一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及導(dǎo)電玻璃技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，電容屏產(chǎn)品使用非常廣泛，而電容屏中的雙面鍍導(dǎo)電玻璃是其主要器件，雙面鍍導(dǎo)電玻璃的導(dǎo)電薄膜在性能方面要求比較嚴(yán)，比如均勻性、耐熱性能、耐酸堿性能、耐高溫高濕性能等；在制作透明電路的時候，由于工藝難度增加，在制作電路時常采用酸刻電路。在制作過程中，容易蝕刻掉不應(yīng)該刻蝕的部位，并且存在電路蝕刻的蝕痕影跡，影響其電磁屏蔽、靜電保護(hù)功能，存在的蝕痕影跡會對觀看圖案產(chǎn)生影響。
[0003]鑒于上述原因，現(xiàn)研發(fā)出一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃，具有良好的電磁屏蔽、靜電防護(hù)和消影作用，并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導(dǎo)電玻璃，為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導(dǎo)電玻璃。
[0005]本實(shí)用新型為了實(shí)現(xiàn)上述目的，采用如下技術(shù)方案:一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃，是由:玻璃基板、錫面、干涉層一、透明鈍化層、干涉層二、透明層、ITO膜構(gòu)成；玻璃基板的兩個表面均為錫面，在玻璃基板上表面的錫面上方設(shè)置干涉層一，干涉層一與干涉層二之間設(shè)置透明鈍化層，干涉層二上方設(shè)置ITO膜，在玻璃基板下表面的錫面下方設(shè)置透明層，透明層下方設(shè)置ITO膜。
[0006]所述透明鈍化層采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅。
[0007]所述干涉層一與干涉層二均采用五氧化二鈮。
[0008]加工原理:
[0009]第一步，對玻璃基板進(jìn)行處理，
[0010]A、對玻璃基板進(jìn)行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片處理；
[0011]B、對切割后的玻璃基板進(jìn)行磨邊和倒角，先X磨邊，再倒角，旋轉(zhuǎn)90°再對Y磨邊及倒角；
[0012]C、刷洗吹干；
[0013]D、對磨邊和倒角后的玻璃基板進(jìn)行拋光；
[0014]E、再刷洗吹干；
[0015]第二步，對玻璃基板上濺射干涉層一、透明鈍化層、干涉層二和透明層；
[0016]A、對拋光刷洗吹干后玻璃基板進(jìn)行加熱；采用的加熱溫度為150-280攝氏度；
[0017]B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備對加熱后的玻璃基板上表面的錫面上方濺射干涉層一，干涉層一上方濺射透明鈍化層，透明鈍化層為透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅，透明鈍化層上方濺射干涉層二，干涉層一和干涉層二均為五氧化二鈮；對玻璃基板下表面的錫面下方濺射透明層；
[0018]第三步，在玻璃基板第二步濺射的基礎(chǔ)上，進(jìn)行ITO膜濺射；
[0019]A、對濺射干涉層一、透明鈍化層、干涉層二和透明層后的玻璃基板進(jìn)行加熱；加熱溫度采用280-380攝氏度；
[0020]B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備，對加熱后的玻璃基板，在玻璃基板上表面的干涉層二上方和下表面的透明層下方同步濺射ITO膜；
[0021]C、對濺射ITO膜后的玻璃基板，經(jīng)緩沖室做退火處理:先降溫至200攝氏度，再加溫至300攝氏度穩(wěn)定，完成對玻璃基板的鍍膜。
[0022]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型能夠保護(hù)氧化銦錫導(dǎo)電膜刻蝕線路，不受制作過程工藝中的酸溶液的蝕刻，避免在制作過程中蝕刻掉不應(yīng)該刻蝕的部位，在制作過程中使氧化銦錫導(dǎo)電膜刻蝕線路達(dá)到設(shè)計要求，具有良好的電磁屏蔽、靜電防護(hù)和消影作用，并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導(dǎo)電玻璃，為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導(dǎo)電玻璃。
【附圖說明】
[0023]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明:
[0024]圖1是，總裝結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖1中:玻璃基板1、錫面2、干涉層一 3、透明鈍化層4、干涉層二 5、透明層6、ITO膜7。
【具體實(shí)施方式】
[0026]下面結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明:
[0027]如圖所示，玻璃基板I的兩個表面均為錫面2，在玻璃基板I上表面的錫面2上方設(shè)置干涉層一 3，干涉層一 3與干涉層二 5之間設(shè)置透明鈍化層4，干涉層二 5上方設(shè)置ITO膜7，在玻璃基板I下表面的錫面2下方設(shè)置透明層6，透明層6下方設(shè)置ITO膜7。
[0028]所述透明鈍化層4采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅。
[0029]所述干涉層一 3與干涉層二 5均采用五氧化二鈮。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃，是由:玻璃基板(I)、錫面(2)、干涉層一(3)、透明鈍化層(4)、干涉層二(5)、透明層(6)、ITO膜(7)構(gòu)成；其特征在于:玻璃基板(I)的兩個表面均為錫面(2)，在玻璃基板(I)上表面的錫面(2)上方設(shè)置干涉層一(3)，干涉層一(3)與干涉層二(5)之間設(shè)置透明鈍化層(4)，干涉層二(5)上方設(shè)置ITO膜(7)，在玻璃基板(I)下表面的錫面⑵下方設(shè)置透明層(6)，透明層(6)下方設(shè)置ITO膜(7)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃，其特征在于:所述透明鈍化層(4)采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃，其特征在于:所述干涉層一(3)與干涉層二(5)均采用五氧化二鈮。
【專利摘要】一種單面消影觸摸屏導(dǎo)電玻璃，是由：玻璃基板、錫面、干涉層一、透明鈍化層、干涉層二、透明層、ITO膜構(gòu)成；玻璃基板的兩個表面均為錫面，在玻璃基板上表面的錫面上方設(shè)置干涉層一，干涉層一與干涉層二之間設(shè)置透明鈍化層，干涉層二上方設(shè)置ITO膜，在玻璃基板下表面的錫面下方設(shè)置透明層，透明層下方設(shè)置ITO膜；具有良好的電磁屏蔽、靜電防護(hù)和消影作用，并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導(dǎo)電玻璃，為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導(dǎo)電玻璃。
【IPC分類】C03C17/36
【公開號】CN205115289
【申請?zhí)枴緾N201520825953
【發(fā)明人】秦遵紅, 王戀貴, 董安光, 譚華
【申請人】洛陽康耀電子有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年10月19日