本發(fā)明涉及玻璃蝕刻工藝，尤其涉及一種玻璃堿蝕刻工藝及其應(yīng)用。

背景技術(shù)：

1、在電子顯示屏領(lǐng)域，常見的玻璃處理工藝包括玻璃薄化以及玻璃的無折射光（減反射）的處理工藝。其中玻璃薄化主要是用化學(xué)蝕刻和物理研磨將面板模組和顯示玻璃進(jìn)行減薄處理，達(dá)到顯示產(chǎn)品輕薄化的需求，通過對(duì)tft-lcd面板的減薄可實(shí)現(xiàn)以下幾點(diǎn)面板應(yīng)用需求：1.使用化學(xué)或物理方法使面板玻璃的厚度變小，以達(dá)到面板輕薄化的目的；2.使顯示屏重量減輕;提供更清晰明亮的畫質(zhì)；3.減少占用空間，減少tft-lcd模組的厚度，留出更多空間，如增加電池容量等；4.使玻璃基板減薄后達(dá)到一定的柔性，生產(chǎn)折疊或曲面屏幕，增加更好的可視效果。tft-lcd玻璃減薄工藝流程包括封膠工藝、蝕刻減薄工藝以及研磨工藝。對(duì)玻璃表面進(jìn)行無折射光（減反射）的處理工藝則包括蝕刻ag、噴涂ag、鍍膜ag三種，其中，蝕刻ag屬化學(xué)蝕刻，ag處理后仍為玻璃表面，由于表面本質(zhì)仍為玻璃，產(chǎn)品不但耐劃傷，而且透過率好，圖像清晰度高，被市場(chǎng)所認(rèn)同成為防眩玻璃主流產(chǎn)品。

2、目前上述玻璃的蝕刻減薄工藝以及蝕刻ag工藝使用的主流的蝕刻技術(shù)是利用氫氟酸化學(xué)溶液（hf）與玻璃基板表面的二氧化硅進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)而使其溶解的原理，對(duì)面板進(jìn)行咬蝕。眾所周知，氫氟酸具有強(qiáng)腐蝕性、強(qiáng)刺激性、含氟危害性，使用不當(dāng)可致人體灼傷，吸入高濃度的氫氟酸煙霧，會(huì)引起支氣管炎和出血性肺水腫，氫氟酸煙霧也可經(jīng)皮膚吸收而引起嚴(yán)重中毒，因此以氫氟酸為主的酸蝕刻工藝對(duì)蝕刻環(huán)境的安全通風(fēng)都有較高的要求，并且生產(chǎn)中產(chǎn)生的氫氟酸廢液處理不當(dāng)滲入土壤會(huì)造成嚴(yán)重污染，含氟廢水超標(biāo)排放會(huì)對(duì)水環(huán)境造成重大事故，氫氟酸廢水廢液通常都是采用石灰進(jìn)行酸堿中和后達(dá)標(biāo)排放，攪拌絮凝沉淀中和工藝雖然簡(jiǎn)單，但會(huì)產(chǎn)生大量危廢含氟石灰污泥，增加處理危廢成本和環(huán)境負(fù)擔(dān)，此外，由于氫氟酸及混酸溶液滲透性極強(qiáng)，蝕刻玻璃的速率很快，蝕刻時(shí)間很短，很難在短暫的時(shí)間內(nèi)對(duì)超薄玻璃進(jìn)行減薄，玻璃的凹凸外形、霧度、光澤度、透明度、清晰度、d0i（鮮映度）等也難以做出精確的調(diào)整，難以制造出車載、手機(jī)、電腦、工控等高清顯示屏領(lǐng)域所急需的低閃爍玻璃（low?sparkle），而且酸蝕刻后的玻璃面較為陰暗不夠潔凈。鑒于此，需要尋找可替代酸蝕刻的更為安全更為環(huán)保的化學(xué)蝕刻工藝。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的之一在于提供一種玻璃堿蝕刻工藝。

2、實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的一的技術(shù)方案是，一種玻璃堿蝕刻工藝，其工藝過程包括將玻璃基板浸沒于堿蝕刻液內(nèi)浸泡，其中所述堿蝕刻液為濃度為40%～56%的氫氧化鈉溶液，堿蝕刻液的溫度為100℃～130℃，浸泡時(shí)間為100min～300min。

3、進(jìn)一步地，所述浸泡過程中對(duì)所述堿蝕刻液進(jìn)行攪拌。以增加爐內(nèi)高溫液體的流動(dòng)性和浸泡過程中溫度的均勻性，使堿蝕刻面更加均勻透亮，將其用于玻璃防眩加工時(shí)凹凸點(diǎn)的高矮更加一致。

4、進(jìn)一步地，所述玻璃基板為經(jīng)噴砂或局部噴砂處理或激光刻雕或磨砂處理后的玻璃基板。經(jīng)噴砂或局部噴砂處理的玻璃基板通過本發(fā)明玻璃堿蝕刻工藝，實(shí)現(xiàn)了玻璃的表面防眩加工和透明化處理。

5、進(jìn)一步地，所述氫氧化鈉溶液的濃度為46%～55%。經(jīng)噴砂工序后的玻璃面呈麻面白濁霧面，這種白濁霧面影響玻璃的透過率和顯示屏清晰度，而且使用過程容易產(chǎn)生污痕不易擦試，需要通過玻璃蝕刻工藝去除麻面上的霧狀白濁，一方面要使玻璃既保持砂處理和激光刻雕后的麻面防眩光防反射功能，另一方面還要實(shí)現(xiàn)麻面麻點(diǎn)透明化，噴砂后的凸點(diǎn)矮平化，使顯示屏畫面更加清晰，通過堿蝕刻得到比酸蝕刻表面外觀更光滑平整、更潔白透亮的防眩玻璃制品。

6、進(jìn)一步地，所述局部噴砂處理后的玻璃基板在噴砂前具有不需要防眩處理的透明區(qū)域，所述透明區(qū)域在噴砂前印刷有不耐堿的保護(hù)油墨。當(dāng)玻璃基板進(jìn)入堿蝕刻爐時(shí)印刷的保護(hù)油墨會(huì)自動(dòng)脫落，形成透明區(qū)域，利用堿蝕刻液同時(shí)對(duì)玻璃基板進(jìn)行蝕刻和脫墨，無需額外的脫模工序，精簡(jiǎn)了工藝流程，降低了生產(chǎn)成本。

7、本發(fā)明的目的之二在于提供一種玻璃堿蝕刻工藝的應(yīng)用。

8、實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的二的技術(shù)方案是，將前述玻璃堿蝕刻工藝用于將防眩玻璃的微納凹凸點(diǎn)的凸點(diǎn)蕩平，或用于1mm以下的玻璃基板減薄使用，或用于0.2mm以下的玻璃基板減薄使用。

9、本發(fā)明所述玻璃堿蝕刻工藝可用于玻璃的減薄加工以及玻璃的表面防眩加工。本發(fā)明選擇了工業(yè)“兩堿”中的氫氧化鈉（燒堿）將傳統(tǒng)的酸蝕刻改為堿蝕刻，提高了超薄電子玻璃的蝕刻精度，降低了生產(chǎn)成本，而且堿蝕刻工藝溶入蝕刻液的玻璃溶化物（硅酸鈉）不多，浸泡玻璃后的廢堿液比起紡織、造紙、金屬材料等化工產(chǎn)業(yè)所產(chǎn)生的堿廢液更為潔凈，玻璃堿蝕刻工藝后產(chǎn)生的廢堿液可以作為濕法生產(chǎn)泡花堿（水玻璃）的原料，也可以作為污水處理場(chǎng)的堿性中和劑進(jìn)行二次再利用，生產(chǎn)過程中不產(chǎn)生含氟廢水和危廢含氟石灰污泥，減少了對(duì)環(huán)境的污染，具有重大的環(huán)保創(chuàng)新減污減排效果。

10、同時(shí)，本發(fā)明堿蝕刻工藝用于氫氧化鈉與玻璃的反應(yīng)過程較為緩慢，使得減薄的厚度比酸蝕刻更加易于控制，尤其適用于1mm以下的玻璃，特別是0.2mm以下超薄玻璃的減薄使用。另一方面，本發(fā)明所述玻璃堿蝕刻工藝用于玻璃的表面防眩加工時(shí)蝕刻過程中可以去除防眩毛玻璃上微納凹凸坑表面的噴砂濁白層，使?jié)岚讓油该骰?，提高玻璃的清晰度和透過率，還可以通過精準(zhǔn)調(diào)整堿液濃度和浸泡時(shí)間，保留帶有千萬個(gè)透明的微納凹凸孔，實(shí)現(xiàn)既保留漫反射效果，同時(shí)抑制液晶屏內(nèi)生亮度的提升，抑制控制刺眼的內(nèi)生亮度，取得顯示屏的最佳doi值。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以知曉，顯示屏的doi值并不是越高越好，而是需要配合4k、5k、8k高清顯示屏體的內(nèi)生亮度，4k、5k、8k高像素點(diǎn)變化、易書寫ag凹凸深淺、hz頻率，找到ag漫反射光和內(nèi)生反射光的最佳平衡點(diǎn)，最終決定doi值的高低，本發(fā)明堿蝕刻工藝反應(yīng)慢，調(diào)整控制精度高，為以上參數(shù)的控制和調(diào)整創(chuàng)造了良好的工藝條件。本發(fā)明通過精密調(diào)整堿蝕刻配液濃度、堿液溫度、浸泡時(shí)間，將微納凹凸點(diǎn)的凸點(diǎn)蕩平實(shí)現(xiàn)凸點(diǎn)平矮化，減少因凸點(diǎn)高凸鏡放射雪花狀閃爍點(diǎn)的缺陷，實(shí)現(xiàn)屏幕低閃爍或者無閃爍的效果，進(jìn)而通過堿蝕刻得到比酸蝕刻表面外觀更光滑平整、更潔白透亮的防眩玻璃制品。

技術(shù)特征：

1.一種玻璃堿蝕刻工藝，其特征在于：其工藝過程包括將玻璃基板浸沒于堿蝕刻液內(nèi)浸泡，其中所述堿蝕刻液為濃度為40%～56%的氫氧化鈉溶液，堿蝕刻液的溫度為100℃～130℃，浸泡時(shí)間為100min～300min。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃堿蝕刻工藝，其特征在于：所述浸泡過程中對(duì)所述堿蝕刻液進(jìn)行攪拌。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃堿蝕刻工藝，其特征在于：所述玻璃基板為經(jīng)噴砂或局部噴砂處理或激光刻雕或磨砂處理后的玻璃基板。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的玻璃堿蝕刻工藝，其特征在于：所述氫氧化鈉溶液的濃度為46%～55%。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的玻璃堿蝕刻工藝，其特征在于：所述局部噴砂處理后的玻璃基板在噴砂前具有不需要防眩處理的透明區(qū)域，所述透明區(qū)域噴砂前印刷有不耐堿的保護(hù)油墨。

6.一種玻璃堿蝕刻工藝的應(yīng)用，其特征在于：將權(quán)利要求1所述的玻璃堿蝕刻工藝用于1mm以下的玻璃基板減薄使用。

7.一種玻璃堿蝕刻工藝的應(yīng)用，其特征在于：將權(quán)利要求1所述的玻璃堿蝕刻工藝用于0.2mm以下的玻璃基板減薄使用。

8.一種玻璃堿蝕刻工藝的應(yīng)用，其特征在于：將權(quán)利要求1所述的玻璃堿蝕刻工藝用于將防眩玻璃的微納凹凸點(diǎn)的凸點(diǎn)蕩平。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種玻璃堿蝕刻工藝，其工藝過程包括將玻璃基板浸沒于堿蝕刻液內(nèi)浸泡，其中所述堿蝕刻液為濃度為40%～56%的氫氧化鈉溶液，堿蝕刻液的溫度為100℃～130℃，浸泡時(shí)間為100min～300min。本發(fā)明所述玻璃堿蝕刻工藝可用于玻璃的減薄加工、玻璃的表面防眩加工以及用于將防眩玻璃的微納凹凸點(diǎn)的凸點(diǎn)蕩平實(shí)現(xiàn)無閃和低閃效果，通過選擇工業(yè)“兩堿”中的氫氧化鈉（燒堿）改酸蝕刻為堿蝕刻，提高了超薄電子玻璃的蝕刻精度，降低了生產(chǎn)成本，而且生產(chǎn)過程中不產(chǎn)生含氟廢水和危廢含氟石灰污泥，減少了對(duì)環(huán)境的污染，具有重大的環(huán)保創(chuàng)新減污減排效果。

技術(shù)研發(fā)人員：盧璋,葉青,劉志峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：歐浦登（順昌）光學(xué)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21