一種電催化氧化處理設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電催化氧化處理設(shè)備，包括電解槽、電極板、伸縮桿、電機(jī)和刮板，電解槽為上下兩層結(jié)構(gòu)，上層為電解層，下層為沉積層，電解槽之間的隔板上設(shè)置有通孔；電極板設(shè)置于上層電解層內(nèi)；電機(jī)設(shè)置于下層沉積層的外部，與電機(jī)相連的伸縮桿水平穿入電解槽，并與刮板相連；電機(jī)所在電解槽的下方設(shè)置有出污口；通過(guò)利用雙層設(shè)計(jì)，利用中間隔層的設(shè)計(jì)，在上時(shí)間處理廢水過(guò)程中，沉淀主要出于下層，隨時(shí)封閉隔層，對(duì)下層的空間利用刮板進(jìn)行清空處理，將主要雜質(zhì)出料后，利用水槍對(duì)四壁在進(jìn)行沖洗，其工作量和用水量大大降低，同時(shí)不影響上層的工作，處理完后下部繼續(xù)進(jìn)液，充滿后隔層通孔打開(kāi)，繼續(xù)處理。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種電催化氧化處理設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種電催化處理廢水的設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)階段市場(chǎng)中使用的電催化氧化設(shè)備一般都是箱式的處理槽，一些大型的處理設(shè) 備也是做成大的水池形式，在處理槽或水池中插入電極板進(jìn)行電催化氧化處理，此類(lèi)設(shè)備 在使用過(guò)程中，廢水使用量大，會(huì)在底部沉積大量的雜質(zhì)，對(duì)雜質(zhì)的處理一般都利用高壓水 槍進(jìn)行高壓沖洗，其處理時(shí)間長(zhǎng)，且對(duì)用水量大，消耗的人力、物力大，所用急需一種可以快 速高效處理的電催化氧化設(shè)備。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 針對(duì)上述所說(shuō)的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種結(jié)果簡(jiǎn)單、對(duì)底部沉積處理效果好， 節(jié)約人力、物力高的電催化氧化設(shè)備。
[0004] -種電催化氧化處理設(shè)備，包括電解槽、電極板、伸縮桿、電機(jī)和刮板，所述電解槽 為上下兩層結(jié)構(gòu)，上層為電解層，下層為沉積層，電解槽之間的隔板上設(shè)置有通孔；所述電 極板設(shè)置于上層電解層內(nèi)；所述電機(jī)設(shè)置于下層沉積層的外部，與電機(jī)相連的伸縮桿水平 穿入電解槽，并與刮板相連；所述電機(jī)所在電解槽的下方設(shè)置有出污口；所述電解槽沉積 層的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有進(jìn)液口，在電解層側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有出液口。
[0005] 所述隔板上的通孔為可封閉式設(shè)置。
[0006] 還包括高壓水槍?zhuān)龈邏核畼屌c進(jìn)液口連接。
[0007] 所述電極板為石墨電極板。
[0008] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有的有益效果為：通過(guò)利用雙層設(shè)計(jì)，利用中間隔層的設(shè)計(jì)， 在上時(shí)間處理廢水過(guò)程中，沉淀主要出于下層，隨時(shí)封閉隔層，對(duì)下層的空間利用刮板進(jìn)行 清空處理，將主要雜質(zhì)出料后，利用水槍對(duì)四壁在進(jìn)行沖洗，其工作量和用水量大大降低， 同時(shí)不影響上層的工作，處理完后下部繼續(xù)進(jìn)液，充滿后隔層通孔打開(kāi)，繼續(xù)處理。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0009] 圖1為本實(shí)用新型立體結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0010] 實(shí)施例1，圖1為本實(shí)用新型電催化氧化處理設(shè)備的一種實(shí)施例，包括電解槽1、電 極板2、伸縮桿3、電機(jī)4和刮板5,電解槽1為上下兩層結(jié)構(gòu)，上層為電解層，下層為沉積層， 電解槽1上、下層之間的隔板6上設(shè)置有通孔，通孔可通過(guò)控制器設(shè)置為可自由封閉和打開(kāi) 結(jié)構(gòu)，電極板2設(shè)置于上層電解層內(nèi)；電機(jī)4設(shè)置于下層沉積層的外部，與電機(jī)相連的伸縮 桿3水平穿入電解槽1，并與刮板5相連，通過(guò)電機(jī)4帶動(dòng)伸縮桿3帶動(dòng)刮板5在沉積層內(nèi) 形成來(lái)回移動(dòng)，達(dá)到清理沉積物的動(dòng)作，所述電機(jī)4所在電解槽1的下方設(shè)置有出污口 7,出 污口 7為外開(kāi)式設(shè)置，為密封結(jié)構(gòu)，所述電解槽1沉積層的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有進(jìn)液口 8,進(jìn)液口 8為多個(gè)設(shè)置，在一個(gè)進(jìn)液口處連接設(shè)置有高壓水槍?zhuān)谶M(jìn)液口上方設(shè)置有密封設(shè)置的開(kāi)口 10,高壓水槍可從開(kāi)口 10進(jìn)入，進(jìn)行高壓清理，在電解層側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有出液口 9,電極為石 墨電極。
【權(quán)利要求】
1. 一種電催化氧化處理設(shè)備，其特征在于，包括電解槽、電極板、伸縮桿、電機(jī)和刮板， 所述電解槽為上下兩層結(jié)構(gòu)，上層為電解層，下層為沉積層，電解槽之間的隔板上設(shè)置有通 孔；所述電極板設(shè)置于上層電解層內(nèi)；所述電機(jī)設(shè)置于下層沉積層的外部，與電機(jī)相連的 伸縮桿水平穿入電解槽，并與刮板相連；所述電機(jī)所在電解槽的下方設(shè)置有出污口；所述 電解槽沉積層的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有進(jìn)液口，在電解層側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有出液口。
2. 如權(quán)利要求1所述電催化氧化處理設(shè)備，其特征在于，所述隔板上的通孔為可封閉 式設(shè)置。
3. 如權(quán)利要求1所述電催化氧化處理設(shè)備，其特征在于，還包括高壓水槍?zhuān)龈邏核?槍與進(jìn)液口連接。
4. 如權(quán)利要求1所述電催化氧化處理設(shè)備，其特征在于，所述電極板為石墨電極板。
【文檔編號(hào)】C02F1/72GK204022531SQ201420478593
【公開(kāi)日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2014年8月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月25日
【發(fā)明者】徐根華 申請(qǐng)人:南京大學(xué)連云港高新技術(shù)研究院