使用降冰片烷-2-螺-α-環(huán)烷酮-α’-螺-2’’-降冰片烷-5,5’’,6,6’’-四羧酸二酐類得到的 ...的制作方法
【專利說明】使用降冰片燒-2-螺-a -環(huán)燒酬-a '-螺-2"-降冰片 燒-5, 5"，6, 6"-四錢酸二野類得到的聚醜亞胺從及聚醜胺 酸
[0001] 本申請是申請日為2011年2月9日、申請?zhí)枮?01180009411. 1、發(fā)明名稱為座 化片院-2-螺-g -環(huán)院酉同-g '-螺-2"-降化片院-5. 5" . 6. 6"-四叛酸二野類、降化片 院-2-螺-曰-環(huán)院酉同-曰，-螺-2''-降化片院-5.5". 6. 6''-四叛酸及其酉自類、降化片 院-2-螺-g -環(huán)院酉同-g '-螺-2"-降化片院-5. 5". 6. 6"-四叛酸二野類的制推方法的 專利申請的分案申請。
技術領域
[0002] 本發(fā)明設及降冰片燒-2-螺-a -環(huán)燒酬-a ' -螺-2 降冰片燒-5, 5 "，6, 6 四 駿酸二酢類、降冰片燒-2-螺-a -環(huán)燒酬-a ' -螺-2"-降冰片燒-5, 5"，6, 6"-四駿酸 及其醋類、降冰片燒-2-螺-a -環(huán)燒酬-a ' -螺-2"-降冰片燒-5, 5"，6, 6"-四駿酸二 酢類的制造方法、使用其得到的聚酷亞胺W及聚酷亞胺的制造方法。
【背景技術】
[0003] 通常四駿酸二酢類作為制造聚酷亞胺樹脂的原料或環(huán)氧固化劑等有用。在該樣的 四駿酸二酢類中，例如，作為電子設備領域等中使用的聚酷亞胺樹脂的原料，主要使用均苯 四甲酸二酢等的芳香族類的四駿酸二酢。但是該樣的芳香族類的四駿酸二酢因為其芳香族 性，所得到的聚酷亞胺樹脂會被著色，因此，不足W作為用于光學領域等的用途的聚酷亞胺 樹脂的原料。另外，使用該樣的芳香族類的四駿酸二酢得到的聚酷亞胺樹脂對溶劑的溶解 性低，從其加工性的觀點出發(fā)也不夠。因此，為了制造光透過性高并且對溶劑的溶解性優(yōu)異 的聚酷亞胺樹脂，探討了各種脂肪族類的四駿酸二酢。
[0004] 例如，在日本專利特開昭55-36406號公報（專利文獻1)中，公開了 5-化5-二氧 代四氨-3-快喃基）-3-甲基-3-環(huán)己締-1，2-二駿酸酢。另外，在日本專利特開昭63-57589 號公報（專利文獻2)中，公開了雙環(huán)化2. 1]庚燒-2, 3, 5, 6-四駿酸二酢類。另外，在日 本專利特開平7-304868號公報（專利文獻3)中，作為聚酷亞胺樹脂的原料公開了雙環(huán) [2.2.2]辛燒四駿酸二酢類。進一步，在日本專利特開2001-2670號公報（專利文獻4) W 及特開2002-255955號公報（專利文獻5)中，公開了 1，2-雙（4' -氧代-3'，5' -二氧雜 S環(huán)[5. 2. 1. 02'6]癸燒-8'-基氧）己燒。進一步，在日本專利特開平10-310640號公報 (專利文獻6)中，公開了雙環(huán)化2. 1]庚燒-2,3, 5-S駿基-5-醋酸-2, 3:5, 5-酸二酢。 然而，在使用如專利文獻1~6中記載的現(xiàn)有技術中使用的脂肪族類的四駿酸二酢類的情 況下，得到的聚酷亞胺樹脂的耐熱性不夠，因此實用方面不夠充分。
[0005] 另外，一直W來作為宇宙?航空用途等的先進產(chǎn)業(yè)中不可缺少的原材料的全芳香 族聚酷亞胺（例如，商品名"Kapton")也為人所知。該樣的全芳香族聚酷亞胺利用下述反 應式（I);
[0006] [反應式（I)]
[0007]
【主權項】
1. 一種聚酰亞胺，其中， 所述聚酰亞胺具有下述通式（4)所表示的重復單元，
式（4)中，R1、R2、R3分別獨立地表示選自氫原子、碳原子數(shù)為1~10的烷基以及氟原 子中的1種基團，Rltl表示碳原子數(shù)為6~40的芳基，η表示0~12的整數(shù)。
2. 如權利要求1所述的聚酰亞胺，其中， 所述通式（4)中的Rltl為下述通式（5)~（8)所表示的基團中的至少1種基團，
式（7)中，R11表示選自氫原子、氟原子、甲基、乙基以及三氟甲基中的1種，式⑶中， Q 表不選自 _〇_、_S-、-CO-、-CONH-、-SO2-、-C (CF3) 2-、-C (CH3) 2-、-CH2-、-O-C6H4-C (CH3) 2-C6H4_ 〇_、-O-C6H4-SO2-C 6H4-O-、-C (CH3)2-C6H4-C (CH3) 2_、-O-C6H4-C6H4-O-及-O-C 6H4-O-所表不的基 團中的1種基團。
3. -種聚酰胺酸，其中， 所述聚酰胺酸具有下述通式（9)所表示的重復單元，
式（9)中，R1、R2、R3分別獨立地表示選自氫原子、碳原子數(shù)為1~10的烷基以及氟原 子中的1種基團，Rltl表示碳原子數(shù)為6~40的芳基，η表示0~12的整數(shù)。
4. 如權利要求3所述的聚酰胺酸，其中， 所述通式（9)中Rltl表示選自下述通式（5)~（8)所表示的基團中的至少1種基團，
式（7)中，R11表示選自氫原子、氟原子、甲基、乙基以及三氟甲基中的1種基團，式（8) 中，Q 表示選自-O-、-S-、-CO-、-CONH-、-SO2-、-C (CF3) 2-、-C (CH3) 2-、-CH2-、-O-C6H4-C (CH3) 2-C 6H4-〇-、-O-C6H4-SO2-C 6H4-O-、-C(CH3)2-C6H 4-C(CH3)2' -O-C6H4-C6H4-O-及-O-C 6H4-O-所表不 的基團中的1種基團。
5. 如權利要求3或4所述的聚酰胺酸，其中， 使用將所述聚酰胺酸溶解于N，N-二甲基乙酰胺中得到的濃度為0. 5g/dL的所述聚酰 胺酸的溶液，在30°C的溫度條件下用運動粘度計測定的固有粘度[η ]為〇. 05~3. OdL/g。
6. -種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的膜。
7. -種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的柔性配線基板。
8. -種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的液晶配向膜。
9. 一種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的透明電極基板。
10. -種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的有機EL的透明電極基板。
11. 一種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的太陽電池的透明電極基板。
12. -種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的電子紙的透明電極基板。
13. -種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的耐熱絕緣膠帶。
14. 一種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的電線包漆。
15. -種由權利要求1或2所述的聚酰亞胺構成的半導體的保護涂膜劑。
16. -種含有權利要求3或4所述的聚酰胺酸和有機溶劑的溶液。
【專利摘要】本發(fā)明提供下述通式(1)所表示的降冰片烷-2-螺-α-環(huán)烷酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四羧酸二酐類。[式(1)中，n表示0～12的整數(shù)，R1、R2、R3分別獨立地表示氫原子等的基團]。
【IPC分類】C08G73-10, C08L79-08, C09D179-08
【公開號】CN104672449
【申請?zhí)枴緾N201410442783
【發(fā)明人】松本利彥, 小松伸一
【申請人】吉坤日礦日石能源株式會社
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2011年2月9日
【公告號】CN102906097A, CN102906097B, EP2535341A1, EP2535341A4, EP2535341B1, US20130079490, WO2011099518A1