三實(shí)施例擴(kuò)散聚光單元的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖8為本實(shí)用新型中第四實(shí)施例擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)立體圖; 圖9為本實(shí)用新型中第五實(shí)施例擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)立體圖; 圖10為本實(shí)用新型中擴(kuò)散結(jié)構(gòu)裝設(shè)于側(cè)光式背光模塊的基本結(jié)構(gòu) 示意圖;圖ll為本實(shí)用新型中擴(kuò)散結(jié)構(gòu)裝設(shè)于直下式背光模塊的基本結(jié)構(gòu)示意圖;圖12為A、 B本實(shí)用新型中溝槽的另一結(jié)構(gòu)立體圖。圖號(hào)說明光擴(kuò)散結(jié)構(gòu)IO透明基板ll擴(kuò)散層12擴(kuò)散粒子121l占著物122抗靜電層13擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20基材層21側(cè)面211底面212出光面213弧形面221溝槽222平面223弧面224粒子23光源裝置31載具32導(dǎo)光板33反射片34擴(kuò)散板35保護(hù)片3具體實(shí)施方式
為了讓本實(shí)用新型的上述的目的、功能特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明確被 了解,下文將本實(shí)用新型以較佳的實(shí)例,并配合所附圖式,作詳細(xì)說明如下請(qǐng)參照?qǐng)D2,本實(shí)用新型第一實(shí)施例的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20主要包含有一基 材層21,該基材層21為透明或半透明材質(zhì),該基材21表面設(shè)有復(fù)數(shù)粒 子23,各粒子23的形狀近似球狀,而各粒子23突出于該基材層21的表 面,使該基材層21的表面形成凹凸表面。如圖3及圖4所示為本實(shí)用新型擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20的第二實(shí)施例,該基材 層21上表面進(jìn)一步設(shè)有復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元,如圖所示的實(shí)施例中,各 擴(kuò)散聚光單元具有一弧形面221,而該基材層21至少包括有側(cè)面211、 一與該側(cè)面211相交的底面212以及一與該底面212相對(duì)的出光面213, 而該側(cè)面211設(shè)有光源裝置31形成入光,而各弧形面221設(shè)于出光面213上,且各弧形面221突出于基材層21,請(qǐng)同時(shí)參閱圖5及圖6所示,該弧 形面221具有一長(zhǎng)軸L及一短軸W,該長(zhǎng)軸L與短軸W的長(zhǎng)度成一比例, 其W:L的比例可為1 : l至l: 較佳的比例為l: 1 1: 5之間,長(zhǎng)軸方 向約為同一方向交互平行,各相鄰的弧形面221的長(zhǎng)軸與短軸則可任意 比例,并以隨機(jī)方式排列,短軸W長(zhǎng)度較佳可為20 80jum;以藉由弧 形面221的長(zhǎng)軸方向與短軸方向折射程度不同,可控制長(zhǎng)、短軸的比例, 使其一軸向的光線具有聚光功能,另一軸向的光線則具有擴(kuò)散功能; 當(dāng)然,各弧形面221亦可凹入基材層2l設(shè)置,如圖7A所示的第三實(shí)施例; 再者,各擴(kuò)散聚光單元具有至少一弧形面,如圖7B所示,該擴(kuò)散聚光 單元可具有二個(gè)部分重疊的弧形面221。如圖8所示,為本實(shí)用新型擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20的第四實(shí)施例,各擴(kuò)散聚光 單元具有一溝槽222,如圖所示的實(shí)施中,該溝槽222可以為V型溝槽, 且該溝槽222設(shè)于出光面213且突出基材層21的表面,而各溝槽222與光 源裝置31呈平行方向排列,且各溝槽222為連續(xù)式排列;當(dāng)然,各溝槽 亦可與光源裝置呈垂直方向排列。如圖9所示,為本實(shí)用新型擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20的第五實(shí)施例,該溝槽222 可以為V型或U型溝槽并分別設(shè)于底面212以及出光面213,且該底面 212的復(fù)數(shù)溝槽222突出基材層21的表面,且與光源裝置31呈垂直方向 排列,該出光面213的復(fù)數(shù)溝槽222凹入基材層21的表面,且與光源裝 置31呈平行方向排列,而各溝槽222間具有相同的間距。具體實(shí)施時(shí),可將本實(shí)用新型的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)裝設(shè)于直下式或者是側(cè) 光式的背光模塊架構(gòu)中,如圖10所示,即為本實(shí)用新型的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)裝 設(shè)于側(cè)光式背光模塊的基本結(jié)構(gòu)示意圖,其主要在一載具32中設(shè)置光 源裝置31以及復(fù)數(shù)光學(xué)膜片,該復(fù)數(shù)光學(xué)膜片可至少由擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20以 及導(dǎo)光板33所構(gòu)成,而該導(dǎo)光板33的板端套設(shè)在載具32的開口處,其 光源裝置31并設(shè)置于載具32的側(cè)邊,該擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20設(shè)于導(dǎo)光板33上方, 以讓光源裝置31的光線自板端射入導(dǎo)光板33并且朝向?qū)Ч獍?3預(yù)期的 板面射出,以達(dá)到光源顯示的效果,且該擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20上、下表面由各 粒子23所形成的凹凸表面,使該擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20疊置于導(dǎo)光板33上方時(shí),各粒子23會(huì)與導(dǎo)光板33上表面形成復(fù)數(shù)間隙G,以防止該擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20 與導(dǎo)光板33接觸甚至密合,以達(dá)到防密著(Anti-sticky)的效果,且基材 層21表面所設(shè)置的各擴(kuò)散聚光單元亦可使光線具有光擴(kuò)散及聚光的效 果,如圖所示的實(shí)施例中,各擴(kuò)散聚光單元可以為U型或V型溝槽并分 別設(shè)于底面212以及出光面213,且該底面212的復(fù)數(shù)溝槽222凹入基材 層21的表面,且與光源裝置31呈平行方向排列,該出光面213的復(fù)數(shù)溝 槽222突出基材層21的表面,且與光源裝置31呈垂直方向排列,而各溝 槽222間具有不同的間距。如圖11所示,即為本實(shí)用新型的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)裝設(shè)于直下式背光模塊 的基本結(jié)構(gòu)示意圖,其主要在一載具32上方設(shè)置光源裝置31以及光學(xué) 膜片,該光學(xué)膜片可由反射片34、擴(kuò)散板35、擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20以及保護(hù)片 36所構(gòu)成,而該擴(kuò)散板35設(shè)置于光源裝置32上方,而擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20以及 保護(hù)片36則依序設(shè)于擴(kuò)散板35上方,其反射片34則設(shè)于載具32與光源 裝置31之間,同樣藉由擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20上、下表面的各粒子23,與其它光 學(xué)膜片(包含擴(kuò)散板35以及保護(hù)片36)表面形成復(fù)數(shù)間隙G,以防止該擴(kuò) 散結(jié)構(gòu)20與其它光學(xué)膜片接觸甚至密合,以達(dá)到防密著(Anti-sticky)的 效果,且該粒子23以及基材層21表面所設(shè)置的各擴(kuò)散聚光單元,可使 光線具有光擴(kuò)散及聚光的效果,如圖所示的實(shí)施例中,各擴(kuò)散聚光單 元可以為V型溝槽并分別設(shè)于底面212以及出光面213,且該底面212的 復(fù)數(shù)溝槽222突出基材層21的表面,且與光源裝置31呈垂直方向排列, 該出光面213的復(fù)數(shù)溝槽222突出基材層21的表面,且與光源裝置31呈 平4亍方向才非列。另外,該擴(kuò)散結(jié)構(gòu)20的復(fù)數(shù)V型溝槽222底部可進(jìn)一步形成平面 223,如圖12A所示,或者形成弧面224,如圖12B所示,使復(fù)數(shù)V型溝 槽222與其它光學(xué)膜片(例如擴(kuò)散板35或保護(hù)片36)的接觸,不會(huì)因尖銳 的溝槽疼部而傷害其它光學(xué)膜片。值得一提的是,本實(shí)用新型的擴(kuò)散結(jié)構(gòu)藉由基材層表面所設(shè)置的 粒子,不需再形成另一防密著(Anti-Sticky)層,而具有防密著(Anti-sticky) 的效果,以防止靜電吸附作用,而造成畫面不均勻情形產(chǎn)生,且本實(shí)8用新型基材層表面所設(shè)置的各擴(kuò)散聚光單元以及粒子,更可將通過的 光線形成擴(kuò)散及聚光的效果。如上所述,本實(shí)用新型較佳可行擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的改良,于是依法提呈新型專利的申請(qǐng);然而,以上的實(shí)施說明及圖式所示,是本實(shí)用新型 較佳實(shí)施例,并非以此局限本實(shí)用新型,是以,舉凡與本實(shí)用新型的 構(gòu)造、裝置、特征等近似、雷同的,均應(yīng)屬本實(shí)用新型的創(chuàng)設(shè)目的及 申請(qǐng)專利范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,其至少包含有一基材層;復(fù)數(shù)粒子,復(fù)數(shù)粒子設(shè)于該基材層的表面,各粒子突出于該基材層的表面,使該基材層的表面形成凹凸表面。
2、 如權(quán)利要求1所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,該基材層表面進(jìn) 一步設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)擴(kuò)散聚光單元。
3、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,各擴(kuò)散聚光單元 具有至少一弧形面,該弧形面具有一長(zhǎng)軸及一短軸。
4、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,各擴(kuò)散聚光單元 具有一溝槽。
5、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,各擴(kuò)散聚光單元 突出或凹入基材層。
6、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,各擴(kuò)散聚光單元 間具有間距;或者各擴(kuò)散聚光單元為連續(xù)式排列。
7、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,該基材層至少包 括有側(cè)面、 一與該側(cè)面相交的底面以及一與該底面相對(duì)的出光面,而 該側(cè)面設(shè)有形成入光的光源裝置,各擴(kuò)散聚光單元設(shè)于底面,而各擴(kuò) 散聚光單元與光源裝置呈平行方向或垂直方向排列;或者各擴(kuò)散聚光 單元設(shè)于出光面,而各擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈平行方向或垂直方 向排列。
8、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,該基材層至少包 括有側(cè)面、 一與該側(cè)面相交的底面以及一與該底面相對(duì)的出光面,而 該側(cè)面設(shè)有形成入光的光源裝置,各擴(kuò)散聚光單元設(shè)于底面以及出光 面,該底面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈平行方向排列,而出光 面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈垂直方向排列;或者各擴(kuò)散聚光 單元設(shè)于底面以及出光面,該底面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈 垂直方向排.列,而出光面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈平行方向 排列。
9、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,該基材層至少包 括有底面以及一與該底面相對(duì)的出光面,而該底面i殳有形成入光的光 源裝置,各擴(kuò)散聚光單元設(shè)于底面,而各擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈 平行方向或垂直方向排列;或者各擴(kuò)散聚光單元設(shè)于出光面,而各擴(kuò) 散聚光單元與光源裝置呈平行方向或垂直方向排列。
10、 如權(quán)利要求2所述擴(kuò)散結(jié)構(gòu),其特征在于,該基材層至少包 括有底面以及一與該底面相對(duì)的出光面,而該底面設(shè)有形成入光的光 源裝置,各擴(kuò)散聚光單元設(shè)于底面以及出光面,該底面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚 光單元與光源裝置呈平行方向排列,而出光面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元與 光源裝置呈垂直方向排列;或者各擴(kuò)散聚光單元設(shè)于底面以及出光 面,該底面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈垂直方向排列,而出光 面的復(fù)數(shù)擴(kuò)散聚光單元與光源裝置呈平行方向排列。
專利摘要本實(shí)用新型擴(kuò)散結(jié)構(gòu)主要包含有一基材層,該基材層設(shè)有復(fù)數(shù)突出表面的粒子,使該基材層的表面形成凹凸表面,使光線經(jīng)由復(fù)數(shù)粒子可具有光擴(kuò)散的效果,且該擴(kuò)散結(jié)構(gòu)組裝于背光模塊中時(shí),可由該凹凸表面與其它膜片間形成間隙,可防止與其它膜片接觸甚至密合,以達(dá)到防密著(Anti-sticky)的效果。
文檔編號(hào)G02F1/13GK201166714SQ200820002808
公開日2008年12月17日 申請(qǐng)日期2008年2月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月21日
發(fā)明者馬景泉 申請(qǐng)人:宣茂科技股份有限公司
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