專利名稱：一種改進(jìn)的陰極光刻版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種改進(jìn)的陰極光刻版。
背景技術(shù)：
目前，雙向電流可控硅已經(jīng)廣泛應(yīng)用于各類家電(如電風(fēng)扇、調(diào)光燈、空調(diào)、洗衣機(jī)、彩燈控制器等)和電動(dòng)工具等。雙向可控硅可導(dǎo)通在I、III兩個(gè)象限。有四種導(dǎo)通狀 態(tài)，分別為I+、Γ、ΙΙΓ、III+，其對應(yīng)的觸發(fā)電流為ICT1、Igt2> IGT3> Igt4O 一般情況下，用雙向 可控硅兩個(gè)觸發(fā)態(tài)，即I+、ΙΙΓ或Γ、ΙΙΓ，特殊情況會用到I+、III+o為了保證雙向可控硅 的導(dǎo)通性能，要使其四個(gè)導(dǎo)通狀態(tài)的觸發(fā)電流ICT1、IGT2> IGT3> Ict4要盡可能的接近。四個(gè)導(dǎo) 通狀態(tài)的觸發(fā)電流越接近，應(yīng)用面越廣，通用性越強(qiáng)。正常雙向可控硅的四種觸發(fā)電流中， Igti ( Igt2 ( Igt3 ( IGT4。如果Igti與Igt4偏差較大，則Igti過小易誤觸發(fā)，而Igt4又過大而 無法觸發(fā)。四個(gè)象限觸發(fā)電流均適中的可控硅是最受市場歡迎的。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種改進(jìn)的陰極光刻版。本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種改進(jìn)的陰極光刻版，包括正面陰極版和背面陰極版，所述正面陰極版在光刻 可控硅片后產(chǎn)生的圖形與背面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的圖形在俯視情況下形成有 交疊區(qū)，所述交疊區(qū)呈鉤狀。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是能使可控硅四象限觸發(fā)電流一致性得到明顯提高。
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型另一種結(jié)構(gòu)的示意圖。其中1、正面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的圖形，2、背面陰極版在光刻可控硅 片后產(chǎn)生的圖形，3、交疊區(qū)。
具體實(shí)施方式
如圖1和2所示，本實(shí)用新型的一種改進(jìn)的陰極光刻版，包括正面陰極版和背面陰 極版，正面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的圖形1與背面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的 圖形2在俯視情況下形成有交疊區(qū)3，交疊區(qū)3呈鉤狀。
權(quán)利要求一種改進(jìn)的陰極光刻版，包括正面陰極版和背面陰極版，其特征是所述正面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的圖形與背面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的圖形在俯視情況下形成有交疊區(qū)，所述交疊區(qū)呈鉤狀。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種改進(jìn)的陰極光刻版，包括正面陰極版和背面陰極版，其特征是所述正面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的圖形與背面陰極版在光刻可控硅片后產(chǎn)生的圖形在俯視情況下形成有交疊區(qū)，所述交疊區(qū)呈鉤狀。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是能使可控硅四象限觸發(fā)電流一致性得到明顯提高。
文檔編號G03F1/00GK201765432SQ20102024085
公開日2011年3月16日 申請日期2010年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月28日
發(fā)明者周健, 朱法揚(yáng), 耿開遠(yuǎn) 申請人:啟東吉萊電子有限公司