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用于改善缺陷分類滋擾率的方法和系統(tǒng)與流程

文檔序號:39723789發(fā)布日期:2024-10-22 13:19閱讀:2來源:國知局
用于改善缺陷分類滋擾率的方法和系統(tǒng)與流程

本文提供的實施例涉及一種用于自動缺陷分類的系統(tǒng)及方法,尤其涉及一種用于改善缺陷分類滋擾率的系統(tǒng)及方法。


背景技術(shù):

1、在集成電路(ic)的制造工藝中,需要對未完成或已完成的電路元件進(jìn)行檢查,以確保它們根據(jù)設(shè)計制造且沒有缺陷??梢圆捎美霉鈱W(xué)顯微鏡或帶電粒子(例如,電子)束顯微鏡(例如,掃描電子顯微鏡(sem))的檢查系統(tǒng)。隨著ic部件的物理尺寸不斷縮小,缺陷檢測的準(zhǔn)確度和產(chǎn)率變得越來越重要。

2、某些檢查工具可能會產(chǎn)生大量滋擾。滋擾可能是不被認(rèn)為是相關(guān)缺陷的檢測偏差或晶片不規(guī)則。例如,滋擾可能是由錯誤標(biāo)識的背景圖像或與制造工藝的器件產(chǎn)率無關(guān)的小缺陷引起的。隨著缺陷檢查變得越來越重要,需要不斷降低檢查工藝中的滋擾率。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本文提供的實施例公開了一種粒子束檢查裝置,更具體地說,公開了一種使用多個帶電粒子束的檢查裝置。

2、本公開的一些實施例包括一種用于改善圖像檢查數(shù)據(jù)的滋擾率的方法。該方法可以包括獲得包括候選缺陷集的圖像數(shù)據(jù);制定多個缺陷檢查類型和多個滋擾檢查類型;在第一分類階段期間,基于多個缺陷檢查類型來將候選缺陷集分類為一種或多種缺陷類型;在第一分類階段期間,基于多個滋擾檢查類型來將候選缺陷集分類為多個滋擾類型,并將基于機(jī)器學(xué)習(xí)的多階段分類應(yīng)用于經(jīng)分類的候選缺陷集。

3、本公開的一些實施例包括一種用于改善圖像檢查數(shù)據(jù)的滋擾率的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:包括檢測器的帶電粒子束裝置;圖像獲取器,包括用于從檢測器接收檢測信號并構(gòu)建包括第一特征的圖像的電路系統(tǒng);以及具有至少一個處理器和非暫態(tài)計算機(jī)可讀介質(zhì)的控制器,該控制器包括指令,該指令在由至少一個處理器執(zhí)行時,使得系統(tǒng)執(zhí)行以下操作:獲得包括候選缺陷集的圖像數(shù)據(jù);制定多個缺陷檢查類型和多個滋擾檢查類型;在第一分類階段期間基于多個缺陷檢查類型來將候選缺陷集分類為一種或多種缺陷類型;在第一分類階段期間基于多個滋擾檢查類型來將候選缺陷集分類為多個滋擾類型,并且將基于機(jī)器學(xué)習(xí)的多階段分類應(yīng)用于經(jīng)分類的候選缺陷集。

4、本公開的一些實施例包括非暫態(tài)計算機(jī)可讀介質(zhì),其存儲指令集,該指令集可由系統(tǒng)的一個或多個處理器執(zhí)行,以使系統(tǒng)執(zhí)行方法,所述方法包括:獲得包括候選缺陷集的圖像數(shù)據(jù);制定多個缺陷檢查類型和多個滋擾檢查類型;在第一分類階段期間,基于多個缺陷檢查類型來將候選缺陷集分類為一種或多種缺陷類型;在第一分類階段期間,基于多個滋擾檢查類型來將候選缺陷集分類為多個滋擾類型,并且將基于機(jī)器學(xué)習(xí)的多階段分類應(yīng)用于經(jīng)分類的候選缺陷集。

5、通過以下結(jié)合附圖的描述,本公開的實施例的其他優(yōu)點將變得顯而易見,其中,通過圖示和示例闡述了本發(fā)明的某些實施例。



技術(shù)特征:

1.一種用于改善圖像檢查數(shù)據(jù)的滋擾率的方法,所述方法包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述基于機(jī)器學(xué)習(xí)的多階段分類還包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述多個滋擾檢查類型中的至少一個滋擾檢查類型是基于缺陷檢查類型來制定的。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述多個滋擾檢查類型中的至少一個滋擾檢查類型被制定以減少經(jīng)分類的所述圖像數(shù)據(jù)中的數(shù)據(jù)不平衡。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中所述多個滋擾檢查類型中的所述至少一個滋擾檢查類型包括第一滋擾檢查類型和第二滋擾檢查類型;并且

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述候選缺陷集來自包括檢測器的帶電粒子束裝置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中包括檢測器的所述帶電粒子束裝置是掃描電子顯微鏡sem。

8.一種用于改善圖像檢查數(shù)據(jù)的滋擾率的系統(tǒng),包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中所述基于機(jī)器學(xué)習(xí)的多階段分類包括操作,所述操作包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中所述多個滋擾檢查類型中的至少一者是基于缺陷檢查類型來制定的。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng),其中所述多個滋擾檢查類型中的所述至少一個滋擾檢查類型包括第一滋擾檢查類型和第二滋擾檢查類型;并且

13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中包括檢測器的所述帶電粒子束裝置是掃描電子顯微鏡sem。

14.一種存儲指令集的非暫態(tài)計算機(jī)可讀介質(zhì),所述指令集能夠由系統(tǒng)的一個或多個處理器執(zhí)行以使所述系統(tǒng)執(zhí)行方法,所述方法包括:

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的非暫態(tài)計算機(jī)可讀介質(zhì),其中所述基于機(jī)器學(xué)習(xí)的多階段分類還包括:


技術(shù)總結(jié)
自動缺陷分類方法可以包括從檢查工具獲取包括候選缺陷集的圖像數(shù)據(jù)集,制定多個缺陷檢查類型和多個滋擾檢查類型,并使用機(jī)器學(xué)習(xí)分類器根據(jù)缺陷檢查類型和滋擾檢查類型來對候選缺陷集進(jìn)行分類。在分類方法中使用多個滋擾檢查類型來降低滋擾率。

技術(shù)研發(fā)人員:雷海容,董茜,鄭楚發(fā),浦凌凌,任志榆,林嘉文
受保護(hù)的技術(shù)使用者:ASML荷蘭有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/10/21
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