專利名稱：磁轉(zhuǎn)寫用主載體及磁記錄媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及由載持轉(zhuǎn)寫信息的主載體，向接受轉(zhuǎn)寫的寫入媒體，即磁記錄媒體進行磁轉(zhuǎn)寫所用磁轉(zhuǎn)寫用主載體的結(jié)構(gòu)，以及被磁轉(zhuǎn)寫的磁記錄媒體。
隨著信息量的增加，一般希望能以大容量，廉價記錄更多的信息，還希望能在短時間內(nèi)，在任意位置能夠讀出，亦即，能進行所謂高速存取的媒體。其中之一例是所熟知的高密度軟盤，為了實現(xiàn)其大容量，要求磁頭能準確掃描窄的磁道寬度內(nèi)，以高的S/N比來再生信號，即所謂的跟蹤伺服技術(shù)起著很大作用。在圓盤的一周，在某間隔要記錄跟蹤用的伺服信號，地址信息信號，再生時間脈沖信號，也就是以所謂的予格式化來記錄。
磁頭被設(shè)定能讀出上述的予格式化信號，以修正自己的位置來準確掃描磁道?，F(xiàn)在的予格式化是以專用的伺服記錄裝置，逐盤逐一磁道進行記錄而制作的。
然而，伺服記錄裝置價高，制作予格式花費時間，此工藝占有制作成本的很大部分，從而希望從此處降低成本。
為此，有方案提出，不經(jīng)逐一磁道進行予格式化，而以磁轉(zhuǎn)寫方式來實現(xiàn)。特開昭63-183623，特開平10-40544及特開平10-269566等就介紹有磁轉(zhuǎn)寫技術(shù)。
例如特開昭63-183623及特開平10-40544提出了在基板表面有與信息信號對應(yīng)的凹凸形狀，凹凸形狀中至少在基凸面覆有磁性涂膜所構(gòu)成的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，其表面與由強磁性薄膜或強磁性涂布層構(gòu)成的片狀或圓盤狀能接受磁轉(zhuǎn)寫的磁記錄寫入媒體的表面接觸，通過外加交流偏磁場，或直流磁場所產(chǎn)生的磁轉(zhuǎn)寫用磁場，以激化構(gòu)成凸部表面的磁性材料，在寫入媒體上記錄與凹凸形狀對應(yīng)的磁化圖案的方法。
此方法是將主載體凸部表面，與需要予格式化磁記錄的寫入媒體緊密壓著，同時通過對構(gòu)成凸部磁性材料的激磁，使寫入媒體記錄所定磁圖案的轉(zhuǎn)寫方法。此法中，磁轉(zhuǎn)寫用主載體與寫入媒體間的相對位置固定不變，能在靜態(tài)下進行記錄，從而能準確進行予格式化記錄，并且記錄所需的時間也很短。
以磁轉(zhuǎn)寫方法將伺服信號記錄至磁記錄寫入媒體時，主載體須將1μm單位以下的伺服圖案，以高精度配置在3.5型磁記錄媒體(直徑3.5英寸)或2.5型磁記錄媒體(直徑2.5英寸)的整體面積上。由于各伺服圖案有其各自信息的地址，因而需要制作完全不同的圖案。
上述精細圖案，可用半導(dǎo)體·磁頭平版印刷技術(shù)來制作。由于此技術(shù)是采用將原圖縮小的方式來提高其精度，所以一次曝光所能制成的圖案被限定在約2cm角范圍，欲制造大面積圖案，就需反復(fù)記錄2cm角范圍的圖案來累加，從而，用于上述完全不同圖案的伺服記錄方式是困難的。
另一方面，由于磁轉(zhuǎn)寫法是在上述主載體與寫入媒體壓緊接觸下進行磁轉(zhuǎn)寫，反復(fù)進行磁轉(zhuǎn)寫會磨損載持信息的圖案形狀而降低轉(zhuǎn)寫精度，或被所夾雜的塵埃損傷而減少壽命。因而就需要常更換主載體。為此，主載體的制作希望能更容易和廉價。要以高精度逐枚曝光等方式來制作具有精細圖案的主載體基板，其質(zhì)量管理煩雜，從質(zhì)量的穩(wěn)定性，生產(chǎn)成本來看都不利。
有鑒于此，本發(fā)明提供了制作容易，價廉的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，及以磁記錄媒體為目的的方法。
本發(fā)明的解決手段為磁轉(zhuǎn)寫用主載體是，在有與轉(zhuǎn)寫信息對應(yīng)的精細凹凸圖案的基板表面上覆有磁性層，向接受轉(zhuǎn)寫的磁記錄寫入媒體進行磁轉(zhuǎn)寫所用的磁轉(zhuǎn)寫用主載體。上述精細凹凸圖案是在上述基板以樹脂成型的同時形成為特征。
上述基板，可使用有精細凹凸圖案的原板，以注射成型方式來制作。上述基板，也可以使用有精細凹凸圖案的原板，用紫外線固化樹脂，以2P法成型制作。此紫外線固化樹脂所用的2P法是指光聚合法，即，將紫外線固化樹脂的樹脂液涂布于原板上，經(jīng)紫外線照射使之光聚合固化，在原板上得到與凹凸形狀對應(yīng)形狀成型物的公知方法。上述信息是指伺服信號。在上述有凹凸圖案基板的背面，可施以支持體以支撐主載體。
基板的具體制作如下。將經(jīng)調(diào)節(jié)與伺服信號等信息對應(yīng)的激光或電子束照射至旋轉(zhuǎn)的涂布有光刻膠的玻璃板，使整個玻璃板上的光刻膠按所定的圖案曝光，這后，光刻膠經(jīng)顯像處理，除去曝光部分，該玻璃板經(jīng)刻蝕后得到負型凹凸圖案。除掉光刻膠后帶有凹凸的玻璃板(用2P法時，它可以用作原板)，經(jīng)鍍金屬處理及電鑄處理制得正型凹凸圖案的母板(制作負型凹凸圖案基板時，它可以用作原板)，再結(jié)電鑄處理則得反轉(zhuǎn)負型凹凸圖案的鍍金屬原板(壓模，stamper)。上述光刻膠經(jīng)顯像處理過的玻璃板，可以直接鍍金屬處理及電鑄處理得到鍍金屬原板。
使用這些原板，以注射成型，2P法等方法可以制作帶有正型或負型凹凸圖案的樹脂成型物。此樹脂成型物可用于磁轉(zhuǎn)寫用主載體的基板，其表面的凹凸圖案是在整體磁記錄媒體任意位置上制成μm單位以下的精細圖案，例如，此圖案上可通過噴鍍等方法被覆所定厚度的磁性層，其表面磁性層的凹凸形狀就是載持有與圖案對應(yīng)的轉(zhuǎn)寫信息的磁轉(zhuǎn)寫用主載體。由一張鍍金屬原板可制得許多主載體樹脂基板。上述玻璃板及母板可以反復(fù)使用。
上述樹脂基板材料的楊氏模量應(yīng)在1.5×105Pa以上，最好在2.5×105Pa以上，樹脂基板的厚度，注射成型基板應(yīng)在0.3～1.2mm(最好在0.5～1.0mm),2P法基板應(yīng)在30～80μm(最好在40～60μm)。
使用上述磁轉(zhuǎn)寫用主載體的磁轉(zhuǎn)寫方法是，將主載體上載持有信息的面，與寫入媒體面緊密壓著，外加轉(zhuǎn)寫用磁場來進行的。例如使用上述樹脂基板表面有與信息對應(yīng)并覆以磁性層的精細凹凸圖案的主載體和接受轉(zhuǎn)寫的寫入媒體，先在磁道方向?qū)懭朊襟w進行初期直流磁化，再將上述主載體，與前述經(jīng)過初期直流磁化的寫入媒體壓緊，然后，在與該寫入媒體初期直流磁化略相反方向印加轉(zhuǎn)寫用磁場以進行磁轉(zhuǎn)寫。
上述樹脂基板的凹凸圖案，對于激光或電子束的照射圖案是正型圖案也好，負型圖案也好，也就是其凹凸相反的情況下，只需將磁轉(zhuǎn)寫工藝過程中的初期磁化與轉(zhuǎn)寫用磁場方向倒過來，就可以轉(zhuǎn)寫記錄出相同的磁化圖案。
本發(fā)明的磁記錄媒體是以由載持有伺服信號的，用上述方法所制樹脂基板為主載體，接受伺服信號的磁轉(zhuǎn)寫方法為特征。
0020如上所述，本發(fā)明磁轉(zhuǎn)寫用主載體基板上，與信息對應(yīng)的精細凹凸圖案，是在以樹脂成型為基板的同時形成，故能以高精度、廉價制作對磁記錄媒體進行諸如伺服信號等信息信號磁轉(zhuǎn)寫所必要的主載體。特別是，由一枚原板，以注射成型、或2P法可以制得多數(shù)同樣的樹脂基板。根據(jù)磁轉(zhuǎn)寫的次數(shù)，還可以順次更換不同主載體，得以實施質(zhì)量穩(wěn)定的磁轉(zhuǎn)寫。
下面結(jié)合附圖和實施例詳細說明本發(fā)明的實施狀態(tài)。


圖1是本發(fā)明的一種實施狀態(tài)，所涉及的主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的示意圖。
圖2是本發(fā)明以注射成型制作主載體基板的工藝流程示意圖。
圖3是本發(fā)明以2P法制作主載體基板的前期工藝示意圖。
圖4是圖3的后續(xù)工藝示意圖。
圖5是本發(fā)明以2P法所制基板構(gòu)成的主載體斷面圖。
符號說明2寫入媒體；3主載體；10玻璃板；11光刻膠膜；12鍍金屬層；13母板；14鍍金屬原板；15模具；31、33樹脂基板；32磁性層；34支持體；P紫外線固化樹脂液。
各圖皆為模式圖，與實際尺寸在比例上有所不同。
磁轉(zhuǎn)寫方法的概要如下。首先如圖1(a)所示，對寫入媒體數(shù)字2，在磁道方向印加初期靜磁場Hin進行初期磁化(直流消磁)。其后，如圖1(b)所示，將此寫入媒體2的磁轉(zhuǎn)寫面與主載體3樹脂基板31精細凹凸圖案上由磁性層32被覆的信息載持面壓緊，在寫入媒體2的磁道方向上，以與上述初期磁場Hin相反方向，印加轉(zhuǎn)寫用磁場Hdu進行磁轉(zhuǎn)寫。其結(jié)果如圖1(c)所示，在寫入媒體2磁轉(zhuǎn)寫面(磁道)的凸部與主載體3信息載持面磁性層32密合的凹部空間，被轉(zhuǎn)寫記錄和所形成的圖案相應(yīng)的磁圖案。
主載體3的樹脂基板31，可通過下面將述及的具有凹凸圖案的原板，以注射成型或2P法等，在制作樹脂基板的同時在其表面形成精細凹凸圖案。樹脂基板31的背面，視需要可設(shè)以支持體。
上述主載體3上樹脂基板31的凹凸圖案，不論是圖1所示的正型圖案，還是凹凸相反的負型圖案，只須將初期磁場Hin的方向及轉(zhuǎn)寫用磁場Hdu的方向，與上面相反方向?qū)嵤┚涂赊D(zhuǎn)寫記錄出同樣的磁化圖案。
圖2(a)～(e)描述了以注射成型法制作主載體3上樹脂基板31的方法。以(a)～(e)所描述的工藝，可制作在樹脂基板注射成型的同時，在基板表面形成精細圖案的原板(壓模)。首先，如(a)，在表面平整的玻璃板10(石英板也可)上以旋轉(zhuǎn)涂布法涂布光刻膠液制成光刻膠膜11，在旋轉(zhuǎn)下，照射與伺服信號對應(yīng)而調(diào)節(jié)的激光L(或電子束)，對整體玻璃板10上的光刻膠11進行予格式化圖案曝光，曝光是對各磁道由旋轉(zhuǎn)中心沿半徑方向，在圓周上的各畫格的對應(yīng)部分以與伺服信號相當?shù)膱D案進行的。之后，如(b)所示，將光刻膠膜11進行顯像處理，除去曝光部分后以刻蝕工藝刻蝕除去光刻膠膜11部分的玻璃板10，形成如(c)所示的和曝光圖案相應(yīng)的刻穴10a。然后除去殘存光刻膠膜11，得到如(d)在表面上有刻穴10a的凹凸圖案玻璃板10。
在上述玻璃板10表面凹凸圖案為基礎(chǔ)，在其表面作如(e)的鍍金屬處理得到薄的鍍銀層12，其上再施以電鑄處理制得有正型凹凸圖案的母板13，從玻璃板上剝下所定厚度的母板13，然后，在母板13上施以如(f)所示的電鑄處理，得到反轉(zhuǎn)為負型凹凸圖案的鍍金屬原板14(壓模)，如(g)所示，從母板13將其剝下。
使用上述鍍金屬原板14，以注射成型制作樹脂基板31。如(h)所示，將鍍金屬原板14安裝在能夠開閉的成型模具15內(nèi)，注射樹脂制成與鍍金屬原板14凹凸圖案對應(yīng)的正型凹凸圖案樹脂基板31，冷卻后脫模，得到如(i)所示的樹脂基板31，所得樹脂基板31表面的凹凸圖案是上述玻璃板10上凹凸形狀的反轉(zhuǎn)物，在整體磁記錄媒體的任意位置上，制得精度在μm單位以下的圖案。在樹脂基板31的凹凸圖案上被覆以磁性層32則得主載體3。
鍍金屬原板14的制作方法，除上述方法以外，還有在前述玻璃板10上的光刻膠膜11經(jīng)曝光·顯像處理后，先不進行刻蝕處理，而如圖2(b)所示，在光刻膠膜11上的凹凸圖案上，直接進行鍍金屬及電鑄處理，制成正型凹凸圖案的母板13，對此母板13施以電鑄處理制得有反轉(zhuǎn)凹凸圖案鍍金屬原板14的制作方法。
也可以將上述母板13作為原板，同樣以注射成型制得樹脂基板31。此時，母板13的凹凸圖案為正型，成型后的樹脂基板31具有與玻璃板10的凹凸形狀相同的負型凹凸圖案。在樹脂基板31的凹凸圖案上覆以磁性層32則得主載體3。所得主載體3，如前所述，以與初期磁場Hin相反方向的轉(zhuǎn)寫用磁場Hdu，或如圖(a)與(b)進行與圖1(c)同樣的磁化圖案的磁轉(zhuǎn)寫。
0030鍍金屬原板14，或母板13的電鑄材料可使用Ni或Ni合金。為提高其耐久性，在凹凸形狀表面可噴涂碳，DLC(金剛石狀碳)等保護膜。
以注射成型制作樹脂基板31的樹脂材料，可以用聚碳酸脂·聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酰類樹脂，聚氯乙烯·氯乙烯共聚物等氯乙烯樹脂，環(huán)氧樹脂，無定形聚烯烴以及聚酯等。從耐熱性、尺寸穩(wěn)定性及價格等方面考慮，以聚碳酸酯為宜。成型物有毛刺時，可剃刪或拋光。樹脂基板31圖案的突起高度在50～1000nm范圍，最好在200～500nm范圍。
上述的注射成型所得樹脂基板31的厚度為0.3～1.2mm，最好在0.5～1.0mm范圍。
上述磁性層32，可將磁性材料以真空蒸著法，噴鍍法，離子注入法等真空成膜手段，鍍金屬法等成膜而得。用作磁性層32的磁性材料有，Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)，F(xiàn)e、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)，Ni、Ni合金(NiFe)。最好用FeCo、FeCoNi。磁性層的厚度為50～500nm范圍，最好在100～300nm。在磁性材料之下(基板一側(cè))也可以敷以非磁性底層，其材料有，Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、C、Ti、Al、Mo、W、Ta、Nb等。
磁性層32上最好要敷以DLC等保護膜，以及潤滑劑層。5～30nm的DLC膜作為保護膜，再敷以潤滑劑層為宜。潤滑劑可以改善與寫入媒體2接觸過程中產(chǎn)生錯位時擦傷等引起的耐久性劣化。
寫入媒體2可用高密度軟盤，硬盤等，其磁記錄層由涂布型磁記錄層，或金屬薄膜型磁記錄層所構(gòu)成。用作金屬薄膜型磁記錄層的磁性材料有，Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)，F(xiàn)e、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)圖3～圖5示意了另一實施形態(tài)，以2P法成型樹脂基板的方法。所謂2P法成型方法是將紫外線固化樹脂，以光聚合成型的方法。原板可以使用前述由圖2(a)～(g)所制得的鍍金屬原板14。在鍍金屬原板14的中心，固定有旋轉(zhuǎn)軸16，此旋轉(zhuǎn)軸16連接在沒有圖示的轉(zhuǎn)動系統(tǒng)以驅(qū)動鍍金屬原板14的轉(zhuǎn)動，旋轉(zhuǎn)軸16的上端突出于鍍金屬原板14，其端部呈圓錐形。
如圖3所示，在鍍金屬原板14上面的精細凹凸圖案上涂布紫外線固化樹脂溶液P。然后由上方將圓盤狀支持體34，從其中心孔34a插入旋轉(zhuǎn)軸16，邊插邊降以施壓所涂布的樹脂溶液P，使其展布在整個鍍金屬原板14上呈30～80μm厚度。上述支持體34為玻璃板或聚甲基丙烯酸甲酯PMMA等透紫外線材料，其厚度3～10mm，成型之后，如圖5所示即可作為主載體的一部。
如圖4所示，在支持體34降下和施壓的狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)軸16的轉(zhuǎn)動使鍍金屬原板14和支持體34一起共同轉(zhuǎn)動，由支持體34上方?jīng)]有圖示的紫外光源UV照射使樹脂液P固化(光聚合)制得樹脂基板33。上面所述的轉(zhuǎn)動是使樹脂的固化均勻。這時，為防止樹脂液P在曝光過程中被甩出鍍金屬原板14而固化，在支持體34上面周緣可配設(shè)遮光片17和在鍍金屬原板14外周部設(shè)以拭掃器18，以拭抹淌滴的剩余樹脂液P。
0040以紫外線UV照射所定時間，紫外線固化樹脂充分固化形成樹脂基板33后，可用工具敲擊將樹脂基板33從鍍金屬原板14剝下。所制樹脂基板33為有旋轉(zhuǎn)軸16留下的中心孔33a的圓盤狀，其表面在成型的同時形成正型凹凸圖案。將磁性層32被覆在凹凸圖案上得到如圖5所示的主載體3。在主載體3覆有磁性層32凹凸圖案樹脂基板33的背面接有上述支持體34。
上述以2P法所制樹脂基板33的厚度為30～80μm，最好在40～60μm。
上述紫外線固化樹脂中，聚合性單體成分有，單官能(甲基)丙烯酸酯類及多官能(甲基)丙烯酸酯類，它們可各自單獨或兩種以并用。還要加入光聚合引發(fā)劑或光增感劑。這些化合物的具體例子如在特開平4-30350及特開平11-269433中所記載為所熟知的化合物。
以2P法作用樹脂基板33時，可使用上述圖2(d)所記述的玻璃板10或母板13所為原板。其它，前述磁性層32等與前述注射成型的場合同樣，可用于同樣的磁轉(zhuǎn)寫方法。
下面說明一下主載體3樹脂基板31,33的楊氏模量的最宜范圍。如前所述，磁轉(zhuǎn)寫法是在以注射成型或2P法制得的樹脂基板31,33上覆以磁性層32，將其與寫入媒體2壓緊。這時，要施以9.8×10-5Pa以上的壓力來壓緊。所以，當轉(zhuǎn)寫次數(shù)多時，樹脂基板31,33上的精細凹凸圖案會被損傷而使轉(zhuǎn)寫信號產(chǎn)生誤差?？紤]到壓緊密著時，外加壓力引起的圖案和樹脂基板楊氏模量有關(guān)，以楊氏模量為參數(shù)進行實驗的結(jié)果顯示(參看下面表1)，當楊氏模量在某一定值以上時，轉(zhuǎn)寫次數(shù)對樹脂基板的耐久性可以大幅提高。其結(jié)果是，樹脂基板或樹脂材料的楊氏模量應(yīng)在1.5×105Pa以上，最好在2.5×105Pa以上。
如上所述，樹脂基板的厚度，注射成型基板31應(yīng)在0.3～1.2mm(最好在0.5～1.0mm),2P法基板33應(yīng)為30～80μm，(最好為40～60μm)，厚度低于上述范圍時，會有圖案形成性，剝離時樹脂板破損等問題，過厚時，樹脂基板自身會產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力變形等問題。
以下描述了本發(fā)明實施例1～4中的主載體，及比較例中的主載體，并評價了使用這些主載體進行磁轉(zhuǎn)寫時的信號質(zhì)量，大面積圖案的形成性，以及主載體表面精細圖案的耐久性。其結(jié)果示于表1。表1還列示了各主載體基板的楊氏模量。
信號質(zhì)量的評價如下。磁轉(zhuǎn)寫后的信號質(zhì)量的評定是，先將磁顯像液(Sigma High Ehemicals,Siqmaear Q)稀釋10倍，將其滴至磁轉(zhuǎn)寫過的寫入媒體上，干燥，評價顯像過的磁轉(zhuǎn)寫信號端的變動量。以微分干涉型顯微鐘，在480倍放大率下觀測10視野，求出由視野中所觀測到的最大線寬Lx，減去最小線寬Ln之值，可求出此值對目標線寬Ws的百分比，3％以下為良好值，用“○”表示，超過3％為不可值，用“×”表示。
大面積圖案形成性的評價如下。取半徑方向20mm內(nèi)線條寬及間隔為0.5μm的放射狀線條，以電特測定儀(協(xié)同電子公司制造，SS～60)評價寫入媒體的轉(zhuǎn)寫信號。使用磁頭縫隙為0.23μm，磁道寬度為3.0μm的誘導(dǎo)磁頭觀測再生信號，再生信號用光譜分析儀進行頻率分析，測定其一次信號的峰線寬度W。在半徑20mm內(nèi)，成型性紊亂，線條寬度及間隔發(fā)生變動，則為產(chǎn)生多余頻率成分，峰線寬度W會變寬。其評價是，峰線寬度W值在0.2MHz以下為良，用“○”表示，0.2～0.5MHz為可，用“△”表示，超過0.5MHz則為不可，用“×”表示。
耐久性的評價如下。在主載體與寫入媒體間的接觸壓力為5kg/cm2下，反復(fù)進行接觸·剝離操作1000次后，以微分干涉顯微鏡，在480倍放大率下，隨機觀測50視野。壓50視野內(nèi)，磁性層的磨耗，龜裂不到5處為良，用“○”表示，超過5處為不可，用“×”表示。
0050楊氏模量的測定如下。準備被測定樹脂基板片(5×30mm)。將試樣片固定在拉力試驗機上，在外加荷重的同時測定其伸長量。荷重加至它與伸長量之關(guān)系偏離直線關(guān)系為止。由荷重與伸長量關(guān)系的直線斜率可求出楊氏模量。
實施例1本實施例1的主載體是在按圖2方法所制3.5型聚碳酸酯圓盤(直徑3.5英寸圓盤)樹脂基板上，敷以200nm厚度FeCo50at％磁性層制得。所形成的圖案是，從圓盤中心到半徑方向20～40mm處刻有寬為10μm的等間隔放射狀線條，線條間隔在半徑方向20mm最內(nèi)周處為10μm間隔，溝深為200nm。磁性層是采用噴鍍法以阿尼爾巴公司制730H噴鍍裝置噴鍍。操作溫度為25℃，Ar噴鍍壓為3.3×10-4Pa(0.25m Torr)，輸入電力為2.54W/cm2的條件下實施的。結(jié)果，信號質(zhì)量，大面積圖案形成性皆良好，耐久性也良好。
實施例2實施例2的主載體，除其圖案的線條為1μm寬等間隔放射狀，線條間隔在半徑方向20mm最內(nèi)周位置為1μm間隔外，其它與實施例1相同。以此主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，對于較精細圖案，其信號質(zhì)量，大面積圖案形成性皆良好，耐久性也良好。
實施例3實施例3的主載體，除其圖案的線條為0.5μm寬度等間隔放射狀，線條間隔在半徑方向20mm最內(nèi)周位置為0.5μm間隔外，其它與實施例1相同，以此主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，更精細圖案的信息質(zhì)量，大面積圖案形成性皆良好，耐久性也良好。
實施例4實施例4的主載體，除其樹脂基板是按圖3及圖4所示方法，用2,3-雙丙烯酰氧乙氧甲基-雙[2,2,1]環(huán)庚烷紫外線固化樹脂，以2P法制作之外，其它與實施例1相同，使用此主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，信號質(zhì)量及大面積圖案形成性上，都在實施例1以上，樹脂基板的楊氏模量也比實施例1大，耐久性更好。
比較例1比較例1的主載體是在3.5型硅晶片(3.5英寸圓盤)基板上，敷以與實施例相同的磁性層，其上涂布光刻膠，用光罩柵經(jīng)一次曝光得與實施例1相同圖案，顯像處理后進行刻蝕，除去部分磁性層而制得。使用此主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，信號質(zhì)量，大面積圖案形成性，耐久性等皆良好。亦即，實施例1～4的主載體和比較例1的主載體比較，前者的性能相當于后者或更好。
比較例2比較例2的主載體是在比較例1硅晶片基板磁性層上涂布光刻膠，用與實施例2相同圖案的光罩柵曝光，顯像，刻蝕而制得。使用此主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，其信號質(zhì)量及耐久性雖良好，但大面積圖案形成性降低。
比較例3比較例3的主載體是在比較例1所用硅晶片基板的磁性層上涂布光刻膠，以與實施例3相同圖案的光罩柵曝光，顯像，刻蝕而制得，使用此主載體進行行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，信號質(zhì)量及耐久性雖然良好，但大面積圖案形成性更差。
比較例4比較例4的主載體是以按圖2方法所制母板13原物作為基板外，其它與實施例1相同的主載體。使用此主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，信號質(zhì)量，大面積圖案形成性，而久性等皆顯示出與實施例1相當或更好的性能，但實施例1主載體可由一個原板復(fù)制出多數(shù)樹脂基板，其生產(chǎn)成本可以大幅度降低。
比較例5比較例5的主載體，除樹脂基板的材料改用聚丙烯之外，與實施例1的主載體相同，使用此主載體進行磁轉(zhuǎn)寫的結(jié)果，信號質(zhì)量，大面積圖案形成性雖然良好，但由于樹脂基板的楊氏模量低，其耐久性差。
0060以上主要以水平磁記錄方式磁轉(zhuǎn)寫方法為中心記述了本發(fā)明的實施狀態(tài)，本發(fā)明也可適用于垂直磁記錄方式磁轉(zhuǎn)寫方法。
〖表1〗
權(quán)利要求
1．磁轉(zhuǎn)寫用主載體，由在基板表面有與轉(zhuǎn)寫信息對應(yīng)的精細凹凸圖案磁性層所構(gòu)成的主載體，向接受轉(zhuǎn)寫磁記錄的寫入媒體進行磁轉(zhuǎn)寫時所使用的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，其特征在于上述基板是在樹脂成型的同時制成上述精細凹凸圖案。
2．如權(quán)利要求1所述的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，其特征在于用具有精細凹凸圖案的原板，以注射成型制作上述基板。
3．如權(quán)利要求1所述的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，其特征在于用具有精細凹凸圖案為原板，使用紫外線固化樹脂的2P法成型。
4．如權(quán)利要求1～3中之任何一項所述的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，其特征在于上述主載體是與予先在磁道方向被初期直流磁化的寫入媒體緊密壓著，再在與上述初期磁化方向略相反方向印加轉(zhuǎn)寫用磁場以進行磁轉(zhuǎn)寫所用的主載體。
5．如權(quán)利要求1～4之任何一項中所述的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，其特征在于上述信息為伺服信號。
6．如權(quán)利要求5所述的磁轉(zhuǎn)寫用主載體，其特征在于所述伺服信號是以權(quán)利要求1～4之任何一項所述的磁記錄媒體進行磁轉(zhuǎn)寫。
全文摘要
磁轉(zhuǎn)寫用主載體及磁記錄媒體,在制作基板(31)表面有與轉(zhuǎn)寫信息對應(yīng)的精細凹凸圖案磁性層(32)所構(gòu)成,并能與寫入媒體(slave media)緊密壓著進行磁轉(zhuǎn)寫所用的主載體時,基板(31)上的精細凹凸圖案是在樹脂成型過程同時完成。樹脂基板(31)最好是用具有精細凹凸圖案的原板,用注射成型,或用2P法成型。其簡易價廉,并能以高精度制作能對磁記錄媒體進行諸如伺服信息等信息信號磁轉(zhuǎn)寫方法所用的主載體。
文檔編號G11B5/84GK1309387SQ0110371
公開日2001年8月22日 申請日期2001年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2000年2月15日
發(fā)明者西川正一, 渡辺清一 申請人:富士膠片株式會社