本發(fā)明涉及一種多層膜的成膜方法。

背景技術(shù)：

1、多層膜是將多個膜層疊而成的膜。將構(gòu)成多層膜的各膜稱為各層。多層膜是在基材上依次形成各層而制造的。在形成多層膜時，不一定能夠?qū)⒏鲗邮冀K以目標(biāo)膜厚形成。因此，一邊調(diào)整各層的成膜參數(shù)來修正各層的厚度一邊進行成膜。例如，在專利文獻1(日本特開2006-71402)中公開了一種利用成膜完成后的多層膜的光學(xué)特性來修正各層的成膜參數(shù)的方法。

2、在專利文獻1中，在縱長膜上依次形成第一tio2膜、第一sio2膜、第二tio2膜、第二sio2膜這四層。然后，利用成膜完成后的多層膜的反射光的色相來估計第一tio2膜、第一sio2膜、第二tio2膜、第二sio2膜的膜厚，并求出各層的厚度的修正值。接著，根據(jù)各層的厚度的修正值來進行成膜參數(shù)的變更。

3、專利文獻1：日本特開2006-71402號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、本發(fā)明的目的在于，在將構(gòu)成多層膜的各層隔開時間間隔地逐層地進行層疊的多層膜的成膜方法中，實現(xiàn)不浪費材料和時間的各層的膜厚修正。

3、用于解決問題的方案

4、(1)本發(fā)明的多層膜的成膜方法是將構(gòu)成多層膜的各層隔開時間間隔地逐層地進行層疊的多層膜的成膜方法。本發(fā)明的多層膜的成膜方法包括以下步驟。設(shè)定各層的膜厚的目標(biāo)值(目標(biāo)膜厚值)。求出所形成的多層膜的各層的估計膜厚(估計膜厚值)。求出各層的成膜參數(shù)變更量，該各層的成膜參數(shù)變更量用于使各層的目標(biāo)膜厚值與估計膜厚值之差最小化。隔開時間間隔地將實際的成膜中使用的各層的成膜參數(shù)依次變更與各層的成膜參數(shù)變更量相應(yīng)的量。

5、(2)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，在求多層膜的估計膜厚值時，使用多層膜的光譜反射率。

6、(3)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，在求多層膜的估計膜厚值時，使用多層膜的反射光的色相。

7、(4)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，利用濺射裝置來形成構(gòu)成多層膜的各層。

8、(5)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，成膜參數(shù)為濺射氣體的流量、反應(yīng)性氣體的流量以及濺射電力中的一個以上的參數(shù)。

9、(6)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，利用等離子體發(fā)射監(jiān)測(pem)控制系統(tǒng)或阻抗控制系統(tǒng)來對濺射氣體的流量、反應(yīng)性氣體的流量以及濺射電力中的一個以上的參數(shù)進行反饋控制。

10、(7)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，多層膜被形成于縱長的基材膜的表面。

11、(8)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，按形成有多層膜的縱長的基材膜的長邊方向上的規(guī)定間隔來測定實測光學(xué)值。

12、(9)在本發(fā)明的多層膜的成膜方法中，多層膜為多層光學(xué)膜。

13、發(fā)明的效果

14、根據(jù)本發(fā)明，在將構(gòu)成多層膜的各層隔開時間間隔地逐層地進行層疊的多層膜的成膜方法中，能夠?qū)崿F(xiàn)不浪費材料和時間的各層的膜厚修正。例如在縱長膜上形成多層膜的情況下，從縱長膜的長邊方向上的一處能夠獲得被變更了所有層的成膜參數(shù)的多層膜。因此，例如不產(chǎn)生在必須變更第一層及第二層的成膜參數(shù)時變更了第一層的成膜參數(shù)但沒有變更第二層的成膜參數(shù)這樣的無法使用的多層膜。因此，不產(chǎn)生基材及成膜材料的浪費，并且也不產(chǎn)生時間的浪費。

技術(shù)特征：

1.一種多層膜的成膜方法，是通過輥對輥工藝實現(xiàn)的多層膜的成膜方法，將構(gòu)成該多層膜的各層隔開時間間隔地逐層地進行層疊，該多層膜的成膜方法包括以下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜的成膜方法，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜的成膜方法，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的多層膜的成膜方法，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的多層膜的成膜方法，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多層膜的成膜方法，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜的成膜方法，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的多層膜的成膜方法，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種多層膜的成膜方法，是通過輥對輥工藝實現(xiàn)的多層膜的成膜方法，將構(gòu)成該多層膜的各層隔開時間間隔地逐層地進行層疊，該多層膜的成膜方法包括以下步驟：所述多層膜被形成于縱長的基材膜的表面；設(shè)定所述各層的膜厚的目標(biāo)值即目標(biāo)膜厚值；求出所形成的多層膜的各層的估計膜厚即估計膜厚值；求出所述各層的成膜參數(shù)變更量，其中，所述各層的成膜參數(shù)變更量用于使所述各層的所述目標(biāo)膜厚值與所述估計膜厚值之差最小化；以及隔開所述時間間隔地將實際的成膜中使用的所述各層的成膜參數(shù)依次變更與所述各層的成膜參數(shù)變更量相應(yīng)的量。

技術(shù)研發(fā)人員：首藤俊介,佐木曉
受保護的技術(shù)使用者：日東電工株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21