電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)，包括電解槽、陰極（2）、陽極（3），還包括隔膜板，所述的電解槽內(nèi)壁上有導入槽（4），所述隔膜板插入該導入槽（4），將所述電解槽分隔成陰電解槽（1）、陽電解槽（6）；所述隔膜板包括框架（7）、隔膜（5）。本發(fā)明適用于谷胱甘肽的制備。
【專利說明】
電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及化工工藝裝置，特別是制備谷胱甘肽的工藝裝置。
【背景技術】
[0002]谷胱甘肽(glutath1ne，GSH)是一種含γ-酰胺鍵和巰基的三肽，由谷氨酸、半胱氨酸及甘氨酸組成。存在于幾乎身體的每一個細胞。谷胱甘肽能幫助保持正常的免疫系統(tǒng)的功能，并具有抗氧化作用和整合解毒作用，半胱氨酸上的巰基為其活性基團(故常簡寫為G-SH)，谷胱甘肽原料生產(chǎn)幾乎被日本協(xié)和(KYOWA)發(fā)酵壟斷，因此谷胱甘肽價格一直居高不下。國內(nèi)缺乏批量生產(chǎn)能力，至今也僅有2家國家批準的原料藥生產(chǎn)廠家。抓緊開發(fā)研制并實現(xiàn)生產(chǎn)谷胱甘肽的產(chǎn)業(yè)化對我國醫(yī)藥工業(yè)、臨床醫(yī)學和食品工業(yè)均具有重大的社會效益和經(jīng)濟效益。
[0003]目前GSH主要采用發(fā)酵法生產(chǎn)，后處理主要采用銅鹽法，即用氧化亞銅與發(fā)酵液中GSH形成銅鹽沉淀，然后用硫化氫進行還原得到GSH，此方法環(huán)境污染較大，迫使生產(chǎn)企業(yè)開發(fā)更環(huán)保的生產(chǎn)工藝。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]發(fā)明目的:為了克服上述的不足，本發(fā)明提供一種環(huán)保、易操作的制備谷胱甘肽的工藝系統(tǒng)。
[0005]技術方案:一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)，包括電解槽、陰極(2)、陽極(3)，還包括隔膜板，所述的電解槽內(nèi)壁上有導入槽(4)，所述隔膜板插入該導入槽(4)，將所述電解槽分隔成陰電解槽(I)、陽電解槽(6);所述隔膜板包括框架(7)、隔膜(5)。
[0006]作為優(yōu)選，所述隔膜板的框架包括凹框、主框，所述凹框嵌入該主框內(nèi)，所述隔膜
(5)的四邊嵌入所述凹框與主框之間。
[0007]作為優(yōu)選，所述的陽電極(3)為鉑棒、鍍鉑鈦棒、鉛棒、鉛合金棒、二氧化鉛棒、二氧化鈦棒中的一種。
[0008]作為優(yōu)選，所述的陰電極(2)為鉑棒、鋅棒、鉛棒、碳棒中的一種。
[0009]有益的效果:本發(fā)明采用插入式的隔膜板，根據(jù)需要，可選擇插入導入槽(4)使用或取出更換，該隔膜板包括凹框、主框，凹框可嵌入主框內(nèi)，且將隔膜的四邊嵌入固定；當隔膜需要更換時，可拆開凹框、主框，取下原來的隔膜，換上新的隔膜，方便操作者清洗隔膜，避免長時間使用，隔膜因雜質(zhì)堵塞而影響工藝。
【附圖說明】
[0010]圖1為本發(fā)明的結(jié)構示意圖；
圖2為本發(fā)明隔板板結(jié)構示意圖。
具體實施例
[0011]下面結(jié)合具體實施例，進一步闡述本發(fā)明。應理解，這些實施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。
[0012]如圖1、圖2，一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)，包括電解槽、陰極2、陽極3，還包括隔膜板，所述的電解槽內(nèi)壁上有導入槽4，所述隔膜板插入該導入槽4，將所述電解槽分隔成陰電解槽1、陽電解槽6;所述隔膜板包括框架7、隔膜5。
[0013]本實施例中，所述隔膜板的框架包括凹框、主框，所述凹框嵌入該主框內(nèi)，所述隔膜5的四邊嵌入所述凹框與主框之間。所述的陽電極3為鉑棒、鍍鉑鈦棒、鉛棒、鉛合金棒、二氧化鉛棒、二氧化鈦棒中的一種。所述的陰電極2為鉑棒、鋅棒、鉛棒、碳棒中的一種。
[0014]有益的效果:本發(fā)明采用插入式的隔膜板，根據(jù)需要，可選擇插入導入槽4使用或取出更換，該隔膜板包括凹框、主框，凹框可嵌入主框內(nèi)，且將隔膜的四邊嵌入固定；當隔膜需要更換時，可拆開凹框、主框，取下原來的隔膜，換上新的隔膜，方便操作者清洗隔膜，避免長時間使用，隔膜因雜質(zhì)堵塞而影響工藝。
【主權項】
1.一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)，包括電解槽、陰極(2)、陽極(3)，其特征在于:還包括隔膜板，所述的電解槽內(nèi)壁上有導入槽(4)，所述隔膜板插入該導入槽(4)，將所述電解槽分隔成陰電解槽(I)、陽電解槽(6);所述隔膜板包括框架(7)、隔膜(5)。2.根據(jù)權利要求1所述的電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)，其特征在于:所述隔膜板的框架包括凹框、主框，所述凹框嵌入該主框內(nèi)，所述隔膜(5)的四邊嵌入所述凹框與主框之間。3.根據(jù)權利要求1所述的電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)，其特征在于:所述的陽電極(3 )為鉑棒、鍍鉑鈦棒、鉛棒、鉛合金棒、二氧化鉛棒、二氧化鈦棒中的一種。4.根據(jù)權利要求1所述的電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)，其特征在于:所述的陰電極(2)為鈾棒、鋅棒、鉛棒、碳棒中的一種。
【文檔編號】C25B9/00GK105821440SQ201610337319
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年5月21日
【發(fā)明人】許劉華, ?？? 余玉奎, 任世闊, 吳鋒, 邢小飛, 劉加根, 華俊國
【申請人】江蘇誠信藥業(yè)有限公司