一種蝕刻機的清洗裝置的制造方法
【專利摘要】一種蝕刻機的清洗裝置，包括清洗機箱、清洗區(qū)、輸送帶、清洗裝置、清洗液回收槽，所述清洗機箱內(nèi)設(shè)置有清洗區(qū)，所述輸送帶貫穿在清洗區(qū)內(nèi)，所述清洗區(qū)上方的清洗機箱上設(shè)置有清洗裝置，所述清洗機箱下端設(shè)置有清洗液回收槽，所述清洗液回收槽與排出管道連接。通過在清洗區(qū)上方安裝清洗裝置，清洗裝置通過若干個清洗噴頭對輸送滾筒上的蝕刻工件進行清洗，在輸送過程中實現(xiàn)清洗，進一步提高了清洗效率，而且清洗液通過回收槽進行回收處理，在減少人工成本的同時也提高了生產(chǎn)效率，清洗均勻，并且通過調(diào)節(jié)輸送滾筒的傳輸速度，從而控制清洗速度。
【專利說明】
一種蝕刻機的清洗裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種金屬加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種蝕刻機的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]蝕刻機可以分為化學(xué)蝕刻機及電解蝕刻機兩類，在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達到蝕刻的目的?；瘜W(xué)蝕刻是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻機常用于硅片、半導(dǎo)體、電路板、金屬制品蝕刻花紋等領(lǐng)域。目前，市場上所見到的自動型化學(xué)蝕刻機是通過滾軸式進行腐蝕，但腐蝕不均勻，合格率低，腐蝕速度慢，并且生產(chǎn)效率低。另外，還有一種蝕刻機，一般采用人工或機械手將裝有被腐蝕硅片的籃筐放入蝕刻槽中，人工或機械手將籃筐上下或左右的震動方式作業(yè)，蝕刻完成后主要通過人工進行清洗，不僅人工成本高，而且清洗不干凈，清洗效率低，清洗不均勻的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型提供一種清洗效果好、效率高、能夠?qū)Ω鞣N類型的工件實現(xiàn)清洗的蝕刻機清洗裝置。
[0004]本實用新型的技術(shù)方案為:一種蝕刻機的清洗裝置，包括清洗機箱、清洗區(qū)、輸送帶、清洗裝置、清洗液回收槽，所述清洗機箱內(nèi)設(shè)置有清洗區(qū)，所述輸送帶貫穿在清洗區(qū)內(nèi)，所述清洗區(qū)上方設(shè)置有清洗裝置，所述清洗機箱下端設(shè)置有清洗液回收槽，所述清洗液回收槽與排出管道連接。
[0005]所述輸送帶包括若干條輸送滾筒以及用于驅(qū)動輸送滾筒旋轉(zhuǎn)的伺服電機。
[0006]所述清洗裝置包括若干個設(shè)置在清洗機箱頂板上的清洗噴頭，以及與所述清洗噴頭連接的清洗管道。
[0007]所述清洗機箱一側(cè)設(shè)置有進料帶，所述進料帶包括若干個進料滾筒，所述清洗機箱另一側(cè)設(shè)置有出料帶，所述出料帶包括若干個出料滾筒。
[0008]本實用新型的有益效果為:通過在清洗區(qū)上方安裝清洗裝置，清洗裝置通過若干個清洗噴頭對輸送滾筒上的蝕刻工件進行清洗，在輸送過程中實現(xiàn)清洗，進一步提高了清洗效率，而且清洗液通過回收槽進行回收處理，在減少人工成本的同時也提高了生產(chǎn)效率，清洗均勻，并且通過調(diào)節(jié)輸送滾筒的傳輸速度，從而控制清洗速度。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中，1-清洗機箱，2-清洗區(qū)，3-輸送滾筒，4-清洗噴頭，5-清洗管道，6-清洗液回收槽，7-進料滾筒，8-出料滾筒。
【具體實施方式】
[0011 ]下面結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】作進一步說明:
[0012]如圖1所示，一種蝕刻機的清洗裝置，包括清洗機箱1、清洗區(qū)2、輸送帶、清洗裝置、清洗液回收槽6，所述清洗機箱I內(nèi)設(shè)置有清洗區(qū)2，所述輸送帶貫穿在清洗區(qū)2內(nèi)，所述清洗區(qū)2上方的清洗機箱I上設(shè)置有清洗裝置，所述清洗機箱I下端設(shè)置有清洗液回收槽6，所述清洗液回收槽6與排出管道連接。
[0013]所述輸送帶包括若干條輸送滾筒3以及用于驅(qū)動輸送滾筒旋轉(zhuǎn)的伺服電機。
[0014]所述清洗裝置包括若干個設(shè)置在清洗機箱I頂板上的清洗噴頭4，以及與所述清洗噴頭4連接的清洗管道5。
[0015]所述清洗機箱I左側(cè)設(shè)置有進料帶，所述進料帶包括若干個進料滾筒7，所述清洗機箱I右端設(shè)置有出料帶，所述出料帶包括若干個出料滾筒8。
[0016]上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理和最佳實施例，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種蝕刻機的清洗裝置，包括清洗機箱、清洗區(qū)、輸送帶、清洗裝置、清洗液回收槽，其特征在于:所述清洗機箱內(nèi)設(shè)置有清洗區(qū)，所述輸送帶貫穿在清洗區(qū)內(nèi)，所述清洗區(qū)上方設(shè)置有清洗裝置，所述清洗機箱下端設(shè)置有清洗液回收槽，所述清洗液回收槽與排出管道連接，所述清洗裝置包括若干個設(shè)置在清洗機箱頂板上的清洗噴頭以及與所述清洗噴頭連接的清洗管道，所述輸送帶包括若干條輸送滾筒以及用于驅(qū)動輸送滾筒旋轉(zhuǎn)的伺服電機，所述清洗機箱一側(cè)設(shè)置有進料帶，所述進料帶包括若干個進料滾筒，所述清洗機箱另一側(cè)設(shè)置有出料帶，所述出料帶包括若干個出料滾筒。
【文檔編號】B08B3/02GK205599566SQ201521108518
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2015年12月29日
【發(fā)明人】王超, 陳文化
【申請人】珠海藍(lán)冠電子科技有限公司