一種薄膜結(jié)構(gòu)及其形面控制方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種薄膜結(jié)構(gòu)及其形面控制方法，薄膜結(jié)構(gòu)包括薄膜陣面、周邊張力索、邊框、張拉點(diǎn)和調(diào)整機(jī)構(gòu)，所述薄膜陣面的四邊均設(shè)有周邊張力索，薄膜陣面周邊通過周邊張力索提供張力，周邊張力索通過多個(gè)張拉點(diǎn)固定在邊框上的調(diào)整結(jié)構(gòu)上，控制調(diào)整機(jī)構(gòu)在面外方向的高度進(jìn)而改變張拉點(diǎn)的高度，能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜結(jié)構(gòu)在軌運(yùn)行過程中薄膜陣面的平面度控制。本發(fā)明所提出的形面控制方法是根據(jù)薄膜陣面的三維形面數(shù)據(jù)計(jì)算調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量，以使得薄膜陣面的形面精度滿足設(shè)計(jì)要求。本發(fā)明解決了薄膜結(jié)構(gòu)在軌運(yùn)行時(shí)會因?yàn)楦蓴_載荷作用導(dǎo)致其薄膜陣面形面精度降低問題，提高了薄膜結(jié)構(gòu)形面精度。
【專利說明】
一種薄膜結(jié)構(gòu)及其形面控制方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及航天器結(jié)構(gòu)變形控制領(lǐng)域，具體說涉及一種薄膜結(jié)構(gòu)以及其形面控制 方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 薄膜結(jié)構(gòu)，如:太陽帆、薄膜太陽電池陣、薄膜式天線結(jié)構(gòu)、薄膜式反射鏡結(jié)構(gòu)等， 因其面積大、重量輕、收藏體積小等優(yōu)點(diǎn)在航天領(lǐng)域得到越來越廣泛的應(yīng)用。由于薄膜結(jié)構(gòu) 面積大、剛度低、阻尼弱等特點(diǎn)，在熱載荷、姿態(tài)機(jī)動載荷、軌道機(jī)動載荷等干擾情況下，容 易產(chǎn)生變形，其形面精度難以保持。而薄膜形面精度的降低將嚴(yán)重影響航天任務(wù)實(shí)施，或?qū)?致工作性能下降。
[0003] 現(xiàn)有解決方法中主要通過進(jìn)一步提高邊框加工精度和剛度來保證薄膜陣面的初 始形面精度。但現(xiàn)有方法不具有可調(diào)整性，在軌飛行過程中不能實(shí)時(shí)地調(diào)整，以滿足薄膜陣 面的高精度形面要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 為了解決薄膜結(jié)構(gòu)在軌運(yùn)行時(shí)會因?yàn)楦蓴_載荷作用導(dǎo)致其薄膜陣面形面精度降 低問題，本發(fā)明提出了 一種薄膜結(jié)構(gòu)及其形面控制方法。
[0005] 本發(fā)明的技術(shù)方案是：
[0006] -種薄膜結(jié)構(gòu)，包括薄膜陣面、周邊張力索、邊框和張拉點(diǎn)，薄膜陣面固定在邊框 內(nèi)，所述薄膜陣面均位于xoy平面上，所述薄膜陣面的四邊均設(shè)有周邊張力索，薄膜陣面周 邊通過周邊張力索提供張力，周邊張力索通過多個(gè)張拉點(diǎn)固定在邊框上的多個(gè)調(diào)整結(jié)構(gòu) 上，張拉點(diǎn)與調(diào)整機(jī)構(gòu)一一對應(yīng)，所述調(diào)整結(jié)構(gòu)豎直安裝在邊框上，控制調(diào)整結(jié)構(gòu)在z方向 的高度進(jìn)而改變張拉點(diǎn)的高度，能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜結(jié)構(gòu)在軌運(yùn)行過程中薄膜陣面的平面度控 制，若干個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)以陣列的形式布置在薄膜陣面的表面。
[0007] 進(jìn)一步地，所述調(diào)整結(jié)構(gòu)為能夠?qū)崿F(xiàn)伸縮調(diào)整的桿體。
[0008] 基于上述薄膜結(jié)構(gòu)，本發(fā)明提供一種薄膜結(jié)構(gòu)形面控制方法，該方法所要解決的 問題就是根據(jù)薄膜陣面的三維形面數(shù)據(jù)計(jì)算調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量，以使得薄膜陣面的形面精 度滿足設(shè)計(jì)要求。
[0009] 假設(shè)薄膜陣面上有Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)，其中第i個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)的坐標(biāo)值為(Xi，Yi，Zi)， 設(shè)薄膜陣面的最佳擬合平面為z = ax+by+c,其中a，b，c為待定系數(shù)。假設(shè)邊框上共有nb個(gè)調(diào) 整機(jī)構(gòu)，第j個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量為dj，其中，j = 1，2，…，N。所有調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量可以記 為d = [cU，d2，…，dN]，并且其調(diào)整范圍為[-D，D]。此時(shí)，形面控制問題可以描述為如下優(yōu)化 問題：
[0011] 式中，d為優(yōu)化變量，目標(biāo)函數(shù)δ3。為平面度30誤差，即形面精度指標(biāo)。
[0012] 本發(fā)明提出一種薄膜結(jié)構(gòu)形的面控制方法，其具體步驟如下：
[0013] 第一步:計(jì)算調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整矩陣
[0014] 假設(shè)薄膜陣面的變形滿足線性疊加關(guān)系，設(shè)Ν個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)中的第j個(gè)調(diào)整單位行 程的增量S = 1mm時(shí)，其他調(diào)整機(jī)構(gòu)均保持不變，即調(diào)整機(jī)構(gòu)位移增量為d =f 0,…,忒…,〇], _ j _ 此時(shí)對應(yīng)的薄膜陣面上Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)產(chǎn)生的變形增量為β」，其中β」=[β? j , β2j ,…,ftlj ]，（ j =1，2,…，N)〇
[0015] 當(dāng)在N個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)上的調(diào)整位移增量為d= [cU，d2，…，dN]時(shí)，此時(shí)薄膜陣面的受控 變形增量為，其中
[0017]第二步:獲取薄膜陣面三維形面數(shù)據(jù)
[0018]通過攝影測量系統(tǒng)得薄膜陣面上所有Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)的三維坐標(biāo)(Xi，Yi，Zi)，（i = 1，2,…，M)〇
[0019]第三步:求解薄膜陣面最佳擬合平面
[0020]令薄膜陣面的最佳擬合平面的方程為z = ax+by+c，則其擬合的3〇誤差（三倍標(biāo) 準(zhǔn)），即形面精度δ3?？梢员硎緸椋?br>[0022]要使得δ3。為最小值，a，b，c滿足以下關(guān)系：

[0032] 第四步:計(jì)算各測點(diǎn)與最佳擬合平面之間的誤差
[0033] 設(shè)各測量標(biāo)志點(diǎn)i與最佳擬合平面之間的誤差為％^ = 2，···,M)，記所有測量 標(biāo)志點(diǎn)與最佳擬合平面之間的誤差為V ···，<]，其計(jì)算方法為：
[0034] Λ/ - -aXi -b% -c (? = 1,2,-·, Μ) (.9):
[0035] 第五步：剔除粗大誤差點(diǎn)
[0036] 剔除粗大誤差點(diǎn)采取3倍標(biāo)準(zhǔn)差準(zhǔn)則，即認(rèn)為誤差大于3倍標(biāo)準(zhǔn)差的數(shù)據(jù)為無效數(shù) 據(jù)，予以剔除，其步驟如下：1)計(jì)算最大誤差值
；2)計(jì)算誤差的標(biāo)準(zhǔn)差
，（Ρ為V的均值
則判定該最大誤差值為粗大誤差，剔除該值，同時(shí)返回步驟1)，否則結(jié)束；
[0037]第六步:求解各張拉點(diǎn)的調(diào)整量
[0038] 根據(jù)求解得到的薄膜陣面的誤差量7，當(dāng)在各個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)上分別調(diào)整位移增量為 d = [cU，d2，…，dN]時(shí)，調(diào)整機(jī)構(gòu)執(zhí)行完位移增量后薄膜陣面的殘余變形Δ比為：
[0039] Δ hi = hif-hie(i = 1,2, ··· ,M) (10)
[0040] 調(diào)整后的新的形面精度δ3。為：
[0042]計(jì)算誤差的平方
[0044]根據(jù)極小值原理，可得目標(biāo)函數(shù)客^關(guān)于優(yōu)化變量(1=[(11，(12，-_，辦]的偏導(dǎo)數(shù)為0， 即：
[0046]其中k為下標(biāo)，dk表示d的第k個(gè)元素；
[0047]根據(jù)式（13)可得：
[0050] Ad = B (15)
[0051] 式中表示邱勺第i行第k列的元素；
[0052] 根據(jù)方程(15)可以求得各調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量為：
[0053] d=(AT · A)_1ATB (16)
[0054] 第七步:判斷形面精度是否滿足設(shè)計(jì)要求
[0055] 求解出各調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量后，通過調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整完畢后，根據(jù)公式（11)計(jì)算調(diào) 整后的薄膜形面精度，并判斷形面精度如。是否小于設(shè)計(jì)值^，如不滿足則重新回到第二 步，如滿足則停止。
[0056] 本發(fā)明的有益效果是：
[0057] (1)通過剔除粗大誤差點(diǎn)，可以有效避免由于測量時(shí)單點(diǎn)形面數(shù)據(jù)測量錯誤導(dǎo)致 調(diào)整量計(jì)算錯誤。
[0058] (2)采用最小二乘法求解各張拉點(diǎn)的調(diào)整量，計(jì)算量小，算法效率高。
【附圖說明】
[0059]圖1薄膜結(jié)構(gòu)示意圖
[0060]圖2薄膜結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖
[0061]圖3薄膜結(jié)構(gòu)形面控制系統(tǒng)圖
[0062]圖4本發(fā)明薄膜結(jié)構(gòu)形面控制方法的流程圖
[0063]圖5粗大誤差剔除算法流程圖
[0064] 圖例說明：
[0065] 100、薄膜陣面；101、周邊張力索；102、邊框；103、張拉點(diǎn)；104、調(diào)整機(jī)構(gòu)；105、測量 標(biāo)志點(diǎn)。
【具體實(shí)施方式】
[0066] 圖1是本發(fā)明所提供的一種薄膜結(jié)構(gòu)，包括薄膜陣面100、周邊張力索101、邊框102 和張拉點(diǎn)103,薄膜陣面100固定在邊框102內(nèi)，所述薄膜陣面100均位于xoy平面上，所述薄 膜陣面100的四邊均設(shè)有周邊張力索101，薄膜陣面100周邊通過周邊張力索101提供張力， 周邊張力索101通過多個(gè)張拉點(diǎn)103固定在邊框102上的多個(gè)調(diào)整結(jié)構(gòu)104上，張拉點(diǎn)103與 調(diào)整機(jī)構(gòu)104--對應(yīng)，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)104豎直安裝在邊框102上，控制調(diào)整結(jié)構(gòu)102在z方向 的高度進(jìn)而改變張拉點(diǎn)103的高度，能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜結(jié)構(gòu)在軌運(yùn)行過程中薄膜陣面的平面度 控制。薄膜陣面100上粘貼有若干個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)105，測量標(biāo)志點(diǎn)105作為攝影測量的標(biāo)志 點(diǎn)，測量時(shí)可獲取其高精度三維坐標(biāo)。當(dāng)薄膜結(jié)構(gòu)在軌運(yùn)行過程中，邊框102會因干擾載荷 作用產(chǎn)生變形，變形會影響薄膜陣面100的平面度，通過改變調(diào)整機(jī)構(gòu)104的z方向高度，可 以改變張拉點(diǎn)103的高度，從而提高薄膜陣面100的平面度。薄膜結(jié)構(gòu)構(gòu)型的側(cè)視圖如圖2所 示，所述調(diào)整結(jié)構(gòu)104為能夠?qū)崿F(xiàn)伸縮調(diào)整的桿體。
[0067] 本發(fā)明所提出的變形控制算法所要解決的問題就是根據(jù)薄膜陣面100的三維形面 數(shù)據(jù)計(jì)算調(diào)整機(jī)構(gòu)104的調(diào)整量，以使得薄膜陣面100的形面精度滿足設(shè)計(jì)要求。
[0068] 本發(fā)明所要解決的問題的數(shù)學(xué)描述如下：
[0069] 假設(shè)薄膜陣面100上有Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)，其中第i個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)的坐標(biāo)值為(Xi，Yi， Zi)，設(shè)薄膜陣面100的最佳擬合平面為z = ax+by+c,其中a，b，c為待定系數(shù)。假設(shè)邊框102上 共有nb個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)104,第j個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)104的調(diào)整量為山，其中，」= 1，2，···，Ν。所有調(diào)整機(jī)構(gòu) 104的調(diào)整量可以記為d= [cU，^，···，^]，并且其調(diào)整范圍為[_D，D]。此時(shí)，形面控制問題可 以描述為如下優(yōu)化問題：
[0071]式中，d為優(yōu)化變量，目標(biāo)函數(shù)δ3。為平面度3〇誤差，即形面精度指標(biāo)。
[0072]本發(fā)明提出一種薄膜結(jié)構(gòu)形的面控制方法，其具體步驟如下：
[0073] 第一步:計(jì)算調(diào)整機(jī)構(gòu)104的調(diào)整矩陣
[0074] 假設(shè)薄膜陣面100的變形滿足線性疊加關(guān)系，設(shè)Ν個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)104中的第j個(gè)調(diào)整 單位行程的增量S = 1mm時(shí)，其他調(diào)整機(jī)構(gòu)104均保持不變，即調(diào)整機(jī)構(gòu)104位移增量為 d=f(V··#,…，此時(shí)對應(yīng)的薄膜陣面100上Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)產(chǎn)生的變形增量為的，其中比 _ j _ =[βι」，fej，…，ftij ]，（j = l，2,…，N).
[0075] 當(dāng)在N個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)104上的調(diào)整位移增量為ditcU，^，···，dN]時(shí)，此時(shí)薄膜陣面100 的受控變形增量為h6 …，沁]，其中
[0077]第二步:獲取薄膜陣面100三維形面數(shù)據(jù)
[0078] 通過攝影測量系統(tǒng)得薄膜陣面100上所有Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)的三維坐標(biāo)(Χ^Υ^ΖΟ， (i = l，2,…，M)〇
[0079] 第三步:求解薄膜陣面100最佳擬合平面
[0080] 令薄膜陣面100的最佳擬合平面的方程為z = ax+by+c，則其擬合的3〇誤差(三倍標(biāo) 準(zhǔn)），即形面精度δ3?？梢员硎緸椋?br>[0082]要使得δ3。為最小值，a，b，c滿足以下關(guān)系：
[0092] 第四步:計(jì)算各測點(diǎn)與最佳擬合平面之間的誤差
[0093] 設(shè)各測量標(biāo)志點(diǎn)i與最佳擬合平面之間的誤差為/?/ (/ = 1,2,…,,V/)，記所有測量 標(biāo)志點(diǎn)與最佳擬合平面之間的誤差為Μ …其計(jì)算方法為：
[0094] h; =Z;-aXj-bY;-c (/= 1,2,-*·,Μ) (25)
[0095] 第五步：剔除粗大誤差點(diǎn)
[0096]剔除粗大誤差點(diǎn)采取3倍標(biāo)準(zhǔn)差準(zhǔn)則，即認(rèn)為誤差大于3倍標(biāo)準(zhǔn)差的數(shù)據(jù)為無效數(shù) 據(jù)，予以剔除，其步驟如下：1)計(jì)算最大誤差值
；2)計(jì)算誤差的標(biāo)準(zhǔn)差
:，（Ρ為％^的均值
則判定該最大誤差值為粗大誤差，剔除該值，同時(shí)返回步驟1)，否則結(jié)束；
[0097]第六步:求解各張拉點(diǎn)的調(diào)整量
[0098] 根據(jù)第五求解得到的薄膜陣面100的誤差量<，當(dāng)在各個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)104上分別調(diào)整 位移增量為d= [di，d2，…，dN]時(shí)，調(diào)整機(jī)構(gòu)104執(zhí)行完位移增量后薄膜陣面100的殘余變形 A hi為：
[0099] Ahi = hif-hie(i = l，2，...，M) (26)
[0100] 調(diào)整后的新的形面精度為：
[0104]根據(jù)極小值原理，可得目標(biāo)函數(shù)關(guān)于優(yōu)化變量d= [di，d2，…，dj]的偏導(dǎo)數(shù)為0， 即：
[0106] 其中k為下標(biāo)，dk表示d的第k個(gè)元素；
[0107] 根據(jù)式（13)可得：
[0110] Ad = B (31)
[0111] 式中表示邱勺第i行第k列的元素；
[0112] 根據(jù)方程(15)可以求得各調(diào)整機(jī)構(gòu)104的調(diào)整量為：
[0113] d=(AT · A)_1ATB (32)
[0114]第七步:判斷形面精度是否滿足設(shè)計(jì)要求
[0115] 求解出各調(diào)整機(jī)構(gòu)104的調(diào)整量后，通過調(diào)整機(jī)構(gòu)104調(diào)整完畢后，根據(jù)公式(27) 計(jì)算調(diào)整后的薄膜形面精度，并判斷形面精度S 3。是否小于設(shè)計(jì)值??，如不滿足則重新回到 第二步，如滿足則停止。
[0116] 綜上所述，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何 本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種更動與潤飾，因此本發(fā) 明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書界定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種薄膜結(jié)構(gòu)，包括薄膜陣面、周邊張力索、邊框和張拉點(diǎn)，其特征在于:薄膜陣面固 定在邊框內(nèi)，所述薄膜陣面均位于xoy平面上，所述薄膜陣面的四邊均設(shè)有周邊張力索，薄 膜陣面周邊通過周邊張力索提供張力，周邊張力索通過多個(gè)張拉點(diǎn)固定在邊框上的多個(gè)調(diào) 整結(jié)構(gòu)上，張拉點(diǎn)與調(diào)整機(jī)構(gòu)一一對應(yīng)，所述調(diào)整結(jié)構(gòu)豎直安裝在邊框上，控制調(diào)整機(jī)構(gòu)在 Z方向的高度進(jìn)而改變張拉點(diǎn)的高度，能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜結(jié)構(gòu)在軌運(yùn)行過程中薄膜陣面的平面 度控制，若干個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)W陣列的形式布置在薄膜陣面的表面。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述調(diào)整結(jié)構(gòu)為能夠?qū)崿F(xiàn)伸縮調(diào)整的 桿體。3. -種薄膜結(jié)構(gòu)形面控制方法，其特征在于，包括W下步驟： 第一步:計(jì)算調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整矩陣 假設(shè)薄膜陣面的變形h6滿足線性疊加關(guān)系，設(shè)N個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)中的第j個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整單 位行程的增量δ = 1mm時(shí)，其他調(diào)整機(jī)構(gòu)均保持不變，即調(diào)整機(jī)構(gòu)位移增量為 d = ^，…，成···，:0]，此時(shí)對應(yīng)的薄膜陣面上Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)產(chǎn)生的變形增量為扣，其中扣= Li」 當(dāng)在N個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)上的調(diào)整位移增量為(1=[山，(12，-，，(^]時(shí)，此時(shí)薄膜陣面的受控變形 增量為h''=[辟瓜…，斯]，其中第二步:獲取薄膜陣面Ξ維形面數(shù)據(jù) 通過攝影測量系統(tǒng)得薄膜陣面上所有Μ個(gè)測量標(biāo)志點(diǎn)的Ξ維坐標(biāo)(Xi，Yi，Zi)，（ i = 1， 第Ξ步:求解薄膜陣面最佳擬合平面 令薄膜陣面的最佳擬合平面的方程為z=ax+by+c，則其擬合的30誤差即形面精度δ3?？?W表示為：展開整理后為：第四步:計(jì)算各測點(diǎn)與最佳擬合平面之間的誤差 設(shè)各測量標(biāo)志點(diǎn)i與最佳擬合平面之間的誤差為皆〇 = 1，2,…，M)，記所有測量標(biāo)志點(diǎn) 與最佳擬合平面之間的誤差為hf ，皆，…，，其計(jì)算方法為：巧) 第五步:求解各張拉點(diǎn)的調(diào)整量 根據(jù)求解得到的薄膜陣面的誤差量，當(dāng)在各個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)上分別調(diào)整位移增量為d = [山，cb，…，dN]時(shí)，調(diào)整機(jī)構(gòu)執(zhí)行完位移增量后薄膜陣面的殘余變形Δ hi為：其中k為下標(biāo)，dk表示d的第k個(gè)元素； 根據(jù)式(12)可得：Ad = B (14) 式中Ae吸w"v，Be胺WX1典k表示如勺第i行第k列的元素； 根據(jù)方程(14)可W求得各調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量為： d=(AT · ArVB (15) 第六步:判斷形面精度是否滿足設(shè)計(jì)要求 求解出各調(diào)整機(jī)構(gòu)的調(diào)整量后，通過調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整完畢后，根據(jù)公式（10)計(jì)算調(diào)整后 的薄膜形面精度，并判斷形面精度δ3。是否小于設(shè)計(jì)值趕如不滿足則重新回到第二步，如 滿足則停止。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜結(jié)構(gòu)形面控制方法，其特征在于，第四步中還包括對計(jì)算 得到的各測點(diǎn)與最佳擬合平面之間的誤差進(jìn)行剔除粗大誤差點(diǎn)的處理，剔除粗大誤差點(diǎn)采 取3倍標(biāo)準(zhǔn)差準(zhǔn)則，認(rèn)為誤差大于3倍標(biāo)準(zhǔn)差的數(shù)據(jù)為無效數(shù)據(jù)，予W剔除。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的薄膜結(jié)構(gòu)形面控制方法，其特征在于，剔除粗大誤差點(diǎn)其步驟 如下： 1) 計(jì)算最大誤差值2) 計(jì)算誤差的標(biāo)準(zhǔn)差3) 判斷：如勇即判定該最大誤差值為粗大誤差，剔除該值，同時(shí)返 回步驟1)，否則結(jié)束。
【文檔編號】G06F17/50GK106096080SQ201610367214
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年5月27日
【發(fā)明人】許睿, 李東旭, 蔣建平, 鄒杰, 劉望
【申請人】中國人民解放軍國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)