專利名稱：縫隙嘴的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及縫隙嘴，該縫隙嘴(slit nozzle)在基板表面上按一定的寬度對(duì)涂敷液進(jìn)行涂敷。
背景技術(shù)：
作為在玻璃基板等表面上對(duì)光致抗蝕劑等涂敷液進(jìn)行涂敷的方法來(lái)說(shuō)，有一種方法是，從通常的嘴向著基板表面滴下涂敷液，此后進(jìn)行旋轉(zhuǎn)以使厚度均一。然而，所涂敷的涂敷液的90％以上會(huì)飛濺而造成大量浪費(fèi)。為此近來(lái)一直使用如下方法，即使用縫隙嘴在基板上按一定的寬度對(duì)涂敷液進(jìn)行涂敷，此后進(jìn)行某種程度的旋轉(zhuǎn)，從而使涂膜的厚度均一，或是使用縫隙嘴在基板上按一定的寬度對(duì)涂敷液進(jìn)行涂敷，于是結(jié)束涂敷工序。
為了降低上述涂敷液的浪費(fèi)，作為條件就是要盡可能不使基板旋轉(zhuǎn)而讓涂膜的厚度均一。為此，有必要使在縫隙嘴上，沿著縫隙狀排出口從排出口排出的涂敷液的量均一。為了確保該均一性，在現(xiàn)有技術(shù)中提出了各種提案。
在特許文獻(xiàn)1中提出了如下提案，即在構(gòu)成縫隙嘴的一方的半體上，沿著上下相間隔地設(shè)置2個(gè)涂敷液蓄留部，在這2個(gè)涂敷液蓄留部的連通部分內(nèi)，相當(dāng)于縫隙嘴的寬度方向的中央部的地方設(shè)置遮斷部，從而可確保涂敷量的均一性。
在特許文獻(xiàn)2中提出了如下提案，即在槽(縫隙狀流道)內(nèi)沿著涂敷液的流向分割成2層槽狀單體，使各槽狀單體的開口互異以控制涂敷液的壓力損失，這樣就可確保涂敷量的均一性。
在特許文獻(xiàn)3中提出了如下提案，即在構(gòu)成縫隙嘴的一方的半體上設(shè)置涂敷液的蓄留部，在該蓄留部的下側(cè)連續(xù)形成整壓部，經(jīng)該整壓部將涂敷液供給到排出口，從而使涂敷液沿著排出口均一排出。
在特許文獻(xiàn)4中提出了如下提案，即在構(gòu)成縫隙嘴的一方的半體上設(shè)置涂敷液的蓄留部，在該蓄留部中配置嘴內(nèi)流道形成用的部件，從而使涂敷量達(dá)到均一。
(特許文獻(xiàn)1)特開平7-326564號(hào)公報(bào)(特許文獻(xiàn)2)特開2000-051777號(hào)公報(bào)(特許文獻(xiàn)3)特開2002-086045號(hào)公報(bào)(特許文獻(xiàn)4)特開2002-370057號(hào)公報(bào)如特許文獻(xiàn)2及特許文獻(xiàn)3中公開的縫隙嘴所述，在蓄留部與其下側(cè)處設(shè)置整壓部，這樣就不能充分地進(jìn)行某種程度的均一涂敷。
此外，如特許文獻(xiàn)1及特許文獻(xiàn)4中公開的縫隙嘴所述，蓄留部是山形，在蓄留部的下方設(shè)有遮斷部或是在蓄留部?jī)?nèi)配置嘴內(nèi)流道形成用的部件，此時(shí)如圖6所示，在寬度方向的中央部的涂敷液的流下量變少，偏離中央部的兩側(cè)處的涂敷液的流下量變多，而且兩端部的涂敷液的流下量還有變少的趨勢(shì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述課題而提供一種縫隙嘴，該縫隙嘴的結(jié)構(gòu)是這樣的在2個(gè)嘴半體的結(jié)合狀態(tài)下，該縫隙嘴形成向下方開口的縫隙狀排出口，在上述2個(gè)嘴半體中的一方上形成涂敷液的第1蓄留部，在與該第1蓄留部相連續(xù)的下側(cè)形成第2蓄留部，該第2蓄留部以嘴半體的厚度方向?yàn)榛鶞?zhǔn)而淺于上述第1蓄留部，在與該第2蓄留部相連續(xù)的下側(cè)設(shè)置平坦面，在平坦面與另一方的嘴半體之間形成下端為縫隙狀排出口的開口，上述第1蓄留部按如下方式形成山形，即與形成在嘴半體的寬度方向的中央部上的涂敷液供給孔相連通的地方最高而兩端變低，此外，上述第2蓄留部的下邊形成嘴半體的寬度方向的中央部最低，隨著向兩端不斷延伸而越來(lái)越高的V字狀傾斜面。
另外，優(yōu)選的情況是，以上述V字狀傾斜面的兩端的始點(diǎn)，作為當(dāng)上述第2蓄留部的下邊為直線狀時(shí)涂敷液的流下量變得最多的點(diǎn)。
通過(guò)采用上述結(jié)構(gòu)，可使沿著排出口的寬度方向從縫隙狀排出口流下的涂敷液的量成為均一。因而在基板上涂敷的涂敷液的厚度成為均一，所以可實(shí)現(xiàn)制品成品率的提高。
如上述說(shuō)明所示，通過(guò)本發(fā)明所述的縫隙嘴，可使從沿嘴的寬度方向延伸的縫隙狀排出口流出的涂敷液的流下量，無(wú)論在何處都會(huì)變得相等，從而使在基板上形成的涂膜的厚度成為均一。
特別是可將光致抗蝕劑的膜厚準(zhǔn)確控制在10～20μm的范圍內(nèi)。例如，應(yīng)用集成電路形成技術(shù)，可在IC圖形面上容易地形成高度準(zhǔn)確的凸起(突起狀電極)。此外，也可利用在將替代金屬絲連接的金屬柱設(shè)置在集成電路片上的作業(yè)中。


圖1是本發(fā)明所述的縫隙嘴整體的立體圖。
圖2是沿圖1的A-A線的截面圖。
圖3是沿圖2的B-B的向視方向圖。
圖4是形成蓄留部的嘴半體的截面放大圖。
圖5是嘴下端部的截面放大圖。
圖6是已有縫隙嘴的不良狀態(tài)的說(shuō)明圖。
符號(hào)說(shuō)明1、2嘴半體1a、2a嘴半體的下部?jī)A斜面3螺栓4第1蓄留部5第2蓄留部6涂敷液供給孔7排氣孔8V字狀傾斜面8a傾斜面的端部9平坦面10縫隙狀排出口11、12端板具體實(shí)施方式
下面，基于附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖1是本發(fā)明所述的縫隙嘴整體的立體圖，圖2是沿圖1的A-A線的截面圖，圖3是沿圖2的B-B的向視方向圖，圖4是形成蓄留部的嘴半體的截面放大圖，圖5是嘴下端部的截面放大圖。
縫隙嘴是按如下方式構(gòu)成的，即對(duì)接左右的嘴半體1、2，用螺栓3將它們結(jié)合成一體，一方的嘴半體1的與嘴半體2相面對(duì)的面上形成有涂敷液的第1蓄留部4以及第2蓄留部5。
第1蓄留部4被設(shè)置在穿到嘴半體1的厚度方向(圖2的左右方向)的大約將近一半的深度的地方，它的截面形狀是寬度相同，傾斜而成并隨著深度不斷變深而變得越來(lái)越高。此外，如圖3所示，在第1蓄留部4的嘴半體1的與嘴半體2相面對(duì)的面上設(shè)有開口部分，該開口部分形成為寬度方向(圖3的左右方向)的中央部最高、兩端變低的山形形狀，變得最高的中央部處是與涂敷液供給孔6相連通的。此外，在變得最高的中央部上連通有排氣孔7。
在上述第1蓄留部4的下側(cè)連續(xù)形成第2蓄留部5，它的深度是以嘴半體1的厚度方向?yàn)榛鶞?zhǔn)而小于上述第1蓄留部4。將該第2蓄留部5的下邊設(shè)計(jì)成為嘴半體1的寬度方向的中央部最低，隨著向兩端不斷延伸而越來(lái)越高的V字狀傾斜面8，形成的中央部比傾斜面8的兩端8a、8a低0.5～3mm。
上述V字狀傾斜面8的兩端可以延伸到嘴的兩端，但是在該實(shí)施例中，使傾斜面8的兩端8a、8a從嘴的兩端起位于內(nèi)側(cè)。具體而言，兩端8a、8a是將根據(jù)作為現(xiàn)有技術(shù)的圖6中所示的流下量的大小關(guān)系而得出的流下量變多的點(diǎn)，選定為當(dāng)?shù)?蓄留部5的下邊為水平時(shí)涂敷液的流下量變得最多的點(diǎn)。這樣就可使涂敷更加均一。
此外，在第2蓄留部5的下側(cè)連續(xù)形成平坦面9，在該平坦面9與另一方的嘴半體2之間形成開口，在該開口的下端形成縫隙狀排出口10。
此外，為了防止從第1蓄留部4、第2蓄留部5以及開口漏出涂敷液，可在嘴的兩端安裝端板11、12，此外，在設(shè)定嘴半體1、2的下部?jī)A斜面1a、2a的角度時(shí)，與水平面所成的夾角大約為30～60°。
如上所述，由于第1蓄留部4是山形，所以從涂敷液供給孔6流入第1蓄留部4中的涂敷液，也就是現(xiàn)有技術(shù)中常集中在中央部的涂敷液會(huì)均等分配在左右，而且流入第2蓄留部5中。
若該第2蓄留部5的下邊為水平時(shí)，則有流下量在兩側(cè)比其它地方變多的傾向，然而將第2蓄留部5的下邊做成V字狀傾斜面后，這樣就可使流下量均一。
權(quán)利要求
1.一種縫隙嘴，在2個(gè)嘴半體的結(jié)合狀態(tài)下，該縫隙嘴形成向下方開口的縫隙狀排出口，其特征在于，在上述2個(gè)嘴半體中的一方上形成涂敷液的第1蓄留部，在與該第1蓄留部相連續(xù)的下側(cè)形成第2蓄留部，該第2蓄留部以嘴半體的厚度方向?yàn)榛鶞?zhǔn)而淺于上述第1蓄留部，在與該第2蓄留部相連續(xù)的下側(cè)設(shè)置平坦面，在平坦面與另一方的嘴半體之間形成下端為縫隙狀排出口的開口，上述第1蓄留部按如下方式形成山形，即與形成在嘴半體的寬度方向的中央部上的涂敷液供給孔相連通的地方最高而兩端變低，此外，上述第2蓄留部的下邊形成嘴半體的寬度方向的中央部最低，隨著向兩端不斷延伸而越來(lái)越高的V字狀傾斜面。
2.如權(quán)利要求1所述的縫隙嘴，其特征在于，以上述V字狀傾斜面的兩端的始點(diǎn)，作為當(dāng)上述第2蓄留部的下邊為直線狀時(shí)涂敷液的流下量變得最多的點(diǎn)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種縫隙嘴，該縫隙嘴可使在基板上形成的涂膜厚度均一。在嘴半體(1)的與嘴半體(2)相面對(duì)的面上形成有涂敷液的第1蓄留部(4)以及第2蓄留部(5)。第1蓄留部(4)按如下方式形成山形，即寬度方向的中央部最高而兩端變低，變得最高的中央部是與涂敷液供給孔(6)相連通的。此外，在變得最高的中央部上連通有排氣孔(7)。在上述第1蓄留部(4)的下側(cè)連續(xù)形成有第2蓄留部(5)，它的深度是以嘴半體(1)的厚度方向?yàn)榛鶞?zhǔn)而淺于上述第1蓄留部(4)。將該第2蓄留部(5)的下邊設(shè)計(jì)成嘴半體(1)的寬度方向的中央部最低，隨著向兩端不斷延伸而越來(lái)越高的V字狀傾斜面(8)。
文檔編號(hào)B05C5/02GK1806934SQ20061000613
公開日2006年7月26日 申請(qǐng)日期2006年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月19日
發(fā)明者高瀨真治, 山口和伸, 中西達(dá), 楫間淳生 申請(qǐng)人:東京応化工業(yè)株式會(huì)社