專利名稱：測(cè)距儀用小型化固體激光發(fā)射器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光電技術(shù)中測(cè)距儀用固體激光發(fā)射器。
通常用于測(cè)距儀的固體激光發(fā)射器如

圖1，它由激光晶體(1)(其前端面鍍均勻半反射介質(zhì)膜)和全反射鏡片(5)，染料片(3)組成的激光器，產(chǎn)生激光，染料片(3)和全反射鏡片(5)位于激光晶體(1)的后面。發(fā)射物鏡(4)和發(fā)射負(fù)目鏡(2)構(gòu)成伽利略望遠(yuǎn)鏡，即輸出鏡，它位于激光晶體(1)的前面。輸出鏡用來壓縮輸出激光脈沖的發(fā)散角。通常的激光發(fā)射器不足之處于輸出的激光脈沖的發(fā)散角比較大，難以滿足測(cè)距機(jī)性能的要求，例如測(cè)距的距離和誤測(cè)率。
依靠加大伽利略望遠(yuǎn)鏡即發(fā)射鏡的倍率的方法，雖可獲取較小的激光脈沖發(fā)散角，但勢(shì)必使激光發(fā)射器的尺寸加長，重量加大，這對(duì)小型化的測(cè)距儀來說是無法接受的。采用非穩(wěn)定激光腔，雖可獲得較小的激光脈沖發(fā)散角，但由于非穩(wěn)定激光腔所導(dǎo)致的激光閥值升高，能耗增加大，為小型測(cè)距儀也難以采用。
本實(shí)用新型的目的是為小型激光測(cè)距儀提供一種小型化的激光脈沖發(fā)散角小，激光閥值低的測(cè)距儀用小型化固體激光發(fā)射器。
本實(shí)用新型的解決方案一種測(cè)距儀用小型化固體激光發(fā)射器，它包括有激光晶體(1)、發(fā)射負(fù)目鏡(2)、染料片(3)和反射物鏡(4)，發(fā)射負(fù)目鏡(2)仍與發(fā)射物鏡(4)組成輸出鏡，其特征在于在激光晶體(1)的后端面鍍有全反射介質(zhì)膜層(6)，在發(fā)射負(fù)目鏡(2)的平面端鍍有反射率不均勻的介質(zhì)膜層(7)，染料片(3)放置在發(fā)射負(fù)目鏡(2)和激光晶體(1)之間。
本實(shí)用新型既保持了傳統(tǒng)的激光發(fā)射器平行平面激光諧振腔閥值低，便于調(diào)整的優(yōu)點(diǎn)，而且由于在發(fā)射負(fù)目鏡(2)平面端鍍了反射率不均勻的介質(zhì)膜層(7)(如氟化鎂、氧化鋯等材料層)，使激光脈沖的發(fā)散角大大下降，同時(shí)也由于取消了現(xiàn)有固體激光發(fā)射器中的全反射鏡片(5)，使總長度進(jìn)一步減小。
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步描述圖1為現(xiàn)有通用固體激光發(fā)射器組合示意圖；圖2為本實(shí)用新型的組合示意圖。
如圖2，本實(shí)用新型的最佳實(shí)施例是，激光晶體(1)采用參釹的釔鋁石榴石NaAyGG，規(guī)格φ3×40(mm)，在激光晶體(1)的后端面，鍍上全反射的介質(zhì)膜層(6)(如氟化鎂、氧化鋯等材料層)，發(fā)射物鏡(4)規(guī)格φ14mm，中心厚度為2mm，倍率4×，發(fā)射負(fù)目鏡(2)規(guī)格φ5mm，中心厚度為3mm，在其平面端面上鍍反射率不均勻的介質(zhì)膜層(7)。發(fā)射物鏡(4)和發(fā)射負(fù)目鏡(2)相距30.72mm，共同組成輸出鏡。起Q開關(guān)作用的染料片(3)規(guī)格φ4.4mm，放置在激光晶體(1)和發(fā)射負(fù)目鏡(2)之間，距發(fā)射負(fù)目鏡(2)3.3mm，總體長度為79.75mm。經(jīng)這樣安排，可使發(fā)射出的激光脈沖的發(fā)散角小于或等于0.7mrad。
權(quán)利要求1.一種測(cè)距儀用小型化固體激光發(fā)射器，它包括有激光晶體(1)、發(fā)射負(fù)目鏡(2)、染料片(3)和反射物鏡(4)，發(fā)射負(fù)目鏡(2)仍與發(fā)射物鏡(4)組成輸出鏡，其特征在于在激光晶體(1)的后端面鍍有全反射介質(zhì)膜層(6)，在發(fā)射負(fù)目鏡(2)的平面端鍍有反射率不均勻的介質(zhì)膜層(7)，染料片(3)放置在發(fā)射負(fù)目鏡(2)和激光晶體(1)之間。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種光電技術(shù)中測(cè)距儀用的固體激光反射器，其激光晶體的后端面鍍有全反射介質(zhì)膜層，在發(fā)射負(fù)目鏡的平面端鍍有反射率不均勻的介質(zhì)膜層，染料片放置在發(fā)射負(fù)目鏡和激光晶體之間。本實(shí)用新型可使激光脈沖的發(fā)散角大大下降，而體積也大大減小。
文檔編號(hào)G01C3/00GK2230914SQ9523990
公開日1996年7月10日 申請(qǐng)日期1995年6月8日 優(yōu)先權(quán)日1995年6月8日
發(fā)明者呂勇 申請(qǐng)人:常州第二電子儀器廠