一種單溝式氧化溝污水處理裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于污水處理裝置領域，具體涉及一種單溝式氧化溝污水處理裝置。
【背景技術】
[0002]水污染是指排入水體的污染物在數量上超過該物質在水體中的本底含量和水體的環(huán)境容量，從而導致水體的物理性質、化學性質和生物學性質發(fā)生變化，使水體固有的生態(tài)系統(tǒng)和水體功能受到破壞。
[0003]近年來，我國有關部門在水源保護方面作了許多工作，但是，由于各種條件的制約，全國水源污染仍呈發(fā)展趨勢，有90%以上的城市水域污染嚴重，近50%的重點城鎮(zhèn)水源水質不符合飲用水源的水質標準。由此可見，雖然近年來我國在水污染防治方面做了許多工作，但不少江河湖泊的水質仍在逐漸變差。在這種情況下，在我國淡水資源本來就十分緊缺的前提下，完全不使用受到污染的淡水水源越來越不可能。也就是說，我國自來水廠不得不面臨著使用更多的水質不符合要求的受污染原水作為生活飲用水的水源。
[0004]目前，我國污水處理面臨三個最突出的問題:1)資金嚴重不；2)污水處理水平低；3)污水處理的運行機制不合理。

【發(fā)明內容】

[0005]為了解決上述技術問題，本發(fā)明提供一種單溝式氧化溝污水處理裝置，所述一種單溝式氧化溝污水處理裝置，包括位于支架8底部的污水池1，位于支架8上方的環(huán)形氧化溝3，與污水池1底部和環(huán)形氧化溝3左后側相連的進水裝置2，位于環(huán)形氧化溝3左后側的曝氣裝置4，位于曝氣裝置4右側的攪拌裝置5，位于環(huán)形氧化池3右前方的排水裝置6，位于環(huán)形氧化池3左前方的穩(wěn)流排渣裝置7，以及系統(tǒng)控制器9。
[0006]進一步地，所述排水裝置6包括:排水槽6-1、水位傳感器6-2、排水開關6-3和排水管6-4;排水槽6-1位于環(huán)形氧化溝3右前部，排水槽6-1為上端水平下端向右上方傾斜，左側豎直右側開口的梯形槽結構，排水槽6-1前后壁與環(huán)形氧化溝3前后池壁無縫焊接，排水槽
6-1槽體上部至環(huán)形氧化溝3上檐口距離為10cm-15cm;水位傳感器6-2位于排水槽6-1上方，水位傳感器6-2與排水槽6-1槽體上部的距離為5cm，水位傳感器6-2與系統(tǒng)控制器9通過導線連接;排水開關6-3位于環(huán)形氧化溝3右前方外部，排水開關6-3貫通環(huán)形氧化溝3前部池壁與排水槽6-1前方槽壁無縫焊接，排水開關6-3下端與排水管6-4無縫連接;排水管6-4位于排水開關6-3正下方。
[0007]進一步地，所述穩(wěn)流排渣裝置7包括:刮板7-1、集渣槽7-2、穩(wěn)流板7-3和排渣管7-4;刮板7-1位于環(huán)形氧化溝3左前方中部位置，刮板7-1左側與穩(wěn)流板7-3連接，刮板7-1板面與環(huán)形氧化溝3底面垂直，刮板3上部距環(huán)形氧化溝3上檐口的距離為5cm;集渣槽7-2位于環(huán)形氧化溝3前后溝壁外側，集渣槽7-2左側與穩(wěn)流板7-3連接，集渣槽7-2為上部和靠近環(huán)形氧化溝3內壁部分開口的長方體結構;穩(wěn)流板7-3位于環(huán)形氧化溝3左前方，穩(wěn)流板7-3上部與環(huán)形氧化溝3上檐口齊平，穩(wěn)流板7-3前后壁與環(huán)形氧化溝3前后壁無縫焊接，穩(wěn)流板7-3下方距環(huán)形氧化溝3上檐口的距離為30cm-40cm;排渣管7-4位于集渣槽7-2正下方，排渣管7-4上方與集渣槽7-2下部槽體相貫通且無縫焊接。
[0008]工作本發(fā)明專利公開的一種單溝式氧化溝污水處理裝置，其優(yōu)點在于:
[0009](1)該裝置采用氧化溝法處理污水，可使處理效果更好。
[0010](2)該裝置占用空間少，結構合理，處理效率高。
[0011](3)該裝置可以處理間歇式或者連續(xù)式排放的污水，適用范圍廣擴。
[0012]本發(fā)明所述的一種單溝式氧化溝污水處理裝置結構新穎合理，能耗低，效率高，適用范圍廣闊。
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明中所述的一種單溝式氧化溝污水處理裝置的示意圖。
[0014]圖2為本發(fā)明中所述的排水裝置的示意圖。
[0015]圖3為本發(fā)明中所述的穩(wěn)流排渣裝置的示意圖。
[0016]以上圖1?圖3中，1為污水池，2為進水裝置，3為環(huán)形氧化溝，4為曝氣裝置，5為攪拌裝置，6為排水裝置，6-1為排水槽，6-2為水位傳感器，6-3為排水開關，6-4為排水管，7為穩(wěn)流排渣裝置，7-1為刮板，7-2為集渣槽，7-3為穩(wěn)流板，7-4為排渣管，8為支架，9為系統(tǒng)控制器。
【具體實施方式】
[0017]下面結合附圖對本發(fā)明提供的一種單溝式氧化溝污水處理裝置進行進一步說明。
[0018]如圖1所示，為本發(fā)明提供的一種單溝式氧化溝污水處理裝置示意圖，包括污水池
1、進水裝置2、環(huán)形氧化溝3、曝氣裝置4、攪拌裝置5、排水裝置6、穩(wěn)流排渣裝置7、支架8和系統(tǒng)控制器;進水裝置2將污水從污水池1輸送至環(huán)形氧化溝3左側靠后位置，曝氣裝置4將空氣持續(xù)輸送至環(huán)形氧化溝3左后方底部，位于曝氣裝置4右側的攪拌裝置5將污水和空氣進行攪拌混合，水流在環(huán)形氧化溝3內按順時針方向流動，當水流至位于環(huán)形氧化池3右前方的排水裝置6時，清水從排水裝置6排出，剩余的未反應完全水繼續(xù)沿順時針方向流動，水流在環(huán)形氧化溝3左前方經過穩(wěn)流排渣裝置7后，浮渣沿穩(wěn)流排渣裝置7排出，未反應完全水從穩(wěn)流排渣裝置7底部流過，在環(huán)形氧化溝3內循環(huán)流動直至反應完全。
[0019]如圖1?圖2所示，所述排水裝置6由排水槽6-1、水位傳感器6-2、排水開關6_3和排水管6-4組成；當環(huán)形氧化溝3水位上升至水位傳感器6-2所在位置時，水位傳感器6-2發(fā)送信號至系統(tǒng)控制器9，系統(tǒng)控制器9控制排水開關6-3開啟，清水從排水槽6-1經過排水開關
6-3最終從排水管6-4排出，當水位下降至水位傳感器6-2下部后，水位傳感器6-2發(fā)送信號至系統(tǒng)控制器9，系統(tǒng)控制器9則控制排水開關6-3關閉，停止排水。
[0020]如圖1和圖3所示，所述穩(wěn)流排渣裝置7由刮板7-1、集渣槽7-2、穩(wěn)流板7-3和排渣管
7-4組成;刮板7-1以與穩(wěn)流板7-3相連接部位為中心，在水平面上做180°往復轉動，浮渣被刮板7-1刮送至集渣槽7-2后經排渣管7-4排出，未反應完全水經穩(wěn)流板7-3穩(wěn)流后從穩(wěn)流板
7-3底部流過。
[0021]本發(fā)明所述的一種單溝式氧化溝污水處理裝置的工作過程是:
[0022]進水裝置2將污水從污水池1輸送至環(huán)形氧化溝3左側靠后位置，曝氣裝置4將空氣持續(xù)輸送至環(huán)形氧化溝3左后方底部，位于曝氣裝置4右側的攪拌裝置5將污水和空氣進行攪拌混合，水流在環(huán)形氧化溝3內按順時針方向流動，當水流至位于環(huán)形氧化池3右前方的排水裝置6且環(huán)形氧化溝3水位上升至水位傳感器6-2所在位置時，水位傳感器6-2發(fā)送信號至系統(tǒng)控制器9，系統(tǒng)控制器9控制排水開關6-3開啟，清水從排水槽6-1經過排水開關6-3最終從排水管6-4排出，當水位下降至水位傳感器6-2下部后，水位傳感器6-2發(fā)送信號至系統(tǒng)控制器9，系統(tǒng)控制器9則控制排水開關6-3關閉，停止排水，剩余的未反應完全水繼續(xù)沿順時針方向流動，水流在環(huán)形氧化溝3左前方經過穩(wěn)流排渣裝置7后，浮渣被刮板7-1刮送至集渣槽7-2后經排渣管7-4排出，未反應完全水經穩(wěn)流板7-3穩(wěn)流后從穩(wěn)流板7-3底部流過，未反應完全水在環(huán)形氧化溝3內循環(huán)流動直至反應完全為止。
[0023]本發(fā)明所述的一種單溝式氧化溝污水處理裝置結構新穎合理，能耗低，效率高，適用范圍廣闊。
【主權項】
1.一種單溝式氧化溝污水處理裝置，其特征在于，包括位于支架(8)底部的污水池(1)，位于支架(8)上方的環(huán)形氧化溝(3)，與污水池(1)底部和環(huán)形氧化溝(3)左后側相連的進水裝置(2)，位于環(huán)形氧化溝(3)左后側的曝氣裝置(4)，位于曝氣裝置(4)右側的攪拌裝置(5)，位于環(huán)形氧化池(3)右前方的排水裝置(6)，位于環(huán)形氧化池(3)左前方的穩(wěn)流排渣裝置(7)，以及系統(tǒng)控制器(9)。2.根據權利要求1所述的一種單溝式氧化溝污水處理裝置，其特征在于，所述排水裝置(6)包括:排水槽(6-1)、水位傳感器(6-2)、排水開關(6-3)和排水管(6-4);排水槽(6_1)位于環(huán)形氧化溝(3)右前部，排水槽(6-1)為上端水平下端向右上方傾斜，左側豎直右側開口的梯形槽結構，排水槽(6-1)前后壁與環(huán)形氧化溝(3)前后池壁無縫焊接，排水槽(6-1)槽體上部至環(huán)形氧化溝(3)上檐口距離為10cm-15cm;水位傳感器(6-2)位于排水槽(6-1)上方，水位傳感器(6-2)與排水槽(6-1)槽體上部的距離為5cm，水位傳感器(6-2)與系統(tǒng)控制器(9)通過導線連接;排水開關(6-3)位于環(huán)形氧化溝(3)右前方外部，排水開關(6-3)貫通環(huán)形氧化溝(3)前部池壁與排水槽(6-1)前方槽壁無縫焊接，排水開關(6-3)下端與排水管(6-4)無縫連接;排水管(6-4)位于排水開關(6-3)正下方。3.根據權利要求1所述的一種單溝式氧化溝污水處理裝置，其特征在于，所述穩(wěn)流排渣裝置(7)包括:刮板(7-1)、集渣槽(7-2)、穩(wěn)流板(7-3)和排渣管(7-4);刮板(7-1)位于環(huán)形氧化溝(3)左前方中部位置，刮板(7-1)左側與穩(wěn)流板(7-3)連接，刮板(7-1)板面與環(huán)形氧化溝(3)底面垂直，刮板(7-1)上部距環(huán)形氧化溝(3)上檐口的距離為5cm;集渣槽(7-2)位于環(huán)形氧化溝(3)前后溝壁外側，集渣槽(7-2)左側與穩(wěn)流板(7-3)連接，集渣槽(7-2)為上部和靠近環(huán)形氧化溝(3)內壁部分開口的長方體結構;穩(wěn)流板(7-3)位于環(huán)形氧化溝(3)左前方，穩(wěn)流板(7-3)上部與環(huán)形氧化溝(3)上檐口齊平，穩(wěn)流板(7-3)前后壁與環(huán)形氧化溝(3)前后壁無縫焊接，穩(wěn)流板(7-3)下方距環(huán)形氧化溝(3)上檐口的距離為30cm-40cm;排渣管(7-4)位于集渣槽(7-2)正下方，排渣管(7-4)上方與集渣槽(7-2)下部槽體相貫通且無縫焊接。
【專利摘要】本實用新型公開了一種單溝式氧化溝污水處理裝置，由污水池、進水裝置、環(huán)形氧化溝、曝氣裝置、攪拌裝置、排水裝置、穩(wěn)流排渣裝置、支架和系統(tǒng)控制器組成；進水裝置將污水從污水池輸送至環(huán)形氧化溝左側靠后位置，曝氣裝置將空氣持續(xù)輸送至環(huán)形氧化溝左后方底部，位于曝氣裝置右側的攪拌裝置將污水和空氣進行攪拌混合，水流在環(huán)形氧化溝內按順時針方向流動，當水流至排水裝置時，清水從排水裝置排出，剩余的未反應完全水繼續(xù)沿順時針方向流動，水流在環(huán)形氧化溝左前方經過穩(wěn)流排渣裝置后，浮渣沿穩(wěn)流排渣裝置排出，未反應完全水從穩(wěn)流排渣裝置底部流過，在環(huán)形氧化溝內循環(huán)流動直至反應完全。本實用新型所述的一種單溝式氧化溝污水處理裝置結構新穎合理，能耗低，效率高，適用范圍廣闊。
【IPC分類】C02F3/02
【公開號】CN205087989
【申請?zhí)枴緾N201520880489
【發(fā)明人】梁峙, 梁驍
【申請人】徐州工程學院
【公開日】2016年3月16日
【申請日】2015年11月7日