電化學(xué)反應(yīng)設(shè)備的制造方法【專利摘要】本發(fā)明提供一種電化學(xué)反應(yīng)器，其具有可調(diào)整電鍍時的電場形狀的能力。電化學(xué)反應(yīng)器包括儲存槽、陰極、陽極以及屏蔽。儲存槽用于容納一電解質(zhì)溶液；陰極與陽極，設(shè)置于儲存槽中，以形成通過電解質(zhì)溶液的電力線，陰極或陽極包含一工件支架。屏蔽附接于不具工件支架的陰極或陽極。屏蔽包括一表面，用于阻擋部分的電力線；以及一導(dǎo)管，位于表面上，并用于將電力線集中于導(dǎo)管內(nèi)。導(dǎo)管包括一突出部，具有由表面量測至導(dǎo)管的頂面的一高度；以及一開孔，貫通突出部，并且穿過表面，用于使電力線通過導(dǎo)管?！緦＠f明】電化學(xué)反應(yīng)設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域：
[0001]本發(fā)明關(guān)于電化學(xué)反應(yīng)器?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]電鍍金屬層厚度的均勻性是衡量電鍍質(zhì)量的重要指針之一。在電鍍過程中，由于電鍍的“邊緣效應(yīng)”會造成電鍍金屬層中間薄、邊緣厚的問題，厚度不均勻的金屬鍍層極可能影響后續(xù)制程或產(chǎn)品效能，進(jìn)而降低整體制程良率。[0003]如圖1所示，在沉積金屬凸塊的制程中，當(dāng)電鍍液中的自由空間比晶圓2大時，電力線8會向外繞射并在晶圓2的邊緣處221有集中的效應(yīng)，稱之為邊緣效應(yīng)。電力線8于晶圓2的邊緣處221較為密集，即局部電流密度較大，使得電鍍時生成較高的凸塊。晶圓2的邊緣處221的電鍍凸塊高度較位于中間的凸塊高，使得整片晶圓2上的凸塊的均勻性不佳?！?br/>發(fā)明內(nèi)容】[0004]為解決邊緣效應(yīng)，本申請揭示內(nèi)容的一實(shí)施例提供一種具有厚度的導(dǎo)管的屏蔽，其具有可調(diào)整電鍍時的電場形狀的能力。屏蔽的導(dǎo)管可縮短陰極與陽極之間的距離，使得電力線散射路徑受阻，因而變更電場分布曲線，藉此可改善電場于邊緣處集中的問題而提升晶圓電鍍的均勻性。[0005]本申請揭示內(nèi)容的一實(shí)施例提供一種電化學(xué)反應(yīng)器，其具有可調(diào)整電鍍時的電場形狀的能力。電化學(xué)反應(yīng)器包括一儲存槽、一陰極與一陽極以及一屏蔽。儲存槽用于容納一電解質(zhì)溶液；陰極與陽極，設(shè)置于儲存槽中，以形成通過電解質(zhì)溶液的電力線，其中陰極或陽極包含一工件支架；屏蔽附接于不具工件支架的陰極或陽極。屏蔽包括一表面，用于阻擋部分的電力線；以及一導(dǎo)管，位于表面上，并用于將電力線集中于導(dǎo)管內(nèi)。導(dǎo)管包括一突出部，具有由表面量測至導(dǎo)管的頂面的一高度；以及一開孔，貫通突出部，并且穿過表面，用于使電力線通過導(dǎo)管。[0006]本申請揭示內(nèi)容的一實(shí)施例提供一種電化學(xué)反應(yīng)器，其具有可調(diào)整電鍍時的電力線分布的能力，電化學(xué)反應(yīng)器包括一儲存槽、一陰極與一陽極以及一屏蔽。儲存槽用于容納一電解質(zhì)溶液；陰極與陽極，設(shè)置于儲存槽中，以形成通過電解質(zhì)溶液的電力線，其中陰極或陽極包括一工件支架；屏蔽接觸不具工件支架的陰極或陽極，屏蔽用于調(diào)整到達(dá)工件支架上的一工件的電力線的均勻性，其中屏蔽包括一表面，用于阻擋部分的電力線；以及一導(dǎo)管，耦接至表面，并用于聚集電力線通過一開孔，導(dǎo)管具有由表面量測至導(dǎo)管的頂面的一高度。[0007]本申請揭示內(nèi)容的一實(shí)施例提供一種電化學(xué)反應(yīng)器，其具有可調(diào)整電鍍時的電力線分布的能力，電化學(xué)反應(yīng)器包括一儲存槽、一陰極與一陽極以及一屏蔽。儲存槽用于容納一電解質(zhì)溶液；陰極與陽極，設(shè)置于儲存槽中，以形成通過電解質(zhì)溶液的電力線，其中陰極包括一工件支架；屏蔽位于陽極，用于調(diào)整到達(dá)工件支架上的一工件的電力線的均勻性；屏蔽包括一表面，用于阻擋部分的電力線；以及一導(dǎo)管，連接至表面并用于將電力線導(dǎo)引通過一開孔；其中導(dǎo)管具有由表面量測至導(dǎo)管的頂面的一高度。[0008]由以下詳細(xì)說明與附圖得以最佳了解本申請案揭示內(nèi)容的各方面。注意，根據(jù)產(chǎn)業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施方式，各種特征并非依比例繪示。實(shí)際上，為了清楚討論，可任意增大或縮小各種特征的尺寸?！靖綀D說明】[0009]圖1為揭示一現(xiàn)有技術(shù)說明電化學(xué)反應(yīng)器的橫切面示意圖。[0010]圖2為根據(jù)本發(fā)明揭示內(nèi)容的一實(shí)施例說明電化學(xué)反應(yīng)器的橫切面示意圖。[0011]圖3為根據(jù)本發(fā)明揭示內(nèi)容的一實(shí)施例說明屏蔽(shield)的固定機(jī)制的立體示意圖。[0012]圖4、6與9為根據(jù)本發(fā)明揭示內(nèi)容的一些實(shí)施例說明屏蔽的立體示意圖。[0013]圖5、7與8為根據(jù)本發(fā)明揭示內(nèi)容的一些實(shí)施例說明屏蔽的橫切面示意圖。[0014]附圖標(biāo)記:[0015]2晶圓3陰極[0016]4陽極5電解質(zhì)溶液[0017]7中心線8電力線[0018]9晶圓支架10擋板[0019]11導(dǎo)管12頂面[0020]13開孔14表面[0021]15外表面16內(nèi)表面[0022]17背表面20儲存槽[0023]22表面23電源[0024]100屏蔽102電極支架[0025]112固定件114部分[0026]200電化學(xué)反應(yīng)器221邊緣處[0027]Hl高度D、D1距離[0028]TH1、TH2、TH3厚度T1、T2角度【具體實(shí)施方式】[0029]以下揭示內(nèi)容提供許多不同的實(shí)施方式或范例，用于實(shí)施本申請的不同特征。組件與配置的特定范例的描述如下，以簡化本申請所揭示內(nèi)容。當(dāng)然，這些僅為范例，并非用于限制本申請。例如，以下描述在第二特征上或上方形成第一特征可包含形成直接接觸的第一與第二特征的實(shí)施方式，亦可包含在該第一與第二特征之間形成其它特征的實(shí)施方式，因而該第一與第二特征可并非直接接觸。此外，本申請可在不同范例中重復(fù)組件符號和/或字母。此重復(fù)是出于簡化與清楚的目的，而非支配不同實(shí)施方式和/或所討論架構(gòu)之間的關(guān)系。[0030]此外，本申請可使用空間對應(yīng)語詞，例如“之下”、“低于”、“較低”、“高于”、“較高”等類似語詞的簡單說明，以描述附圖中一組件或特征與另一組件或特征的關(guān)系?？臻g對應(yīng)語詞是用以包括除了附圖中描述的方位之外，裝置于使用或操作中的不同方位。裝置或可被定位(旋轉(zhuǎn)90度或是其它方位)，并且可相應(yīng)解釋本申請使用的空間對應(yīng)描述。[0031]請參考圖2，圖2為電化學(xué)反應(yīng)器200的橫切面示意圖。電化學(xué)反應(yīng)器200具有可調(diào)整電鍍時的電場形狀的能力(adjustablefieldshapingcapability)，電化學(xué)反應(yīng)器200包含儲存槽20、陽極4、陰極3以及屏蔽100。儲存槽20用于容納電解質(zhì)溶液(即電鍍液)5。陽極4與陰極3設(shè)置于儲存槽20中，并至少局部浸泡于電解質(zhì)溶液5中。電源23分別供應(yīng)陽極4與陰極3正電與負(fù)電，以形成通過電解質(zhì)溶液5的電力線8。[0032]陽極4或陰極3的其中之一包含一工件支架，用于放置一欲被電鍍的工件。如圖2所示，于本實(shí)施例中，工件支架位于陰極3，且工件支架為一晶圓支架9，用于在電鍍制程中置放晶圓2并電連接負(fù)電而成為陰極3。在一些實(shí)施例中，在電鍍過程中，晶圓支架9可藉由機(jī)械驅(qū)動旋轉(zhuǎn)而成為轉(zhuǎn)盤。相對于工件支架，一電極支架102則用于支承陰極3或陽極4中的另一個，于本實(shí)施例中，電極支架102用于固定陽極4并電連接正電，且陽極4的至少一部分114被電極支架102暴露出，以通過電解質(zhì)溶液5而與陰極3形成電力線8。陽極4由金屬所形成，且可包含溶解性陽極及不溶解性陽極。在本實(shí)施例中，陽極4為不溶解性陽極，其用來傳導(dǎo)電流，而電解質(zhì)溶液5中的金屬離子則是以金屬鹽來補(bǔ)充。不溶解性陽極通常為良好的導(dǎo)電體，且不會與電解質(zhì)溶液5產(chǎn)生化學(xué)作用而污染溶液也不會受到侵蝕。[0033]屏蔽100設(shè)置于儲存槽20中，且位于陽極4與陰極3之間并附接于不具工件支架的陽極4或陰極3。于本實(shí)施例中，屏蔽100附接于陽極4，且屏蔽100固定于電極支架102上。請同時參考圖3，電極支架102可包含固定件112，用于使屏蔽100可替換性地固定在電極支架102上，也就是說，屏蔽100可依據(jù)需求輕易地從電極支架102上移除并置換。屏蔽100由可抵抗電解質(zhì)溶液5的侵蝕及不產(chǎn)生電鍍反應(yīng)的材料所制成。這些材料具有介電特性或是為包含有介電性涂覆的復(fù)合材料，以防止儲存槽20中誘發(fā)的電位變化造成金屬電鍍在屏蔽100上或是屏蔽100產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)而污染電解質(zhì)溶液5。屏蔽100的材料包含塑料，例如聚丙稀、聚乙稀、聚氯乙稀、氟聚物、聚四氟乙稀(polytetrafluoroethylene,PTFE)或是聚偏二氟乙稀(polyvinylidenefluoride)。該材料阻擋電力線8通過，使電力線8被限制僅能通過開孔13而穿過屏蔽100。[0034]屏蔽100包含具有表面14的擋板10以及導(dǎo)管11。擋板10藉由表面14阻擋部分的電力線8形成。表面14大體上與晶圓2的表面22以及晶圓支架9的平面平行。擋板10包含由表面14量測至背表面17厚度TH1。導(dǎo)管11位于表面14上。如圖3所示，屏蔽100可用插置的方式使擋板10的邊緣固定于固定件112中，并使導(dǎo)管11對應(yīng)陽極4被電極支架102暴露出的部分114的局部區(qū)域，而陽極4暴露出的部分114的其余區(qū)域則完全被擋板10的表面14所覆蓋。[0035]如圖2所示，導(dǎo)管11包含開孔13并具有一高度Hl。高度Hl系沿X的方向由表面14量測至導(dǎo)管11的頂面12，高度Hl使導(dǎo)管11形成一突出部。導(dǎo)管11耦合至表面14，并且用于聚集電力線8以通過開孔13。開孔13穿過表面14與擋板10并貫通突出部，使得電力線8穿過屏蔽100。如圖2所示，于本實(shí)施例中，電力線8始于陽極4，經(jīng)由開孔13穿過屏蔽100，并通過電解質(zhì)溶液5而到達(dá)陰極3上的晶圓2。開孔13用于塑形通過導(dǎo)管11內(nèi)的電力線8。屏蔽100用于調(diào)整到達(dá)晶圓2的表面22上的電力線8分布的均勾性(uniformity)。電力線8的分布決定流經(jīng)晶圓2的表面22的電流密度，并進(jìn)一步影響表面22上所沉積的鍍層的均勻性。[0036]屏蔽100限制電流沿著電力線8的傳送僅能經(jīng)由開孔13散射出。屏蔽100是一種立體遮板，其功能為縮小陽極4暴露出來的面積及縮短陰極3與陽極4之間的距離。請繼續(xù)參考圖2，屏蔽100附接于陽極4上的位置是使導(dǎo)管11的開孔13的中心對準(zhǔn)或接近晶圓2的中心線7，且陽極4暴露出的面積藉由擋板10的覆蓋而縮小，因此屏蔽100可使得電力線8較為集中接近中心線7，即電力線8的分布較圖1中的分布更為緊密。由于屏蔽100直接附接于陽極4上，電力線8由陽極4產(chǎn)生后即被局限于導(dǎo)管11的開孔13中移動，直至導(dǎo)管11的頂面12才開始不受局限而向外擴(kuò)展直至晶圓2的表面22。屏蔽100藉由導(dǎo)管11而縮短了陰極3及陽極4之間的距離，使得電力線8散射路徑受阻，因而變更了電場分布曲線。[0037]具體而言，導(dǎo)管11的頂面12與晶圓2的表面22相隔一距離D1。依照晶圓2的表面22的尺寸與狀態(tài)，可調(diào)整高度Hl與距離Dl的相對關(guān)系，例如，將導(dǎo)管11的高度Hl增加及距離Dl減少，使得開孔13更靠近晶圓2，電力線8從開孔13至晶圓2的散射路徑較圖1中的散射路徑短。也就是說，圖2中的電力線8才向外擴(kuò)散一小段距離即到達(dá)晶圓2，不像圖1中的電力線8有足夠距離向外擴(kuò)散繞射才折回集中至晶圓2的邊緣處221。因此，增加高度Hl及降低距離Dl會減少到達(dá)晶圓2邊緣處221上的電力線8的密度，使該處的鍍層沉積厚度不會較其它區(qū)域厚。散射路徑變短使電力線8的分布形狀變更，因而減少了外圍的電力線8密度，使得整體的電力線8分布均勻化，以降低邊緣效應(yīng)。降低邊緣效應(yīng)可縮小晶圓2的邊緣處221的凸塊高度與其它區(qū)域的凸塊高度的差異，使晶圓2上的凸塊高度的整體均勾性提尚。[0038]屏蔽100的導(dǎo)管11及開孔13的形狀及形式可依據(jù)需求作變化，以調(diào)整到達(dá)晶圓2的表面22上的電力線8的均勻性。屏蔽100的第一實(shí)施例如圖4所示。屏蔽100的第二實(shí)施例如圖5所示。屏蔽100的第三實(shí)施例如圖6所示。屏蔽100的第四實(shí)施例如圖7所示。屏蔽100的第五實(shí)施例如圖8所示。屏蔽100的第六實(shí)施例如圖9所示?？衫斫獾?，本發(fā)明可用上述實(shí)施例的不同組合提供其它實(shí)施方式。圖4說明屏蔽100的立體示意圖。說明中具有指示三方向X、Y與Z的箭號的坐標(biāo)系統(tǒng)。方向X、方向Y與方向Z為彼此垂直。方向Z與方向Y與表面14平行。[0039]在圖4中，屏蔽100包含圓筒形式的導(dǎo)管11。導(dǎo)管11具有由擋板10的表面14量測至導(dǎo)管11的頂面12的高度Η1。高度Hl的量測方向垂直于表面14，亦為方向X。頂面12的形狀為圓環(huán)。導(dǎo)管11具有由導(dǎo)管11的外表面15沿平行表面14的方向量測至內(nèi)表面16的一厚度ΤΗ2。開孔13為圓形并貫通導(dǎo)管11使其形成圓筒形式。在一些實(shí)施例中，開孔13的尺寸與導(dǎo)管11的高度Hl之間的比例是預(yù)先決定的。外表面15與內(nèi)表面16彼此平行。外表面15與內(nèi)表面16平行于方向X，并且垂直于表面14。導(dǎo)管11的頂面12與擋板10的表面14平行。[0040]在圖5中，屏蔽100包含圓錐形式的導(dǎo)管11。開孔13于導(dǎo)管11內(nèi)亦呈圓錐形，SP開孔13于靠近表面14處的孔徑相較頂面12處的孔徑小。外表面15與內(nèi)表面16彼此平行。外表面15與內(nèi)表面16相對于表面14的傾斜角度為Tl，其中Tl小于90°。在一些實(shí)施例，夕卜表面15與內(nèi)表面16相對于表面14的傾斜角度可不相同，也就是外表面15與內(nèi)表面16并非彼此平行。導(dǎo)管11及開孔13以中心線7為對稱。[0041]在圖6中，屏蔽100包含矩形或棱形柱狀形式的導(dǎo)管11。頂面12為矩形環(huán)狀。開孔13于導(dǎo)管11內(nèi)亦呈矩形或棱形柱狀。導(dǎo)管11及開孔13以中心線7為對稱。[0042]在圖7中，導(dǎo)管11由擋板10的表面14量測至頂面12的高度Hl為漸變的，即導(dǎo)管11的頂面12相對于擋板10的表面14具有一傾斜角度T2。此時，開孔13與導(dǎo)管11相對于中心線7皆為非對稱。電力線8從背表面17通過開孔13并且在頂面12的開孔13向外離開，而改變角度T2會改變從開孔13散出的電力線8的密度分布。例如，在導(dǎo)管11高度Hl較小處的開孔13(圖7中的左側(cè))散出的電力線8會較導(dǎo)管11高度Hl較大處的開孔13(圖7中的右側(cè))散出的電力線8更向外擴(kuò)散而較遠(yuǎn)離中心線7。也就是，于本實(shí)施例中，電力線8相對于中心線7為非對稱的。在其它實(shí)施例中，頂面12可包含多個角度T2，例如，沿著中心線7對導(dǎo)管11形成一垂直表面14的剖面來看，頂面12可為兩側(cè)對稱或不對稱的V字型。[0043]在圖8中，屏蔽100包含多個導(dǎo)管11。導(dǎo)管11可包含相似或是不同的特征，例如不同導(dǎo)管11的形狀、高度H1、厚度TH2、傾斜角度或頂面12的形式可為相同或是不同。導(dǎo)管11彼此相隔距離D。距離D的量測方向與表面14平行。距離D是從一外表面15至另一外表面15的最短距離。相對于中心線7，電力線8可為對稱或是不對稱，取決于每一導(dǎo)管11的結(jié)構(gòu)。在本實(shí)施例中，兩個導(dǎo)管11從開口13向外擴(kuò)展的部分的電力線8在靠近中心線7的區(qū)域R重合而增加區(qū)域R附近的電流密度。[0044]在圖9中，屏蔽100包含導(dǎo)管11。導(dǎo)管11包含多個開口13。開口13可為不同形狀，例如正方形、長方形、多邊形、橢圓或是圓形。導(dǎo)管11具有從導(dǎo)管11的外表面15量測至內(nèi)表面16的厚度TH2。對于不同的開口13，厚度TH2可為不同。例如，在一些實(shí)施例中，一些開口13比其它開口13更靠近外表面15。更靠近外表面15的開口13具有較小的厚度TH2。頂面12包含多個開口13。厚度TH3是從內(nèi)表面16至另一內(nèi)表面16的最短距離。在不同的實(shí)施例中，不同開口13的內(nèi)表面16可平行、傾斜分離或是向彼此傾斜。相對于中心線7，開孔13可為對稱或是不對稱。[0045]在其它實(shí)施例中，外表面15與內(nèi)表面16可為不規(guī)則形。根據(jù)預(yù)定要被電鍍覆蓋的面積，外表面15與內(nèi)表面16的形狀可為相同或是不同。頂面12也可為不規(guī)則環(huán)形。導(dǎo)管11可為筒狀、矩形棱柱、三角棱柱、或是不規(guī)則棱柱。開孔13可為正方形、圓形、多邊形、或是其它不規(guī)則形?？梢勒疹A(yù)先決定要被電鍍覆蓋的面積而調(diào)整開孔13的形狀和尺寸。[0046]上述不同實(shí)施例的不同特征可用于不同組合，以形成調(diào)整電力線8的散射路徑及密度的其它實(shí)施例。調(diào)整電力線8的散射路徑可藉由不同方法來達(dá)到，例如調(diào)整內(nèi)表面16的傾斜度以控制散射路徑擴(kuò)散的程度，如圖5所示。內(nèi)表面16的傾斜度越大，擴(kuò)散的程度越廣。而調(diào)整頂面12的傾斜度以控制散射路徑擴(kuò)散的對稱程度，如圖7所示。頂面12的傾斜度越大，散射路徑越不對稱。[0047]以上說明描述數(shù)個實(shí)施方式的特征，因而熟知此技藝之人士可更加了解本申請的揭示內(nèi)容。熟知此技藝的人士應(yīng)理解可輕易使用本申請所揭示內(nèi)容作為設(shè)計(jì)或修飾其它程序與結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)，用于實(shí)現(xiàn)相同目的和/或達(dá)到此處所介紹的相同優(yōu)點(diǎn)。熟知此技藝的人士亦應(yīng)理解此等效架構(gòu)并不脫離本申請所揭示內(nèi)容的精神與范圍，并且可進(jìn)行不同的變化、取代與替換而不脫離本申請所揭示內(nèi)容的精神與范圍?！局鳈?quán)項(xiàng)】1.一種電化學(xué)反應(yīng)器，其具有可調(diào)整電鍍時的電場形狀的能力，所述電化學(xué)反應(yīng)器包括:一儲存槽，用于容納一電解質(zhì)溶液；一陰極與一陽極，設(shè)置于所述儲存槽中，以形成通過所述電解質(zhì)溶液的電力線，其中所述陰極或所述陽極包含一工件支架；以及一屏蔽，附接于不具所述工件支架的所述陰極或所述陽極；所述屏蔽包括:一表面，用于阻擋部分的所述電力線；以及一導(dǎo)管，位于所述表面上，并用于將所述電力線集中于所述導(dǎo)管內(nèi)，其中所述導(dǎo)管包括:一突出部，具有由所述表面量測至所述導(dǎo)管的頂面的一高度；以及一開孔，貫通所述突出部，并且穿過所述表面，用于使所述電力線通過所述導(dǎo)管。2.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)反應(yīng)器，進(jìn)一步包括一電極支架，用于固定附接有所述屏蔽的所述陰極或所述陽極。3.如權(quán)利要求2所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述電極支架包括一固定件，用于使所述屏蔽可替換地固定在所述電極支架上。4.如權(quán)利要求2所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中附接有所述屏蔽的所述陰極或所述陽極的至少一部分被所述電極支架暴露出并且對應(yīng)所述開孔之外的區(qū)域完全被所述表面所覆蓋。5.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述屏蔽由介電材料制成。6.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述表面與所述工件支架的一平面平行。7.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述開孔包括正方形、圓形、橢圓形、多邊形或是不規(guī)則形。8.如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述屏蔽包括多個所述導(dǎo)管。9.一種電化學(xué)反應(yīng)器，其具有可調(diào)整電鍍時的電力線分布的能力，所述電化學(xué)反應(yīng)器包括:一儲存槽，用于容納一電解質(zhì)溶液；一陰極與一陽極，設(shè)置于所述儲存槽中，以形成通過所述電解質(zhì)溶液的電力線，其中所述陰極或所述陽極包括一工件支架；以及一屏蔽，接觸不具所述工件支架的所述陰極或所述陽極，所述屏蔽用于調(diào)整到達(dá)所述工件支架上的一工件的所述電力線的均勻性，其中所述屏蔽包括:一表面，用于阻擋部分的所述電力線；以及一導(dǎo)管，耦接至所述表面，并用于聚集所述電力線通過一開孔，所述導(dǎo)管具有由所述表面量測至所述導(dǎo)管的頂面的一高度。10.如權(quán)利要求9所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述導(dǎo)管具有由所述導(dǎo)管的外表面量測至內(nèi)表面的一厚度。11.如權(quán)利要求9所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述導(dǎo)管具有與所述表面垂直的一內(nèi)表面。12.如權(quán)利要求9所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述導(dǎo)管具有與所述表面傾斜一角度的一內(nèi)表面。13.如權(quán)利要求9所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述開孔包括正方形、圓形、橢圓形、多邊形或是不規(guī)則形。14.一種電化學(xué)反應(yīng)器，其具有可調(diào)整電鍍時的電力線分布的能力，所述電化學(xué)反應(yīng)器包括:一儲存槽，用于容納一電解質(zhì)溶液；一陰極與一陽極，設(shè)置于所述儲存槽中，以形成通過所述電解質(zhì)溶液的電力線，其中所述陰極包括一工件支架；以及一屏蔽，位于所述陽極，用于調(diào)整到達(dá)所述工件支架上的一工件的所述電力線的均勻性；所述屏蔽包括:一表面，用于阻擋部分的所述電力線；以及一導(dǎo)管，連接至所述表面并用于將所述電力線導(dǎo)引通過一開孔；其中所述導(dǎo)管具有由所述表面量測至所述導(dǎo)管的頂面的一高度。15.如權(quán)利要求14所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述屏蔽可替換地放置于所述陽極。16.如權(quán)利要求14所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述陽極中形成所述電力線的一部分在所述開孔之外的區(qū)域完全被所述表面所覆蓋。17.如權(quán)利要求14所述的電化學(xué)反應(yīng)器，其中所述導(dǎo)管包括多個所述開孔。【文檔編號】C25D17/10GK106011982SQ201510657129【公開日】2016年10月12日【申請日】2015年10月13日【發(fā)明人】林明正【申請人】南茂科技股份有限公司