降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置，包括罐體，所述罐體的內(nèi)腔頂部設(shè)置有進(jìn)料管，所述進(jìn)料管的出料端設(shè)置有噴頭，所述罐體的內(nèi)腔在噴頭下方從上到下順序間隔布置有上分配盤、下分配盤以及若干降膜管，所述上分配盤、下分配盤上布置有若干分配孔，所述下分配盤上還穿設(shè)有多個(gè)蒸汽導(dǎo)管，所述蒸汽導(dǎo)管的出口與降膜管的入口一一對(duì)準(zhǔn)。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，分液均勻、穩(wěn)定，生產(chǎn)結(jié)束后降膜管不結(jié)垢，上分配盤、下分配盤及其分配孔不掛垢，拆卸清洗方便。
【專利說明】
降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的液體分布器的主要缺陷是其本身容易掛詬，嚴(yán)重時(shí)發(fā)生堵塞，導(dǎo)致料液分配不均，產(chǎn)生偏流，降膜管易結(jié)焦，甚至局部降膜管干壁。分布器出現(xiàn)結(jié)垢后清洗困難。
[0003]導(dǎo)致料液分配不均的原因:一是進(jìn)料管直接上分配板上進(jìn)料，在料液的沖擊下分配板難以均料，大量料液來不及分配從邊緣流至下分配盤;二是二次蒸汽流對(duì)下分配盤的液流有一定影響。三是分配盤上料液分配孔大小及數(shù)量設(shè)置不合理。分配孔過小容易堵塞，分配孔過大或數(shù)量過多則會(huì)導(dǎo)致局部小孔發(fā)生斷料。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]鑒于現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理、高效降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置。
[0005]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置，包括罐體，所述罐體的內(nèi)腔頂部設(shè)置有進(jìn)料管，所述進(jìn)料管的出料端設(shè)置有噴頭，所述罐體的內(nèi)腔在噴頭下方從上到下順序間隔布置有上分配盤、下分配盤以及若干降膜管，所述上分配盤、下分配盤上布置有若干分配孔，所述下分配盤上還穿設(shè)有多個(gè)蒸汽導(dǎo)管，所述蒸汽導(dǎo)管的出口與降膜管的入口一一對(duì)準(zhǔn)。
[0006]優(yōu)選的，所述噴頭具有弧狀擋板，所述噴頭的噴射范圍覆蓋上分配盤的盤面。
[0007]優(yōu)選的，所述噴頭的弧狀擋板上設(shè)置有若干噴淋孔，所述噴淋孔的直徑為5mm，任意兩相鄰噴淋孔的孔距為12mm。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果:本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，具有弧狀擋板的噴頭使得料液呈噴淋狀進(jìn)入上分配盤，料液能夠覆蓋整個(gè)上分配盤的盤面，上分配盤的分配孔都有料液向下流淌，上分配盤與下分配盤中都保持一定的液位高度，下分配盤能將料液均勻穩(wěn)定的分配給各降膜管，生產(chǎn)結(jié)束后降膜管不結(jié)垢，分配盤及分配孔不掛垢，拆卸清洗方便。
[0009]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的構(gòu)造示意圖。
[0011 ]圖中:1-罐體，2-進(jìn)料管，3-噴頭，4-上分配盤，5-下分配盤，6-降膜管，7_蒸汽導(dǎo)管。
【具體實(shí)施方式】
[0012]為讓本實(shí)用新型的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下。
[0013]如圖1所示，一種降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置，包括罐體I，所述罐體I的內(nèi)腔頂部設(shè)置有進(jìn)料管2，所述進(jìn)料管2的出料端設(shè)置有噴頭3，所述罐體I的內(nèi)腔在噴頭3下方從上到下順序間隔布置有上分配盤4、下分配盤5以及若干降膜管6，所述上分配盤4、下分配盤5上布置有若干分配孔，所述下分配盤5上還穿設(shè)有多個(gè)蒸汽導(dǎo)管7，所述蒸汽導(dǎo)管7的出口與降膜管6的入口一一對(duì)準(zhǔn);所述蒸汽導(dǎo)管7能夠有效防止分配孔堵塞及二次蒸汽對(duì)液流產(chǎn)生影響。
[0014]在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述噴頭3具有弧狀擋板，所述噴頭3的噴射范圍覆蓋上分配盤4的盤面。
[0015]在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述噴頭3的弧狀擋板上設(shè)置有若干噴淋孔，所述噴淋孔的直徑為5_，任意兩相鄰噴淋孔的孔距為12_。
[0016]在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述上分配盤4的高度為160mm，所述下分配盤5的高度為50mm ο
[0017]本實(shí)用新型不局限于上述最佳實(shí)施方式，任何人在本實(shí)用新型的啟示下都可以得出其他各種形式的降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置。凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實(shí)用新型的涵蓋范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置，其特征在于:包括罐體，所述罐體的內(nèi)腔頂部設(shè)置有進(jìn)料管，所述進(jìn)料管的出料端設(shè)置有噴頭，所述罐體的內(nèi)腔在噴頭下方從上到下順序間隔布置有上分配盤、下分配盤以及若干降膜管，所述上分配盤、下分配盤上布置有若干分配孔，所述下分配盤上還穿設(shè)有多個(gè)蒸汽導(dǎo)管，所述蒸汽導(dǎo)管的出口與降膜管的入口 一一對(duì)準(zhǔn)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置，其特征在于:所述噴頭具有弧狀擋板，所述噴頭的噴射范圍覆蓋上分配盤的盤面。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的降膜蒸發(fā)器雙盤式液體分布裝置，其特征在于:所述噴頭的弧狀擋板上設(shè)置有若干噴淋孔，所述噴淋孔的直徑為5mm，任意兩相鄰噴淋孔的孔距為12mm。
【文檔編號(hào)】B01D1/30GK205412283SQ201620183095
【公開日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2016年3月11日
【發(fā)明人】董平凡
【申請(qǐng)人】福建省石油化學(xué)工業(yè)設(shè)計(jì)院