一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，它由水浴系統(tǒng)、微型加熱裝置、微型循環(huán)水系統(tǒng)、低功率溶液溫場控制器、溶液系統(tǒng)和樣品臺組成。工作時，水浴系統(tǒng)處于滿水狀態(tài)，通過外設(shè)的高精度控溫儀設(shè)定溫度，通過微型加熱裝置對水浴進(jìn)行加熱；同時，微型循環(huán)水系統(tǒng)啟動工作，使水浴循環(huán)，保證整個水浴系統(tǒng)溫度均勻一致，并對溶液和樣品進(jìn)行加熱；低功率溶液溫場控制器用以實現(xiàn)溶液溫度的均勻一致。本發(fā)明可以實現(xiàn)在高溫溶液內(nèi)，對材料表面進(jìn)行電子探針觀測，從而解決了在高溫溶液中合成材料或晶體生長時進(jìn)行實時觀測，所觀測的結(jié)果更符合材料合成或晶體生長時的現(xiàn)象。
【專利說明】—種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及的是一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺。

【背景技術(shù)】
[0002]從溶液中合成材料或晶體生長時，通常的電子探針顯微鏡提供的熱臺無法實現(xiàn)樣品溫度與控制溫度一致，尤其是樣品的表面溫度和控制器設(shè)定的溫度存在偏差等問題；另夕卜，常規(guī)的溶液觀察裝置或液池不具備升溫加熱功能。因而，用于電子探針顯微鏡觀察材料或晶體界面現(xiàn)象時很難進(jìn)行高溫下實時觀測。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種用于電子探針顯微鏡下實時觀測高溫溶液中材料的熱臺裝置。
[0004]為了解決【背景技術(shù)】所存在的問題，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
[0005]一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，它由水浴系統(tǒng)、微型加熱裝置、微型循環(huán)水系統(tǒng)、低功率溶液溫場控制器、溶液系統(tǒng)和樣品臺組成；
[0006]微型加熱裝置由加熱元件、傳感器和溫度控制器組成，加熱元件、傳感器安裝于水浴系統(tǒng)內(nèi)部，溫度控制器通過外接線路安裝于水浴系統(tǒng)外部；
[0007]微型循環(huán)水系統(tǒng)安裝于水浴系統(tǒng)遠(yuǎn)離微型加熱系統(tǒng)的一側(cè)，并安裝于水浴系統(tǒng)外部；溶液系統(tǒng)安裝在水浴系統(tǒng)內(nèi)部，樣品臺安裝在溶液系統(tǒng)內(nèi)部，并通過水浴進(jìn)行加熱；
[0008]低功率溶液溫場控制器安置在溶液內(nèi)，其動力系統(tǒng)安裝于水浴系統(tǒng)外部；
[0009]工作時，水浴系統(tǒng)處于滿水狀態(tài)，通過外設(shè)的高精度控溫儀設(shè)定溫度，通過微型加熱裝置對水浴進(jìn)行加熱；同時，微型循環(huán)水系統(tǒng)啟動工作，使水浴循環(huán)，保證整個水浴系統(tǒng)溫度均勻一致，并對溶液和樣品進(jìn)行加熱；低功率溶液溫場控制器用以實現(xiàn)溶液溫度的均勻一致。
[0010]進(jìn)一步的，所述微型加熱裝置:如果是棒狀加熱裝置，其高度不得超過水浴系統(tǒng)的高度；如果是片狀加熱裝置，其寬度不得超過溶液系統(tǒng)的寬度；微型加熱裝置可選配安裝功率調(diào)節(jié)器，并根據(jù)實驗所需的溫度和加熱時間控制功率，傳感器和控溫儀根據(jù)實驗需要選擇精度。
[0011]進(jìn)一步的，所述微型循環(huán)水系統(tǒng)的功率須保證水浴能夠循環(huán)，且對水的揚程控制在5cm以內(nèi)，以保證微型循環(huán)水系統(tǒng)的電機在低功率下工作，減少對熱臺的震動干擾。
[0012]進(jìn)一步的，所述低功率溫場控制器的體積須控制在測試溶液體積的10%以內(nèi)，且其功率須保證溶液溫場均勻，并要求對電子探針無干擾。
[0013]進(jìn)一步的，所述樣品臺位于溶液系統(tǒng)內(nèi)，所處的高度位置需按照測試材料樣品的尺寸進(jìn)行調(diào)整，保證所測材料樣品的表面處于溶液內(nèi)。
[0014]本發(fā)明對比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果:本發(fā)明可以實現(xiàn)在高溫溶液內(nèi)，對材料表面進(jìn)行電子探針觀測，從而解決了在高溫溶液中合成材料或晶體生長時進(jìn)行實時觀測，所觀測的結(jié)果更符合材料合成或晶體生長時的現(xiàn)象。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1為本發(fā)明組成結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進(jìn)一步描述:
[0017]圖1為本發(fā)明組成結(jié)構(gòu)示意圖。一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，它由水浴系統(tǒng)5、微型加熱裝置1、微型循環(huán)水系統(tǒng)2、低功率溶液溫場控制器3、溶液系統(tǒng)和樣品臺4組成；微型加熱裝置由加熱元件、傳感器和溫度控制器組成，加熱元件、傳感器安裝于水浴系統(tǒng)內(nèi)部，溫度控制器通過外接線路(圖中由曲線表示)安裝于水浴系統(tǒng)外部；微型循環(huán)水系統(tǒng)安裝于水浴系統(tǒng)遠(yuǎn)離微型加熱系統(tǒng)的一側(cè)，并安裝于水浴系統(tǒng)外部；溶液系統(tǒng)安裝在水浴系統(tǒng)內(nèi)部，樣品臺安裝在溶液系統(tǒng)內(nèi)部，并通過水浴進(jìn)行加熱；低功率溶液溫場控制器安置在溶液內(nèi)，其動力系統(tǒng)安裝于水浴系統(tǒng)外部。
[0018]本裝置在工作狀態(tài)時，水浴系統(tǒng)5處于滿水狀態(tài)，通過外設(shè)的高精度控溫儀設(shè)定溫度，通過微型加熱裝置I對水浴進(jìn)行加熱；同時，微型循環(huán)水系統(tǒng)2啟動工作，使水浴循環(huán)，保證整個水浴系統(tǒng)溫度均勻一致，并對溶液和樣品進(jìn)行加熱。為保證溶液內(nèi)部溫度和溶液表面溫度均勻，低功率溶液溫場控制器可以實現(xiàn)溶液溫度的均勻一致。
[0019]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，其特征在于，它由水浴系統(tǒng)、微型加熱裝置、微型循環(huán)水系統(tǒng)、低功率溶液溫場控制器、溶液系統(tǒng)和樣品臺組成； 微型加熱裝置由加熱元件、傳感器和溫度控制器組成，加熱元件、傳感器安裝于水浴系統(tǒng)內(nèi)部，溫度控制器通過外接線路安裝于水浴系統(tǒng)外部； 微型循環(huán)水系統(tǒng)安裝于水浴系統(tǒng)遠(yuǎn)離微型加熱系統(tǒng)的一側(cè)，并安裝于水浴系統(tǒng)外部；溶液系統(tǒng)安裝在水浴系統(tǒng)內(nèi)部，樣品臺安裝在溶液系統(tǒng)內(nèi)部，并通過水浴進(jìn)行加熱； 低功率溶液溫場控制器安置在溶液內(nèi)，其動力系統(tǒng)安裝于水浴系統(tǒng)外部； 工作時，水浴系統(tǒng)處于滿水狀態(tài)，通過外設(shè)的高精度控溫儀設(shè)定溫度，通過微型加熱裝置對水浴進(jìn)行加熱；同時，微型循環(huán)水系統(tǒng)啟動工作，使水浴循環(huán)，保證整個水浴系統(tǒng)溫度均勻一致，并對溶液和樣品進(jìn)行加熱；低功率溶液溫場控制器用以實現(xiàn)溶液溫度的均勻一致。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，其特征在于，所述微型加熱裝置:如果是棒狀加熱裝置，其高度不得超過水浴系統(tǒng)的高度；如果是片狀加熱裝置，其寬度不得超過溶液系統(tǒng)的寬度；微型加熱裝置可選配安裝功率調(diào)節(jié)器，并根據(jù)實驗所需的溫度和加熱時間控制功率，傳感器和控溫儀根據(jù)實驗需要選擇精度。
3.如權(quán)利要求1所述的一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，其特征在于，所述微型循環(huán)水系統(tǒng)的功率須保證水浴能夠循環(huán)，且對水的揚程控制在5cm以內(nèi)，以保證微型循環(huán)水系統(tǒng)的電機在低功率下工作，減少對熱臺的震動干擾。
4.如權(quán)利要求1所述的一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，其特征在于，所述低功率溫場控制器的體積須控制在測試溶液體積的10 %以內(nèi)，且其功率須保證溶液溫場均勻，并要求對電子探針無干擾。
5.如權(quán)利要求1所述的一種用于電子探針顯微鏡下觀測高溫溶液中材料的熱臺，其特征在于，所述樣品臺位于溶液系統(tǒng)內(nèi)，所處的高度位置需按照測試材料樣品的尺寸進(jìn)行調(diào)整，保證所測材料樣品的表面處于溶液內(nèi)。
【文檔編號】G01N1/44GK104266896SQ201410491807
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年9月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月23日
【發(fā)明者】丁建旭, 崔洪芝, 谷亦杰, 孫海清, 徐國綱, 劉蕾 申請人:山東科技大學(xué)