本發(fā)明涉及轉(zhuǎn)印用掩模及顯示裝置的制造方法。

背景技術(shù)：

1、在專利文獻(xiàn)1中公開了一種顯示裝置制造用的光掩模，其為了通過曝光在被轉(zhuǎn)印體上形成具有多個(gè)不同的殘膜值的抗蝕劑圖案，而具有包含透光部、遮光部和半透光部的轉(zhuǎn)印用圖案。在該光掩模中，透光部是透明基板露出而形成的，遮光部具有：完全遮光部，其在透明基板上至少形成有遮光膜；以及寬度為γ的邊沿部，其形成為與完全遮光部的外緣相接，通過在透明基板上形成半透光性的邊沿形成膜而形成。半透光部被遮光部夾持，透明基板以規(guī)定寬度α露出。寬度α被設(shè)定為使半透光部的曝光光透射率小于透光部的曝光光透射率。邊沿形成膜對(duì)于曝光光的代表波長的光的透射率tr為5～60(％)，且對(duì)于代表波長的光的相移量為90度以下。

2、另外，在專利文獻(xiàn)2中記載了一種有機(jī)el顯示裝置，其是在顯示區(qū)域呈矩陣狀配置有像素的有機(jī)el顯示裝置，其特征在于，包括：配置于各像素的有機(jī)el層；包圍有機(jī)el層的邊緣并配置于相鄰的像素間的分離層；通過覆蓋顯示區(qū)域的整個(gè)面來密封有機(jī)el層的樹脂層；和包圍樹脂層的邊緣的框狀堤層，分離層的錐角度與框狀堤層的錐角度不同。

3、[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]

4、[專利文獻(xiàn)]

5、[專利文獻(xiàn)1]日本特開2020-140207號(hào)公報(bào)

6、[專利文獻(xiàn)2]國際公開第2018/061195號(hào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、[發(fā)明所要解決的問題]

2、大量開發(fā)了在智能手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)等具有薄型顯示器的顯示裝置中使用有機(jī)電致發(fā)光(有機(jī)el)顯示裝置的產(chǎn)品。通常，在有機(jī)el顯示裝置中，為了對(duì)發(fā)光元件的像素間進(jìn)行分割，形成稱為像素分割層(pdl：pixel?defining?layer)的絕緣層。

3、本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的目的在于，提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)位于開口部和柱狀部各自的周圍的傾斜部的傾斜角小的pdl的轉(zhuǎn)印用掩模。

4、[用于解決問題的手段]

5、本發(fā)明的第一方式是一種轉(zhuǎn)印用掩模，其在透光性基板上具備包含透光部、第一透射部、第二透射部以及遮光部的轉(zhuǎn)印用圖案，其特征在于，所述透光部具有所述透光性基板露出的孔形狀，所述第一透射部沿著所述透光部的外周呈環(huán)狀地設(shè)置，所述第二透射部以與所述第一透射部的外周相接的方式設(shè)置，所述第一透射部對(duì)曝光光的透射率t1比所述第二透射部對(duì)所述曝光光的透射率t2高，所述遮光部與所述第二透射部相鄰地設(shè)置，所述遮光部具備：主圖案；副圖案，其設(shè)置于所述主圖案的外周的至少一部分，具有不被解像的線寬；以及狹縫圖案，其設(shè)置于所述主圖案與所述副圖案之間，具有不被解像的線寬。

6、本發(fā)明的第二方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述透射率t1與所述透射率t2之差δt為10％以上。

7、本發(fā)明的第三方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述透射率t1為20％以上。

8、本發(fā)明的第四方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述透射率t2為10％以上。

9、本發(fā)明的第五方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述主圖案以及所述副圖案對(duì)于所述曝光光的光學(xué)濃度大于2.0。

10、本發(fā)明的第六方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，透過所述第一透射部的所述曝光光與透過所述透光部的所述曝光光的相位差的絕對(duì)值為90度以下，透過所述第二透射部的所述曝光光與透過所述透光部的所述曝光光的相位差的絕對(duì)值為90度以下，透過所述第一透射部的所述曝光光與透過所述第二透射部的所述曝光光的相位差的絕對(duì)值為90度以下。

11、本發(fā)明的第七方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述曝光光包含313nm以上且436nm以下的波長的光。

12、本發(fā)明的第八方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述第一透射部由設(shè)置在所述透光性基板上的第一半透射膜構(gòu)成，所述第二透射部是在所述透光性基板上按照不同順序?qū)盈B所述第一半透射膜和第二半透射膜而成的，所述主圖案和所述副圖案是在所述透光性基板上按照不同順序?qū)盈B所述第一半透射膜、所述第二半透射膜和遮光膜而成的。

13、本發(fā)明的第九方式根據(jù)上述第一方式所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述第二半透射膜由與所述第一半透射膜以及所述遮光膜之間相互具有蝕刻選擇性的材料構(gòu)成。

14、本發(fā)明的第十方式是一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，具有如下工序：準(zhǔn)備上述第一至上述第九方式中的任意一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印用掩模的工序；在基板上形成對(duì)所述曝光光感光的感光性樹脂膜的工序；使用曝光裝置向所述感光性樹脂膜照射透過了所述轉(zhuǎn)印用掩模的所述曝光光，對(duì)所述轉(zhuǎn)印用圖案進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印的工序；以及對(duì)所述曝光轉(zhuǎn)印后的所述感光性樹脂膜進(jìn)行顯影處理的工序。

15、本發(fā)明的第十一方式根據(jù)上述第十方式所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述顯影處理后的所述感光性樹脂膜形成開口部和柱狀部，在所述曝光轉(zhuǎn)印的工序中，以在所述開口部的周圍形成截面的傾斜角為30度以下的傾斜部且在所述柱狀部的周圍形成截面的傾斜角為30度以下的傾斜部的方式，對(duì)所述轉(zhuǎn)印用圖案進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印。

16、[發(fā)明效果]

17、根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式，能夠提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)開口部及柱狀部的周圍的傾斜角小的pdl的轉(zhuǎn)印用掩模。

技術(shù)特征：

1.一種轉(zhuǎn)印用掩模，其在透光性基板上具備包含透光部、第一透射部、第二透射部以及遮光部的轉(zhuǎn)印用圖案，其特征在于，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述透射率t1與所述透射率t2之差δt為10％以上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述透射率t1為20％以上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述透射率t2為10％以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述主圖案及所述副圖案對(duì)于所述曝光光的光學(xué)濃度大于2.0。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，透過所述第一透射部的所述曝光光與透過所述透光部的所述曝光光的相位差的絕對(duì)值為90度以下，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述曝光光包含313nm以上且436nm以下的波長的光。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述第一透射部由設(shè)置在所述透光性基板上的第一半透射膜構(gòu)成，

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的轉(zhuǎn)印用掩模，其特征在于，所述第二半透射膜由與所述第一半透射膜以及所述遮光膜之間相互具有蝕刻選擇性的材料構(gòu)成。

10.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，具有如下工序：

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述顯影處理后的所述感光性樹脂膜形成開口部和柱狀部，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供轉(zhuǎn)印用掩模及顯示裝置的制造方法。能夠?qū)崿F(xiàn)位于開口部及柱狀部各自的周圍的傾斜部的傾斜角小的PDL。轉(zhuǎn)印用掩模在透光性基板上具有轉(zhuǎn)印用圖案，該轉(zhuǎn)印用圖案包含透光部、第一透射部、第二透射部和遮光部，其特征在于，透光部具有使透光性基板露出的孔形狀，第一透射部沿著透光部的外周呈環(huán)狀地設(shè)置，第二透射部以與第一透射部的外周相接的方式設(shè)置，第一透射部對(duì)曝光光的透射率(T1)比第二透射部對(duì)曝光光的透射率(T2)高，遮光部與第二透射部相鄰地設(shè)置，遮光部具有：主圖案；副圖案，其設(shè)置于主圖案的外周的至少一部分，具有不被解像的線寬；狹縫圖案，其設(shè)置于主圖案與副圖案之間，具有不被解像的線寬。

技術(shù)研發(fā)人員：橋本憲尚,今敷修久
受保護(hù)的技術(shù)使用者：豪雅株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21