專利名稱：狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及清洗裝置，特別涉及一種狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置。
背景技術：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜場效應晶體管顯示器)面板制造行業(yè)當中，面板制造流程通常需要用到狹縫涂布機噴嘴來涂布光刻膠， 狹縫涂布機噴嘴經過一段時間涂布動作之后都需要進行清洗。現(xiàn)有的狹縫涂布機噴嘴包括兩個斜面和一噴嘴面。上述噴嘴面上設有用于涂布光阻劑的狹縫。目前，狹縫涂布機噴嘴的兩個斜面是使用清洗裝置清洗，而狹縫的光阻劑是需要人工使用疏通薄膜進行疏通。然而， 人工疏通時，需要打開設備防護門，導致產生微粒和顆粒污染狹縫涂布機噴嘴，清洗起來工時也較長。

實用新型內容本實用新型的主要目的是提供一種狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，旨在可以減少污染，節(jié)省工時。本實用新型提出一種狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，包括一本體，所述本體上設置有一用于接收一狹縫涂布機噴嘴的接收槽，所述接收槽包括一第一斜面、一第二斜面和連接第一斜面與第二斜面的一連接面，所述第一斜面、第二斜面上分別形成有多個用于清洗劑噴出的注入孔，所述連接面上形成有一插口，上述插口中插接有一用于疏通狹縫涂布機噴嘴的疏通薄膜。優(yōu)選地，所述插口形成于連接面的中間位置。優(yōu)選地，所述疏通薄膜垂直于上述連接面插接在插口內。優(yōu)選地，所述清洗裝置還包括一引導架，上述引導架用于引導狹縫涂布機噴嘴垂直下移到接收槽中。優(yōu)選地，上述清洗裝置還包括一驅動所述本體沿接收槽的長度方向運動的電機。優(yōu)選地，所述接收槽的截面為倒梯形。優(yōu)選地，所述插口的寬度為40至lOOum。 優(yōu)選地，所述插口的深度為2 5mm。優(yōu)選地，所述插口的寬度與所述疏通薄膜的厚度均為50um。本實用新型的清洗裝置的兩個斜面可以用來清洗狹縫涂布機噴嘴的兩個斜面，插口內的疏通薄膜可以用來疏通狹縫涂布機噴嘴的狹縫，不再需要人工來疏通狹縫涂布機噴嘴，可避免因打開設備防護門而產生較多的微粒、顆粒。另外，本實用新型的清洗裝置清洗狹縫涂布機噴嘴的兩個斜面和疏通狹縫可同時進行，節(jié)省工時。

圖1為本實用新型的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置第一實施例的立體結構示意圖；[0015]圖2為圖1所示的清洗裝置所清洗的狹縫涂布機噴嘴的立體結構示意圖；圖3為圖1所示的清洗裝置清洗狹縫涂布機噴嘴的剖面結構示意圖。本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施方式
應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。參照圖1，圖1為本實用新型的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置的第一實施例的立體結構示意圖。該清洗裝置包括一本體100，本體100上形成有一用于接收狹縫涂布機噴嘴的接收槽101，接收槽101包括一第一斜面102、一第二斜面103和一連接第一斜面102與第二斜面103的連接面104，連接面104設置在接收槽101的底部，第一斜面102、第二斜面 103上分別形成有多個用于噴出清洗劑的注入孔105。連接面104上形成有一用于插接疏通薄膜107的插口 106。插口 106形成于連接面104的中間位置。疏通薄膜107通過人工或機器設備垂直于上述連接面104插接在插口 106內。上述清洗裝置還包括一電機(圖未示)，用于驅動所述本體100沿所述接收槽101 的長度方向運動。本實施例中，插口 106的深度為2 5mm，寬度為40至IOOum ；疏通薄膜107的厚度與插口 106的寬度是相對應適配的，疏通薄膜107能剛剛好插緊在插口 106內。插口 106 的寬度與疏通薄膜107的厚度優(yōu)選為50um。疏通薄膜107采用的是硬度較強的金屬材料制成，如鋼片、銅片等。在其它實施例中，疏通薄膜107的厚度和插口 106的寬度可根據實際清洗的噴嘴的狹縫來確定，以便于能起到更好的清洗作用。參照圖2和圖3，圖2為圖1所示的清洗裝置所清洗的狹縫涂布機噴嘴的立體結構示意圖，圖3為圖1所示的清洗裝置清洗狹縫涂布機噴嘴的剖面結構示意圖。狹縫涂布機噴嘴200的底部包括一第三斜面201、一第四斜面202和一噴嘴面203。狹縫涂布機噴嘴200 的頂部設有一孔洞204，內部設有一與該孔洞204相通的腔體205和一與腔體205相通的狹縫206，光阻劑從該孔洞204注入狹縫涂布機噴嘴200內，被存放于狹縫涂布機噴嘴200內的腔體205中，以供清洗狹縫206用。所述狹縫涂布機噴嘴200的第三斜面201、第四斜面202和噴嘴面203分別與所述清洗裝置的第一斜面102、第二斜面103、連接面104相適配。上述清洗裝置的接收槽101 的橫截面和狹縫涂布機噴嘴200的橫截面均為倒梯形，相適配連接。使用本實用新型的清洗裝置時，先在清洗裝置的接收槽101底部上的插口 106插接上述疏通薄膜107，再將需清洗的狹縫涂布機噴嘴200的底部放至清洗裝置的接收槽101 內，同時疏通薄膜107插入狹縫涂布機噴嘴的狹縫206，第一斜面102、第二斜面103上的注入孔105噴出清洗劑清洗狹縫涂布機噴嘴200的第三斜面201和第四斜面202，在清洗的過程中，光阻劑從狹縫涂布機噴嘴200的狹縫206中流出，同時電機帶動本體100沿著接收槽 101的長度方向來回移動，使得疏通薄膜107在狹縫206內來回移動，以便疏通狹縫206。本實用新型的清洗裝置可直接清洗和疏通狹縫涂布機噴嘴200，不再需要人工來疏通狹縫涂布機噴嘴，可避免因打開設備防護門而產生較多的微粒、顆粒。另外，本實用新型的清洗裝置清洗狹縫涂布機噴嘴200的兩個斜面201、202和疏通狹縫206可同時進行，節(jié)省工時。本實用新型第二實施例的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置與第一實施例的清洗裝置大致相同，其區(qū)別之處在于第二實施例的清洗裝置進一步包括一引導架(圖未示)，上述引導架用于引導狹縫涂布機噴嘴200垂直下移到接收槽101中，使疏通薄膜107剛好插進狹縫206內。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍， 凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。
權利要求1.一種狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，包括一本體，其特征在于，所述本體上設置有一用于接收一狹縫涂布機噴嘴的接收槽，所述接收槽包括一第一斜面、一第二斜面和連接上述兩個斜面的一連接面，所述第一斜面、第二斜面上分別形成有多個用于清洗劑噴出的注入孔，所述連接面上形成有一插口，上述插口中插接有一用于疏通狹縫涂布機噴嘴的疏通薄膜。
2.根據權利要求1所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述插口形成于連接面的中間位置。
3.根據權利要求2所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述疏通薄膜垂直于上述連接面插接在插口內。
4.根據權利要求3所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括一引導架，上述引導架用于引導狹縫涂布機噴嘴垂直下移到接收槽中。
5.根據權利要求1所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，上述清洗裝置還包括一驅動所述本體沿接收槽的長度方向運動的電機。
6.根據權利要求1所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述接收槽的截面為倒梯形。
7.根據權利要求1所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述插口的寬度為40至lOOum，上述疏通薄膜的厚度與插口的寬度相適配。
8.根據權利要求7所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述插口的深度為2 5mm0
9.根據權利要求7所述的狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，其特征在于，所述插口的寬度與所述疏通薄膜的厚度均為50um。
專利摘要本實用新型公開一種狹縫涂布機噴嘴的清洗裝置，包括一本體，所述本體上設置有一用于接收一狹縫涂布機噴嘴的接收槽，所述接收槽包括一第一斜面、一第二斜面和連接第一斜面與第二斜面的一連接面，所述第一斜面、第二斜面上分別形成有多個用于清洗劑噴出的注入孔，所述連接面上形成有一插口，上述插口中插接有一用于疏通狹縫涂布機噴嘴的疏通薄膜。本實用新型的清洗裝置可同時清洗和疏通狹縫涂布機噴嘴，清洗起來污染少，工時短。
文檔編號B05B15/02GK202087472SQ20112014688
公開日2011年12月28日 申請日期2011年5月10日 優(yōu)先權日2011年5月10日
發(fā)明者王江 申請人:深圳市華星光電技術有限公司