本發(fā)明涉及基片處理裝置、基片處理方法和存儲介質。

背景技術：

1、專利文獻1中公開了一種通過對多幀的拍攝圖像進行比較來檢測對基片釋放涂敷液的噴嘴內(nèi)的液面的位置的技術。

2、現(xiàn)有技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1：日本特開2021-44417號公報

技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的技術問題

2、本發(fā)明提供一種能夠高精度地檢測能夠對基片釋放涂敷液的噴嘴中的液面位置的基片處理裝置。

3、用于解決技術問題的手段

4、本發(fā)明的一個方面的基片處理裝置包括：能夠對基片釋放涂敷液的噴嘴；和能夠拍攝噴嘴的攝像機。而且，上述基片處理裝置包括檢測部，該檢測部能夠基于由攝像機拍攝到的噴嘴的圖像即拍攝噴嘴圖像，來檢測噴嘴中的液面位置。檢測部能夠執(zhí)行第一處理，基于拍攝噴嘴圖像和分類模型，對拍攝噴嘴圖像的噴嘴的液面狀態(tài)進行分類，其中，分類模型能夠根據(jù)噴嘴的圖像對噴嘴的液面狀態(tài)進行分類。檢測部能夠執(zhí)行：第二處理，對拍攝噴嘴圖像進行圖像分析；和第三處理，判斷第一處理中的分類的結果和第二處理中的圖像分析的結果是否為彼此不一致的不一致狀態(tài)。作為第四處理，檢測部能夠在第三處理中判斷為是不一致狀態(tài)的情況下，對拍攝噴嘴圖像進行規(guī)定的圖像處理，以使第二處理中的圖像分析的結果與第一處理中的分類的結果一致。而且，作為第四處理，檢測部能夠對圖像處理后的拍攝噴嘴圖像進行圖像分析。作為第五處理，檢測部能夠在第三處理中判斷為不是不一致狀態(tài)的情況下，根據(jù)第二處理中的圖像分析的結果來檢測液面位置。作為第五處理，檢測部能夠在第三處理中判斷為是不一致狀態(tài)的情況下，根據(jù)第四處理中的圖像分析的結果來檢測液面位置。

5、發(fā)明效果

6、采用本發(fā)明，能夠提供一種能夠高精度地檢測能夠對基片釋放涂敷液的噴嘴中的液面位置的基片處理裝置。

技術特征：

1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括：

2.如權利要求1所述的基片處理裝置，其特征在于：

3.如權利要求2所述的基片處理裝置，其特征在于：

4.如權利要求2所述的基片處理裝置，其特征在于：

5.如權利要求2所述的基片處理裝置，其特征在于：

6.如權利要求1～5中任一項所述的基片處理裝置，其特征在于：

7.如權利要求6所述的基片處理裝置，其特征在于：

8.如權利要求7所述的基片處理裝置，其特征在于：

9.如權利要求3所述的基片處理裝置，其特征在于：

10.一種基片處理方法，其基于由攝像機拍攝到的噴嘴的圖像即拍攝噴嘴圖像，來檢測所述噴嘴中的液面位置，其中，所述噴嘴能夠對基片釋放涂敷液，所述攝像機能夠拍攝所述噴嘴，所述基片處理方法的特征在于，包括：

11.一種計算機可讀取的存儲介質，其特征在于：

技術總結
本發(fā)明提供能夠高精度地檢測能夠對基片釋放涂敷液的噴嘴中的液面位置的基片處理裝置、基片處理方法和存儲介質。控制部能夠執(zhí)行對拍攝噴嘴圖像的噴嘴的液面狀態(tài)進行分類的第一處理?？刂撇磕軌驁?zhí)行對拍攝噴嘴圖像進行圖像分析的第二處理和判斷是否為不一致狀態(tài)的第三處理。控制部能夠對拍攝噴嘴圖像進行規(guī)定的圖像處理，以使第二處理中的圖像分析的結果與第一處理中的分類的結果一致?？刂撇磕軌驅D像處理后的拍攝噴嘴圖像進行圖像分析?？刂撇吭谂袛酁椴皇遣灰恢聽顟B(tài)的情況下，根據(jù)第二處理中的圖像分析的結果來檢測液面位置?？刂撇吭谂袛酁槭遣灰恢聽顟B(tài)的情況下，根據(jù)第四處理中的圖像分析的結果來檢測液面位置。

技術研發(fā)人員：大村和久
受保護的技術使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會社
技術研發(fā)日：
技術公布日：2024/10/21