一種化學(xué)氣相成膜機臺的制作方法
【專利摘要】一種化學(xué)氣相成膜機臺，包括：工藝腔室，所述工藝腔室用于半導(dǎo)體器件之制備工藝；工藝氣體進(jìn)氣管路，所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過第一過濾器與所述工藝腔室連接；清潔氣體進(jìn)氣管路，所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過第二過濾器與所述工藝腔室連接，并在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓。本實用新型化學(xué)氣相成膜機臺通過在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時，保證所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓，不僅可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路，并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路上的第一過濾器內(nèi)，消除工藝氣體將顆粒物帶入腔體內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能，而且不影響清潔比率，提高產(chǎn)品良率。
【專利說明】
_種化學(xué)氣)相成膜機臺
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種化學(xué)氣相成膜機臺?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]對于化學(xué)氣相成膜機臺之Producer機型的跑貨方式，每種工藝過程開始前、過程中及結(jié)束后，機臺都將觸發(fā)相應(yīng)的清潔程式，以將腔體內(nèi)殘留的薄膜清理干凈，再形成一層對應(yīng)的薄膜來穩(wěn)定腔體環(huán)境。通常地，清潔氣體和工藝氣體均由廠務(wù)端供應(yīng)，在進(jìn)入腔體前按照硬件設(shè)置，經(jīng)過不同的氣體面板進(jìn)行混合后流入腔體。
[0003]但是，由于清潔氣體和工藝氣體通過的氣體面板不同，當(dāng)進(jìn)行清理程式時，工藝氣體之氣體面板處于負(fù)壓狀態(tài)，導(dǎo)致清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體管路，并停留在工藝氣體管路上的過濾器內(nèi)，在長期積累后，由工藝氣體帶入腔體內(nèi)，產(chǎn)生顆粒物缺陷。
[0004]尋求一種使用方便、程式簡單，并可有效避免顆粒物缺陷的化學(xué)氣相成膜機臺已成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題之一。
[0005]故針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本案設(shè)計人憑借從事此行業(yè)多年的經(jīng)驗，積極研究改良，于是有了本實用新型一種化學(xué)氣相成膜機臺?！緦嵱眯滦蛢?nèi)容】[00〇6]本實用新型是針對現(xiàn)有技術(shù)中，傳統(tǒng)化學(xué)氣相成膜機臺之Producer機型由于清潔氣體和工藝氣體通過的氣體面板不同，當(dāng)進(jìn)行清理程式時，工藝氣體之氣體面板處于負(fù)壓狀態(tài)，導(dǎo)致清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體管路，并停留在工藝氣體管路上的過濾器內(nèi)， 在長期積累后，由工藝氣體帶入腔體內(nèi)，產(chǎn)生顆粒物缺陷等提供一種化學(xué)氣相成膜機臺。
[0007]為實現(xiàn)本實用新型之目的，本實用新型提供一種化學(xué)氣相成膜機臺，所述化學(xué)氣相成膜機臺，包括:工藝腔室，所述工藝腔室用于半導(dǎo)體器件之制備工藝；工藝氣體進(jìn)氣管路，所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過第一過濾器與所述工藝腔室連接;清潔氣體進(jìn)氣管路，所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過第二過濾器與所述工藝腔室連接，并在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓。
[0008]可選地，在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓，所述清潔氣體進(jìn)氣管路之顆粒物未進(jìn)入所述工藝氣體進(jìn)氣管路及所述第一過濾器處。
[0009]可選地，所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過氣體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接，并在位于所述工藝氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣體供應(yīng)管上設(shè)置第一氣體混合面板。 [〇〇1〇]可選地，所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過氣體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接，并在位于所述清潔氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣體供應(yīng)管上設(shè)置第二氣體混合面板。
[0011]可選地，所述清潔程式執(zhí)行時，在清潔程式之菜單中增加與所述第一氣體混合面板連接的氣體供應(yīng)管內(nèi)之惰性氣體流量。
[0012]可選地，所述惰性氣體為所述工藝腔室內(nèi)之制程工藝載氣的其中之一。
[0013]可選地，所述工藝腔室內(nèi)設(shè)置用于反應(yīng)氣體流入的噴頭。
[0014]可選地，所述工藝腔室內(nèi)通過射頻發(fā)生器形成高頻或者低頻的射頻。
[0015]綜上所述，本實用新型化學(xué)氣相成膜機臺通過在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時，保證所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓，不僅可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路，并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路上的第一過濾器內(nèi)，消除工藝氣體將顆粒物帶入腔體內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能，而且不影響清潔比率，提高產(chǎn)品良率?！靖綀D說明】
[0016]圖1所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機臺之結(jié)構(gòu)示意圖；[〇〇17]圖2所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機臺之工藝氣體進(jìn)氣管路和清潔氣體進(jìn)氣管路的結(jié)構(gòu)示意圖?！揪唧w實施方式】
[0018]為詳細(xì)說明本發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所達(dá)成目的及功效，下面將結(jié)合實施例并配合附圖予以詳細(xì)說明。[0〇19]對于化學(xué)氣相成膜機臺之Producer機型的跑貨方式，每種工藝過程開始前、過程中及結(jié)束后，機臺都將觸發(fā)相應(yīng)的清潔程式，以將腔體內(nèi)殘留的薄膜清理干凈，再形成一層對應(yīng)的薄膜來穩(wěn)定腔體環(huán)境。通常地，清潔氣體和工藝氣體均由廠務(wù)端供應(yīng)，在進(jìn)入腔體前按照硬件設(shè)置，經(jīng)過不同的氣體面板進(jìn)行混合后流入腔體。
[0020]但是，由于清潔氣體和工藝氣體通過的氣體面板不同，當(dāng)進(jìn)行清理程式時，工藝氣體之氣體面板處于負(fù)壓狀態(tài)，導(dǎo)致清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體管路，并停留在工藝氣體管路上的過濾器內(nèi)，在長期積累后，由工藝氣體帶入腔體內(nèi)，產(chǎn)生顆粒物缺陷。
[0021]請參閱圖1、圖2,圖1所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機臺之結(jié)構(gòu)示意圖。圖2所示為本發(fā)明化學(xué)氣相成膜機臺之工藝氣體進(jìn)氣管路和清潔氣體進(jìn)氣管路的結(jié)構(gòu)示意圖。所述化學(xué)氣相成膜機臺1，包括:工藝腔室11，所述工藝腔室11用于半導(dǎo)體器件10之制備工藝;工藝氣體進(jìn)氣管路12,所述工藝氣體進(jìn)氣管路12通過第一過濾器121與所述工藝腔室11連接;清潔氣體進(jìn)氣管路13,所述清潔氣體進(jìn)氣管路13通過第二過濾器131與所述工藝腔室11連接，并在所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓。
[0022]顯然地，本實用新型化學(xué)氣相成膜機臺1在所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓，即可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路12,并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路12上的第一過濾器121內(nèi)，消除工藝氣體將顆粒物帶入工藝腔室11內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能。即，在所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓，所述清潔氣體進(jìn)氣管路13之顆粒物未進(jìn)入所述工藝氣體進(jìn)氣管路12及所述第一過濾器121處。
[0023]作為具體地實施方式，所述工藝氣體進(jìn)氣管路12通過氣體供應(yīng)管14與氣體供應(yīng)端 15連接，并在位于所述工藝氣體進(jìn)氣管路12和所述氣體供應(yīng)端15之間的氣體供應(yīng)管14上設(shè)置第一氣體混合面板16。所述清潔氣體進(jìn)氣管路13通過氣體供應(yīng)管14與氣體供應(yīng)端15連接，并在位于所述清潔氣體進(jìn)氣管路13和所述氣體供應(yīng)端15之間的氣體供應(yīng)管14上設(shè)置第二氣體混合面板17。所述工藝腔室11內(nèi)設(shè)置用于反應(yīng)氣體流入的噴頭18。所述工藝腔室11 內(nèi)通過射頻發(fā)生器19形成高頻或者低頻的射頻。
[0024]為了更好的實現(xiàn)本實用新型之有益效果，以保證所述清潔氣體進(jìn)氣管路13執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路12為正壓，優(yōu)選地，所述清潔程式執(zhí)行時，在清潔程式之菜單中增加與所述第一氣體混合面板16連接的氣體供應(yīng)管14內(nèi)之惰性氣體流量。更具體地，所述惰性氣體為所述工藝腔室11內(nèi)之制程工藝載氣的其中之一。
[0025]綜上所述，本實用新型化學(xué)氣相成膜機臺通過在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時，保證所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓，不僅可有效避免所述清潔氣體之顆粒物回流至工藝氣體進(jìn)氣管路，并停留在工藝氣體進(jìn)氣管路上的第一過濾器內(nèi)，消除工藝氣體將顆粒物帶入腔體內(nèi)造成顆粒物缺陷的可能，而且不影響清潔比率，提高產(chǎn)品良率。
[0026]本領(lǐng)域技術(shù)人員均應(yīng)了解，在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，可以對本實用新型進(jìn)行各種修改和變型。因而，如果任何修改或變型落入所附權(quán)利要求書及等同物的保護(hù)范圍內(nèi)時，認(rèn)為本實用新型涵蓋這些修改和變型。
【主權(quán)項】
1.一種化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，所述化學(xué)氣相成膜機臺，包括:工藝腔室，所述工藝腔室用于半導(dǎo)體器件之制備工藝；工藝氣體進(jìn)氣管路，所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過第一過濾器與所述工藝腔室連接；清潔氣體進(jìn)氣管路，所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過第二過濾器與所述工藝腔室連接，并 在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓。2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，在所述清潔氣體進(jìn)氣管路執(zhí)行 清潔程式時，所述工藝氣體進(jìn)氣管路為正壓，所述清潔氣體進(jìn)氣管路之顆粒物未進(jìn)入所述 工藝氣體進(jìn)氣管路及所述第一過濾器處。3.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，所述工藝氣體進(jìn)氣管路通過氣 體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接，并在位于所述工藝氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣 體供應(yīng)管上設(shè)置第一氣體混合面板。4.如權(quán)利要求3所述的化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，所述清潔程式執(zhí)行時，在清潔 程式之菜單中增加與所述第一氣體混合面板連接的氣體供應(yīng)管內(nèi)之惰性氣體流量。5.如權(quán)利要求4所述的化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，所述惰性氣體為所述工藝腔室 內(nèi)之制程工藝載氣的其中之一。6.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，所述清潔氣體進(jìn)氣管路通過氣 體供應(yīng)管與氣體供應(yīng)端連接，并在位于所述清潔氣體進(jìn)氣管路和所述氣體供應(yīng)端之間的氣 體供應(yīng)管上設(shè)置第二氣體混合面板。7.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，所述工藝腔室內(nèi)設(shè)置用于反應(yīng) 氣體流入的噴頭。8.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相成膜機臺，其特征在于，所述工藝腔室內(nèi)通過射頻發(fā) 生器形成高頻或者低頻的射頻。
【文檔編號】C23C16/455GK205669065SQ201620283550
【公開日】2016年11月2日
【申請日】2016年4月7日
【發(fā)明人】謝素蘭, 許雋
【申請人】上海華力微電子有限公司