專利名稱：磁傳輸載體的清潔方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及記錄信息信號(hào)的磁傳輸載體的清潔方法，更具體來說，涉及用于向硬盤設(shè)備或軟盤設(shè)備中使用的磁記錄媒介進(jìn)行信息信號(hào)的磁傳輸?shù)拇艂鬏斴d體的清潔方法。
在這種清潔方法的一例中，磁傳輸載體表面上的磁性膜的角部在用清潔工具清潔時(shí)被刮掉，在有些情況下，被刮掉的磁性膜作為碎片附著在清潔工具上。在這種清潔方法中，雖然在磁傳輸載體表面上的上述微小凸起被清潔工具去除，但是，磁性膜的碎片作為異物通過清潔工具附著在磁傳輸載體表面上，磁傳輸則不便使用附著有異物的磁傳輸載體對(duì)作為磁記錄媒介的硬盤進(jìn)行。
因此，在傳統(tǒng)的清潔方法中，必須經(jīng)常清潔清潔工具本身，從而導(dǎo)致額外的清潔步驟，使硬盤生產(chǎn)率下降，使盤的生產(chǎn)成本增加，還需要用于清潔清潔工具的昂貴設(shè)備等，因而使總體成本很高。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種清潔方法，該清潔方法能夠以低成本可靠地清潔磁傳輸載體而無需用于清潔清潔工具本身的設(shè)備；
按照本發(fā)明的這種清潔方法，為了清潔清潔工具，只需將假載體放置在用于清潔磁傳輸載體的轉(zhuǎn)臺(tái)上即可。因此，這種清潔方法不必使用對(duì)清潔工具進(jìn)行清潔工作的設(shè)備，從而能夠可靠地以低成本清潔磁傳輸載體。
在本發(fā)明的第二步驟中，最好使清潔工具從假載體的內(nèi)周滑向外周，在清潔中同時(shí)使假載體基本同向在磁傳輸載體上轉(zhuǎn)動(dòng)。
在本發(fā)明中，假載體上至少一個(gè)凹部的形狀和磁傳輸載體上每個(gè)凹部的形狀最好是彼此基本相同的。在這種情形中，當(dāng)清潔工具接受假載體的清潔作用時(shí)，它已經(jīng)適應(yīng)于假載體的至少一個(gè)凹部；因此，當(dāng)其上所具有多個(gè)與假載體上至少一個(gè)凹部形狀相同的凹部的磁傳輸載體被清潔工具清潔時(shí)，清潔可以可靠、簡便地進(jìn)行。
在本發(fā)明中，當(dāng)清潔工具在清潔中在假載體滑動(dòng)時(shí)清潔工具對(duì)假載體上的接觸壓力最好與清潔工具在清潔中在磁傳輸載體上滑動(dòng)時(shí)清潔工具對(duì)磁傳輸載體的接觸壓力相同。
在這種情形中，當(dāng)清潔工具接受假載體的清潔作用時(shí)，它已經(jīng)適應(yīng)于假載體的至少一個(gè)凹部；因此，當(dāng)其上具有多個(gè)與假載體上至少一個(gè)凹部形狀相同的凹部的磁傳輸載體被清潔工具清潔時(shí)，清潔工作可以可靠、簡便地進(jìn)行。
在本發(fā)明中，當(dāng)清潔工具在清潔中在假載體上滑動(dòng)時(shí)清潔工具相對(duì)于假載體的相對(duì)速度最好與當(dāng)清潔工具在清潔中在磁傳輸載體上滑動(dòng)時(shí)清潔工具相對(duì)于磁傳輸載體的相對(duì)速度基本相同或幾乎相同。
在這種情形中，當(dāng)清潔工具接受假載體的清潔作用時(shí)，它已經(jīng)適應(yīng)于假載體的至少一個(gè)凹部；因此，當(dāng)其上具有多個(gè)與假載體上的至少一個(gè)凹部的形狀相同的凹部的磁傳輸載體被清潔工具清潔時(shí)，清潔工作能夠被可靠、簡便地進(jìn)行。
(2)按照本發(fā)明的磁傳輸載體是這樣一種磁傳輸載體，在這種磁傳輸載體上記錄信息信號(hào)，這種磁傳輸載體在將信息信號(hào)磁傳輸至與其接觸的磁記錄媒介時(shí)使用，在其結(jié)構(gòu)中，在面對(duì)磁記錄媒介的磁傳輸表面上形成一個(gè)凹部，其用于在磁傳輸載體和磁記錄媒介之間在磁傳輸中緊密接觸，該凹部具有從磁傳輸載體內(nèi)周通向其外周的形狀，另外，它還用作清潔磁傳輸載體的凹部。
按照本發(fā)明的磁傳輸載體，由于用于緊密接觸的凹部被用作在磁傳輸載體被清潔工具清潔時(shí)用于清潔的凹部，因而如果已經(jīng)使用了清潔工具，那么，為了清潔清潔工具，在假載體的已形成與用于緊密接觸的凹部相同形狀的凹部的表面的清潔過程中，清潔工具已處于適應(yīng)于磁傳輸載體上的用于清潔的凹部的狀態(tài)中，這樣就不僅能夠使清潔簡便，而且也能夠使附著在磁傳輸載體上的異物通過外周、進(jìn)一步通向外界的用于清潔的凹部而被丟棄，從而使磁傳輸載體的清潔易于控制。
應(yīng)當(dāng)注意的是，清潔工具包括一個(gè)墊狀、刷狀、輥狀或其它形狀的工具。
在本發(fā)明中，磁傳輸載體最好不僅具有在其上的多個(gè)用于向磁記錄媒介磁傳輸?shù)膹较蚪佑|部分，所述徑向接觸部分從在磁傳輸表面上從內(nèi)周通向外周，而且還具有至少在一對(duì)接觸部分之間徑向設(shè)置的用于清潔的凹部。
在這種情形中，由于用于清潔的凹部是在朝向磁傳輸載體的外周的方向上徑向形成的，因而當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)磁傳輸載體，清潔工具在磁傳輸載體上滑動(dòng)時(shí)，異物能夠很有效地被清除至外界。
在本發(fā)明中，用于緊密接觸的凹部最好從磁傳輸載體內(nèi)周向其外周寬度加大。
由于用于緊密接觸的凹部采用了這種形狀，異物可被更有效地被清除至外界。
(3)本發(fā)明的盤清潔設(shè)備包括一個(gè)能夠固定被清潔的第一盤和用作假盤的第二盤的固定部分、一個(gè)設(shè)置成面對(duì)由固定部分固定的兩個(gè)盤的清潔工具和一個(gè)滑動(dòng)部分，該滑動(dòng)部分在清潔中使清潔工具在兩個(gè)盤的每一個(gè)上相對(duì)滑動(dòng)，并可按照一個(gè)程序工作，該程序包括一個(gè)在第二盤被固定部分固定的狀態(tài)下，使清潔工具在第二盤上與其相對(duì)滑動(dòng)以便清潔清潔工具的步驟；以及一個(gè)在第一盤被固定部分固定的狀態(tài)下，使在前述步驟中被清潔的清潔工具在第一盤上與其相對(duì)滑動(dòng)的步驟。
按照本發(fā)明，由于在清潔工具的清潔步驟中，清潔工具借助其在第二盤上的滑動(dòng)而被清潔，而且第一盤在第一盤的清潔步驟中被清潔，因而在清潔中適應(yīng)于第二盤的清潔工具可以容易地清洗第一盤。
在清潔中，本發(fā)明最好具有一個(gè)控制機(jī)構(gòu)，該控制機(jī)構(gòu)使清潔工具橫過第二盤移動(dòng)，覆蓋第二盤的每個(gè)部分，直至其外周緣以外。
在這種情形中，由于異物被送至第二盤外面，因而附著在清潔工具上的異物失去了第二次附著在其上的機(jī)會(huì)。
在清潔中，本發(fā)明最好具有一個(gè)控制機(jī)構(gòu)，該控制機(jī)構(gòu)使清潔工具橫過第一盤移動(dòng)，覆蓋第一盤的每個(gè)部分，直至其外周緣以外。
在這種情形中，由于異物被送至第一盤外面，因而附著在第一盤上的異物失去仍留在第一盤上的機(jī)會(huì)。
本發(fā)明最好使用磁傳輸載體作為第一盤，在其上記錄信息信號(hào)，在與磁記錄媒介接觸的狀態(tài)下用于信息信號(hào)的磁傳輸，在面對(duì)磁記錄媒介的磁傳輸表面上具有從其內(nèi)周通至其外周的至少一個(gè)凹部，并且本發(fā)明最好使用假載體作為第二盤，其具有在其至少一個(gè)表面上的與磁傳輸載體的至少一個(gè)凹部形狀幾乎相同形狀的凹部。
在這種情形中，由于假載體具有從其內(nèi)周向其外周延伸的徑向凹部，因而附著在清潔工具上的異物當(dāng)用假載體清潔清潔工具時(shí)被容易、簡單地送出，直至假載體的外周，而且清潔工具已適應(yīng)于假載體上凹部的形狀，因而磁傳輸載體可被容易地清潔。
(4)相應(yīng)于在磁傳輸表面上帶有多個(gè)從內(nèi)周向外周延伸的徑向凹部的、用于信息信號(hào)的磁傳輸?shù)拇艂鬏斴d體，本發(fā)明的假載體具有在其至少一個(gè)表面上的從其內(nèi)周向其外周延伸的徑向凹部，該凹部的形狀與磁傳輸表面上的多個(gè)徑向凹部中的每一個(gè)的形狀基本相同，假載體用于通過在假載體被盤清潔設(shè)備的固定部分固定時(shí)使清潔工具在假載體的表面上的滑動(dòng)而清潔清潔工具。
按照本發(fā)明，清潔工具最好能夠在假盤的清潔中使用。在這種情形中，由于假盤在其表面上具有徑向凹部，因而當(dāng)清潔工具在該表面上被清潔時(shí)，附著在該表面上的異物通過通至假載體外周的凹部可以可靠地被清潔工具清除至假載體外面，從而易于實(shí)現(xiàn)磁傳輸載體的清潔控制。
(5)本發(fā)明的載體清潔設(shè)備是一種磁傳輸載體的清潔設(shè)備，所述磁傳輸載體具有相應(yīng)于在一基片表面上形成的信息信號(hào)的磁性膜，該清潔設(shè)備包括一個(gè)固定部分，該固定部分用于固定磁傳輸載體，所述磁傳輸載體具有從其內(nèi)周伸向其外周的徑向形狀的凹部，在外周的一條邊緣通至外界；一個(gè)清潔工具，該清潔工具設(shè)置成面對(duì)磁傳輸載體的形成有磁性膜的表面；以及一個(gè)滑動(dòng)部分，該滑動(dòng)部分使清潔工具在磁傳輸載體上與其相對(duì)滑動(dòng)，其中在清潔時(shí)，滑動(dòng)部分將清潔工具以規(guī)定的下壓量壓向磁傳輸載體并保持這種狀態(tài)，使清潔工具按照凹部的徑向形狀從內(nèi)周滑向外周。
由于采用了上述結(jié)構(gòu)，附著在表面及磁傳輸載體的凹部中的異物能夠被容易、簡單地被清除，并且能夠完全避免由于磁記錄媒介和磁頭間存在異物而引起的磁記錄媒介和磁頭之間的接觸因而造成的磁頭和磁記錄媒介的損壞。
在本發(fā)明中，在磁傳輸載體表面上，在沒有凹部的中心部分的面積最好大于清潔工具與磁傳輸載體接觸的面積。這是由于當(dāng)清潔開始之前清潔工具被壓入磁傳輸載體時(shí)，不會(huì)出現(xiàn)清潔工具與凹部形成的凹陷和凸起接觸的緣故。
在本發(fā)明中，清潔工具最好是一個(gè)旋轉(zhuǎn)刷，該旋轉(zhuǎn)刷圍繞一條作為軸線的、在基本平行于磁傳輸載體的垂線的方向上的直線轉(zhuǎn)動(dòng)。
在本發(fā)明中，如果旋轉(zhuǎn)刷的半徑為r(mm)、由滑動(dòng)部分驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)刷的滑動(dòng)中滑動(dòng)重復(fù)周期為t(s)、幾乎為圓形的磁傳輸載體的半徑為R(mm)、磁傳輸載體被固定部分轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)的轉(zhuǎn)速為X(rps)，那么，最好形成πtXR＜r的關(guān)系。這是由于在磁傳輸載體的全部表面上的清潔能夠可靠地得以進(jìn)行的緣故。
在本發(fā)明中，如果磁傳輸載體上的凹部深度為M(mm)、清潔中旋轉(zhuǎn)刷在磁傳輸載體中的壓下量為N(mm)，那么，最好形成N/M＞10的關(guān)系。這是由于如果形成這種關(guān)系，異物可被更可靠地清除的緣故。
在本發(fā)明中，凹部最好從內(nèi)周至外周寬度加大。這是由于異物能夠被更可靠地清除至外周緣以外的緣故。
在本發(fā)明中，清潔工具最好在磁傳輸載體的形成有磁性膜的表面上滑動(dòng)直至磁性膜外周緣以外。這是由于異物能夠可靠被清除而不會(huì)留在磁傳輸載體的外周緣上的緣故。
在本發(fā)明中，最好凹部基本呈圓弧形截面、清潔工具圍繞一個(gè)作為中心的規(guī)定位置旋轉(zhuǎn)、所述圓弧的曲率半徑和旋轉(zhuǎn)刷的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的半徑彼此幾乎一致。這是由于附著在凹部上的異物能夠被更為可靠地送出的緣故。
(6)本發(fā)明的清潔方法是一種磁傳輸載體的清潔方法，所述磁傳輸載體具有相應(yīng)于在一基片表面上形成的信息信號(hào)的磁性膜，所述清潔方法包括以下步驟固定磁傳輸載體，該磁傳輸載體具有從其內(nèi)周延伸向其外周的徑向形狀的凹部，其外周上的一條邊緣通至外界；以及使設(shè)置得面對(duì)磁傳輸載體的形成有磁性膜的表面的清潔工具在其上相對(duì)滑動(dòng)，其中在清潔時(shí)，滑動(dòng)部分以規(guī)定的下壓量將清潔工具壓向磁傳輸載體并保持這種狀態(tài)，使清潔工具按照凹部的徑向形狀從內(nèi)周滑向外周。
由于采用了上述結(jié)構(gòu)，附著在磁傳輸載體的表面和凹部中的異物能夠被容易地清除，并且能夠完全避免由于磁記錄媒介和磁頭之間存在異物而引起的磁記錄媒介和磁頭之間接觸所造成的磁頭和磁記錄媒介的損壞。
使用上述清潔方法和清潔設(shè)備清潔的磁傳輸載體沒有異物，這是由于異物已被可靠地清除。因此，當(dāng)在磁記錄設(shè)備在信息信號(hào)已從這種磁傳輸載體磁傳輸在其上的磁記錄媒介上工作時(shí)，可以進(jìn)行高質(zhì)量的磁記錄復(fù)制，其中不會(huì)產(chǎn)生磁記錄媒介和磁頭之間存在異物引起的磁記錄媒介和磁頭之間的接觸所造成的磁頭和磁記錄媒介的損壞。


圖11是實(shí)施例的清潔設(shè)備的結(jié)構(gòu)的立體圖；圖12是圖11的清潔設(shè)備的頂視圖；圖13是磁傳輸載體的局部放大剖視圖；圖14是按照本發(fā)明其它實(shí)施例的磁傳輸設(shè)備的立體圖；圖15是按照本發(fā)明其它實(shí)施例的磁傳輸設(shè)備的立體圖；圖16的曲線圖表示按照本發(fā)明其它實(shí)施例的磁傳輸設(shè)備中旋轉(zhuǎn)刷的運(yùn)動(dòng)周期；以及圖17是按照本發(fā)明其它實(shí)施例的磁記錄復(fù)制設(shè)備的平面圖。
現(xiàn)在對(duì)照?qǐng)D1至3，標(biāo)號(hào)1代表準(zhǔn)備在其上記錄信息信號(hào)的磁記錄媒介如磁盤；標(biāo)號(hào)2代表盤狀磁傳輸載體，在其上記錄信息信號(hào)以便向磁記錄媒介1進(jìn)行信息信號(hào)的磁傳輸；標(biāo)號(hào)3代表設(shè)置在磁傳輸載體2的一個(gè)表面上的多個(gè)用于在磁傳輸中與盤狀磁記錄媒介1接觸的徑向接觸部分；標(biāo)號(hào)4代表徑向凹部。
每個(gè)徑向凹部4與相鄰徑向接觸部分3之間的相應(yīng)徑向接觸部分3比較陷入基片的材料中，并從磁傳輸載體2的內(nèi)周通向其外周。每個(gè)徑向凹部4如下面將要講到的那樣用作清潔凹部，其深度最好設(shè)定在一個(gè)5μm左右的值上。
標(biāo)號(hào)6代表用于支承磁記錄媒介1的支承臺(tái)；標(biāo)號(hào)7代表用于使氣體流入支承臺(tái)6的中心部分而設(shè)置的通氣孔；標(biāo)號(hào)8代表一條通道，磁傳輸載體2和磁記錄媒介1之間的氣體通過該通道排放，或者氣體被強(qiáng)制在其間輸送；標(biāo)號(hào)9代表用于排放來自通道8的氣體的排放孔；標(biāo)號(hào)10代表連接于氣體排放孔9的抽吸泵；標(biāo)號(hào)11代表用于控制氣體排放的排氣閥。標(biāo)號(hào)12代表用于將氣體強(qiáng)制送入通道8的送氣泵；標(biāo)號(hào)13代表控制氣體輸送的送氣閥。送氣泵12設(shè)有孔的大小為0.01μm的空氣濾清器(未畫出)，因而0.01μm或更大的異物不致被送入通道8。
標(biāo)號(hào)14代表一個(gè)臂，該臂固定地安裝在所固定的磁傳輸載體2上。磁傳輸載體2借助設(shè)置在固定臂14上的通孔抽吸氣體而固定地安裝在固定臂14上。固定臂14借助一個(gè)導(dǎo)向件16沿垂向經(jīng)由導(dǎo)向件頂側(cè)面上的凸臺(tái)部分自由滑動(dòng)地定位在一個(gè)適當(dāng)?shù)奈恢蒙稀?br> 下面詳述與抽吸/強(qiáng)制輸送有關(guān)的過程。
首先對(duì)照?qǐng)D1描述一個(gè)移開步驟，借助強(qiáng)制輸送空氣移動(dòng)磁傳輸載體2和磁記錄媒介1，使其彼此分開，空氣是氣體的一個(gè)實(shí)例。當(dāng)送氣閥13被打開時(shí)，排氣閥11被閉合，在這種狀態(tài)下，送氣泵12工作，因此使氣體流入通道8。這樣，空氣通過通氣孔7被強(qiáng)制向上輸送，如圖1中箭頭A所示。因此，被強(qiáng)制送入通氣孔7中的空氣向上推動(dòng)磁傳輸載體2。被強(qiáng)制送入凹部4中的空氣不僅膨脹，從磁傳輸載體2的中心部分通過凹部4徑向向著磁傳輸載體2的外周推進(jìn)，而且也通過磁傳輸載體2和磁記錄媒介1之間的間隙包括凹部4排入大氣中。
圖4表示在上述步驟中經(jīng)過的時(shí)間和磁傳輸載體2與磁記錄媒介1之間的空間H中的壓力之間的關(guān)系，在該圖中3秒之后，空間H中的壓力瞬間迅速從101.3Kpa上升，其后，在130Kpa左右的壓力下保持大約1秒，該期間相應(yīng)于磁傳輸載體2和磁記錄媒介1彼此保持分開的狀態(tài)。
磁傳輸載體2和磁記錄媒介1從彼此緊密接觸狀態(tài)開始彼此移開，當(dāng)磁傳輸載體2隨固定臂14整體上升0.5mm時(shí)，固定臂14的頂面與導(dǎo)向件16的下表面接觸。因此，磁記錄媒介1和磁傳輸載體2之間分開的距離得到控制。
現(xiàn)在對(duì)照?qǐng)D2描述通過抽吸空氣使磁記錄媒介1和磁傳輸載體2彼此緊密接觸的緊密接觸過程。
送氣泵12停止運(yùn)轉(zhuǎn)，送氣閥13閉合。然后，固定地裝有磁記錄媒介1的固定臂14借助自重向下移動(dòng)，落在磁記錄媒介1上。其后，排氣閥11被打開，抽吸泵10運(yùn)轉(zhuǎn)。
這樣，由于通氣孔7中的氣體如圖2中箭頭C所示向下排放，因而凹部4中的氣體，即，空間H中的氣體也通過磁記錄媒介1內(nèi)周限定的孔和凸臺(tái)5之間的間隙排放。
由于每個(gè)凹部4如圖3所示呈現(xiàn)穿過磁傳輸載體2的外周邊緣的形狀，因而磁傳輸載體2和磁記錄媒介1沿整個(gè)圓周彼此緊密接觸。因此，在磁傳輸載體2和磁記錄媒介1之間的空間H中的壓力下降得低于大氣壓力。因此，磁記錄媒介1受到大氣壓力15的作用而壓向磁傳輸載體2。在圖4中，在空間H中的壓力中的一個(gè)30Kps的刻度相應(yīng)于上述的緊密接觸狀態(tài)。
然后，一個(gè)磁鐵17在圖2所示的箭頭D的方向上移動(dòng)，以便接近磁傳輸載體2。當(dāng)磁鐵17接近于磁傳輸載體2的距離達(dá)到一個(gè)1mm左右的值時(shí)，磁鐵17在箭頭D的方向上的移動(dòng)停止。然后，磁鐵17在磁記錄媒介1的圓周方向上，即，在箭頭D的方向上旋轉(zhuǎn)一圈或更多。由于這種旋轉(zhuǎn)，磁傳輸所需磁場被施加在磁傳輸載體2上。
現(xiàn)在參閱圖5至7詳述磁傳輸載體2。圖5是磁傳輸載體2的一個(gè)實(shí)例的示意平面圖。如圖5所示，在磁傳輸載體2的一個(gè)主表面，即，磁傳輸載體2的與磁記錄媒介1的鐵磁薄膜表面接觸的表面上幾乎徑向地形成一個(gè)信號(hào)區(qū)域2a。圖3和5的視圖分別表示一個(gè)模型，實(shí)際上，在圖3中信號(hào)區(qū)域2a是在接觸部分3上形成的。
圖6示意地表示圖5中虛線所圍住的部分A′的放大視圖。如圖6所示，在信號(hào)區(qū)域2a中形成有記錄在磁記錄媒介1上的數(shù)字信息信號(hào)，例如由鐵磁薄膜制成的磁性部分構(gòu)成的磁傳輸模式，其相應(yīng)于在符合預(yù)先格式記錄的位置上的信息信號(hào)。
在圖6中，影線部分表示鐵磁薄膜制成的磁性部分。圖6中所示的磁傳輸信號(hào)模式帶有一種構(gòu)造，在這種構(gòu)造中信息信號(hào)如時(shí)鐘信號(hào)、跟蹤伺服信號(hào)和其它數(shù)字信號(hào)基本在道磁跡長度(track length)的方向上布置。圖6中所示的磁傳輸信息模式是一種實(shí)例，磁傳輸信息模式的構(gòu)造、布置等是按照準(zhǔn)備磁傳輸至磁記錄媒介1的信息信號(hào)適當(dāng)確定的。
例如，象在硬盤驅(qū)動(dòng)器中那樣，基準(zhǔn)信號(hào)被記錄在作為磁記錄媒介的硬盤的磁膜上，跟蹤伺服信號(hào)和其它信號(hào)的預(yù)先格式記錄在基準(zhǔn)信號(hào)的基礎(chǔ)上進(jìn)一步進(jìn)行，在這種情形中，可以采用下述過程使用本發(fā)明的磁傳輸載體只傳輸記錄事先在硬盤的磁膜上預(yù)先格式記錄中使用的基準(zhǔn)信號(hào)，然后，將磁盤裝入驅(qū)動(dòng)器殼體中，隨后進(jìn)行用硬盤驅(qū)動(dòng)器的磁頭進(jìn)行的跟蹤伺服信號(hào)和其它信號(hào)的預(yù)先格式記錄。
圖7表示磁傳輸載體2的局部剖視圖。如圖7所示，磁傳輸載體2具有一個(gè)基片2b，該基片是由非磁性材料制成的，如Si基片、玻璃基片、塑料基片等，呈盤狀。在基片2b的一個(gè)主表面上，即，在基片的與磁記錄媒介1的表面接觸的表面上形成有多個(gè)精細(xì)凹下部分2c，它們相應(yīng)于一種布置模式的信息信號(hào)。在基片2b上的凹下部分2c中形成作為磁性部分的鐵磁薄膜2d。
作為磁傳輸載體2上的鐵磁薄膜2d的材料，它們只需為能夠在磁記錄媒介上傳輸記錄數(shù)字信息信號(hào)的材料，對(duì)其硬度如硬、半硬或軟等性質(zhì)無具體限定。鐵磁薄膜2d的材料例如可以是Fe、Co、Fe-Co合金及其它材料。應(yīng)注意的是，不管在其上書寫信息信號(hào)的磁記錄媒介的種類，為了產(chǎn)生足夠的記錄磁場，更為優(yōu)選的是較高飽和磁通密度的磁性材料。特別是在具有超過200Oe的高抗磁力的磁記錄媒介和具有厚的磁性層的軟磁盤的情形中，在0.8T或更小的飽和磁通密度下可能喪失在其上充分記錄的能力。因此，要采用具有一般為0.8T或更大的、最好為1.0T或更大的飽和磁通密度。
磁傳輸載體2的鐵磁薄膜2d的厚度取決于位長(bit length)、磁記錄媒介的飽和磁化和磁性層的厚度。例如，在位長為大約1μm，磁記錄媒介的飽和磁化和磁性層厚度分別為大約500emu/cc和大約20nm的情形中，鐵磁薄膜2d的厚度只須為50nm至500nm范圍的值。
為了獲得這種磁傳輸信號(hào)的良好質(zhì)量，最好在作為設(shè)置在磁傳輸載體2上的鐵磁薄膜2d的軟磁薄膜或半硬磁薄膜的布置模式的基礎(chǔ)上，在預(yù)先格式記錄中均勻地使鐵磁薄膜2d勵(lì)磁。另外，在使磁傳輸載體信號(hào)記錄之前最好對(duì)磁記錄媒介1如硬盤施加均勻的直流消磁。
下面描述磁傳輸載體2的制造方法。
在Si基片的表面上形成一保護(hù)膜。然后，象在照相平版印法中那樣使用激光束或電子束的平版印刷技術(shù)，使保護(hù)膜經(jīng)過曝光及顯影，最終被模式化。其后，借助干刻蝕或類似技術(shù)刻蝕保護(hù)膜，以便在保護(hù)膜上形成相應(yīng)于信息信號(hào)的精細(xì)的凹凸形狀。此后，采用濺射法、真空蒸發(fā)法、離子電鍍法、CVD法、電鍍法或類似方法來制得磁傳輸載體2，該磁傳輸載體設(shè)有相應(yīng)于信息信號(hào)的磁性部分，呈現(xiàn)凹下部分填有Co或類似物制成的鐵磁薄膜的狀態(tài)。
對(duì)于上述在磁傳輸載體2的表面上形成凹凸形狀的方法沒有具體限制，例如，采用激光束、電子束或離子束直接形成精細(xì)的凹凸形狀，或者，這種形狀也可以通過機(jī)加工直接形成。
然后，相應(yīng)于在磁傳輸載體2上形成的模式的信息信號(hào)經(jīng)受傳輸記錄，下面對(duì)照?qǐng)D8至10描述其過程。
首先，將磁鐵17移近磁記錄媒介1。在這種狀態(tài)下，以磁記錄媒介1的中心軸線為轉(zhuǎn)動(dòng)軸線，與磁記錄媒介1平行地轉(zhuǎn)動(dòng)磁鐵17，從而事先在圖8箭頭所示的一個(gè)方向上使磁記錄媒介1磁化(初始化)。
然后，經(jīng)過定位使磁傳輸載體2在磁記錄媒介1上重疊，在這種重疊狀態(tài)下，使磁傳輸載體2和磁記錄媒介1彼此均勻、緊密地接觸。其后，在與初始化中的方向相反的方向上施加一個(gè)磁場，從而使磁傳輸載體2的磁性部分2d被磁化。如圖9所示，相應(yīng)于磁傳輸載體2上磁性部分2d的布置模式的信息信號(hào)被磁傳輸在與磁傳輸載體2重疊的磁記錄媒介1上的規(guī)定區(qū)域1b中。應(yīng)注意的是，圖9中的箭頭是磁傳輸至磁記錄媒介1的磁化模式的磁場的方向。
在圖10中表示進(jìn)行的磁化的細(xì)節(jié)。如圖10所示，在磁傳輸載體2重疊在磁記錄媒介1的狀態(tài)下，從外部向磁傳輸載體2施加一個(gè)磁場，以便磁化磁傳輸載體2上的磁性部分2d。因此，信息信號(hào)可以被磁傳輸至磁記錄媒介1上的鐵磁層1c。即，通過使用其上形成鐵磁薄膜制成的、相應(yīng)于規(guī)定信息信號(hào)的布置模式的磁性部分2d的磁傳輸載體2，能夠向磁記錄媒介1進(jìn)行磁傳輸記錄，作為相應(yīng)于信息信號(hào)的磁化模式。
應(yīng)注意的是，作為向磁記錄媒介1磁傳輸磁傳輸載體2上的模式的方法，也可采用下述方法，其中磁傳輸載體2上的磁性部分2d事先被磁化，然后在這種狀態(tài)下，使磁傳輸載體2與磁記錄媒介1緊密接觸，從而能夠書寫信息信號(hào)，除了上述方法外，在磁傳輸載體2和磁記錄媒介1彼此接觸的狀態(tài)下，向兩者施加一個(gè)外部磁場。
其后，再次使磁傳輸載體2和磁記錄媒介1彼此分開，如圖1所示。即，將排氣閥11閉合，且將送氣閥13打開，使送氣泵12運(yùn)轉(zhuǎn)。然后，如箭頭A和B所示強(qiáng)制輸送空氣，使磁傳輸載體2借助被強(qiáng)制輸送的空氣的力的作用，與固定臂14整體地移動(dòng)。當(dāng)固定臂14的頂面接觸導(dǎo)向件16時(shí)，磁傳輸載體2停止移動(dòng)。此時(shí)，如箭頭B所示，空氣被強(qiáng)制地通過凹部4徑向地從磁傳輸載體2的中心送向其外周，并保持該狀態(tài)。
這里，如果在磁傳輸載體2的接觸部分3存在異物，通過進(jìn)行磁傳輸就會(huì)在磁記錄媒介1上出現(xiàn)缺陷。
下面對(duì)照?qǐng)D11至13描述清潔方法。
圖11是盤清潔設(shè)備的結(jié)構(gòu)的立體圖。
在圖11中，盤清潔設(shè)備具有一個(gè)假載體102。盤狀假載體102的材料是硅片。假載體102上具有多個(gè)徑向凹部4′，它們具有與磁傳輸載體2上的徑向凹部4相同的形狀。
標(biāo)號(hào)103代表作為固定磁傳輸載體2和假載體102的固定部分的轉(zhuǎn)臺(tái)。當(dāng)例如用靜止的夾頭固定假載體102時(shí)，轉(zhuǎn)臺(tái)103沿方向AA轉(zhuǎn)動(dòng)。轉(zhuǎn)臺(tái)103也用作磁傳輸載體2的固定部分，磁傳輸載體2是準(zhǔn)備清潔的盤。
標(biāo)號(hào)107代表一個(gè)清潔用盤，標(biāo)號(hào)108代表一個(gè)聚氨酯制成的墊狀清潔工具，清潔工具108沿著清潔用盤107的外周安裝，面對(duì)假載體102上的凹部4′。標(biāo)號(hào)109是旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，用于在箭頭BB的方向上自動(dòng)旋轉(zhuǎn)清潔用盤107，標(biāo)號(hào)110是一連接臂，其一端連接于旋轉(zhuǎn)馬達(dá)109，標(biāo)號(hào)111是一旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)電機(jī)，連接于連接臂110的另一端，并可在箭頭CC的方向上旋轉(zhuǎn)。標(biāo)號(hào)112代表一個(gè)空氣缸。旋轉(zhuǎn)馬在111放置在空氣缸112上，并可在箭頭DD的方向上移動(dòng)。
標(biāo)號(hào)113代表一個(gè)測微計(jì)，該測微計(jì)在箭頭DD的方向上調(diào)節(jié)空氣缸112的運(yùn)動(dòng)以調(diào)節(jié)假載體102和清潔工具108之間的接觸，標(biāo)號(hào)114代表一個(gè)噴孔。噴孔114使純凈水通過一個(gè)孔徑為0.05μm的過濾器(未畫出)。純凈水在假載體102和清潔工具108之間噴射。
在這種清潔設(shè)備中，當(dāng)空氣缸112位于圖11中其上側(cè)(箭頭DD的頂部)時(shí)，假載體102和清潔工具108彼此分開。當(dāng)空氣缸112位于圖11中其下(箭頭DD的底部)側(cè)時(shí)，假載體102和清潔工具108彼此接觸。作用在假載體102和清潔工具108之間的接觸壓力由設(shè)置在空氣缸112下端的測微計(jì)113調(diào)節(jié)。
當(dāng)空氣缸112向下移動(dòng)時(shí)，清潔工具108在假載體102內(nèi)的下壓量設(shè)定為0.2mm。詳細(xì)來說，清潔工具108位于從清潔工具108和假載體102之間接觸位置向下0.2mm處。清潔工具108的位置是由測微計(jì)113來調(diào)節(jié)的。
構(gòu)件109至113使清潔工具108在假載體102或磁傳輸載體2上從其內(nèi)周向其外周滑動(dòng)，從而構(gòu)成一個(gè)用于清潔清潔工具108和磁傳輸載體2的滑動(dòng)部分。
首先，將假載體102放置并固定在轉(zhuǎn)臺(tái)103上。此時(shí)，空氣缸112設(shè)置在圖中箭頭DD方向上側(cè)。在這種狀態(tài)下，假載體102和清潔工具108彼此分開。清潔工具108設(shè)置在圖12中的位置FF上，這是一個(gè)在假載體102外面與其分開的位置。
然后，在圖12中從上方看去，清潔工具108在順時(shí)針方向上從位置FF旋轉(zhuǎn)至位置EE，這是假載體102的中央位置。
然后，假載體102在箭頭AA的方向上，即，在從上方看去順時(shí)針方向方向上被轉(zhuǎn)臺(tái)103以20rpm的低轉(zhuǎn)速緩慢轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)清潔工具108在箭頭BB的方向上，即，在從上方看去順時(shí)針方向上被旋轉(zhuǎn)馬達(dá)109以450rpm的高轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)。在這種狀態(tài)下，清潔液從噴孔114噴向假載體102和清潔工具108之間。
然后，清潔工具108在箭頭DD的方向上被空氣缸112移至下側(cè)，因而清潔工具108和假載體102相對(duì)運(yùn)動(dòng)，彼此靠近，同時(shí)兩者被轉(zhuǎn)動(dòng)。此后，清潔工具108在假載體102內(nèi)0.2mm的下壓位置上停止其在假載體102內(nèi)的向下推進(jìn)。
然后，清潔工具108在箭頭CC的方向上，即，在從上方看去逆時(shí)針方向上被樞轉(zhuǎn)馬達(dá)111旋轉(zhuǎn)。其速度設(shè)定成使清潔工具108在假載體102被轉(zhuǎn)臺(tái)103轉(zhuǎn)動(dòng)一圈的期間內(nèi)旋轉(zhuǎn)的距離小于其直徑，其中清潔工具108最終與假載體102的整個(gè)表面接觸。
由于上述操作，附著在清潔工具108上的異物通過假載體102上的凹部4′和清潔工具108之間的接觸被清除并通過凹部4′送到假載體102外面。
然后，當(dāng)清潔工具108處于圖11中位置FF，即，與假載體102分開的位置或清潔工具108和假載體102之間不接觸的位置時(shí)，樞轉(zhuǎn)馬達(dá)111完全停止運(yùn)轉(zhuǎn)。由于這種操作，清潔工具108上附著的異物可靠地從假載體102的表面送出至其外部。
最后，在空氣缸112移至箭頭DD上側(cè)后，清潔工具108被旋轉(zhuǎn)馬達(dá)112移至其圖13中箭頭EE所示的原始位置。
通過反復(fù)上述一系列與清潔有關(guān)的動(dòng)作，附著在清潔工具108上的異物被清除。
在上述情形中，在假載體102的凹部4′具有與磁傳輸載體2的凹部4相同的形狀；在假載體102和清潔工具108之間的接觸壓力，以及磁傳輸載體2和清潔工具108之間的接觸壓力幾乎彼此相同；假載體102和清潔工具108的轉(zhuǎn)速，以及假載體102和清潔工具108的轉(zhuǎn)速分別基本彼此相同的條件下，清潔工具108適應(yīng)于磁傳輸載體2的效果可以同清潔清潔清潔工具的效果一起取得。
當(dāng)無保護(hù)地留置時(shí)，清潔工具108的表面硬化，因而在實(shí)際清潔磁傳輸載體2(它是待清潔的盤)之前，按照對(duì)于磁傳輸載體2的相同條件，使用與磁傳輸載體2形狀相同的假載體102來清潔清潔工具108。由于這種操作，使硬化狀態(tài)的清潔工具108處于柔軟狀態(tài)，從而可使清潔工作保證在最佳的狀態(tài)。
在清潔清潔工具108以后，進(jìn)行磁傳輸載體2的清潔工作，其中由于該清潔步驟與清潔工具108的清潔步驟相同，因而只要將假載體102變成磁傳輸載體2即可。
在磁傳輸載體2表面上形成的磁性薄膜2d的一端有不正常部分，例如，如圖13所示存在毛刺的情形中，存在清潔工具108將該端刮成碎片，而這些碎片附著在清潔工具108或磁傳輸載體2上的危險(xiǎn)。
但是，在這個(gè)實(shí)施例的情形中，通過旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和向著清潔工具108外周的移動(dòng)，附著在磁傳輸載體2上的碎片可沿磁傳輸載體2上的凹部4移到磁傳輸載體2外面。其后，當(dāng)清潔工具108從磁傳輸載體2移開時(shí)，附著在磁傳輸載體2的表面上的碎片也可被送到磁傳輸載體2外面，這是由于磁傳輸載體2上的每個(gè)凹部的形狀處于通向磁傳輸載體2外面的狀態(tài)，如圖3所示。
如上所述，磁性薄膜的碎片被可靠地送到外面而不會(huì)仍舊附著在磁傳輸載體2的表面上。
但是，在這種情形中，磁性薄膜的碎片仍可能附著在清潔工具108的表面上。在正規(guī)地用清潔工具108清潔磁傳輸載體2多次的情形中，或者在由于制造缺陷，仍留有許多磁性薄膜的不正常端部2e的情形中，磁性薄膜的許多碎片仍有可能附著在清潔工具108的表面上。
因此，如果將假載體102再次放在轉(zhuǎn)臺(tái)3上，并進(jìn)行類似于上述方式的清潔工作，那么，附著在清潔工具108表面上的磁性薄膜碎片可被清除。
這樣，在本實(shí)施例的情形中，只要通過簡單的方法而無需特殊的設(shè)備結(jié)構(gòu)就可以清除附著在清潔工具108表面上的磁性薄膜碎片。
應(yīng)注意的是，本發(fā)明并不局限于交替地清潔假載體102和磁傳輸載體2的方法，每次用單一的步驟清潔假載體102或磁傳輸載體2，而是也可采用下述方法例如，在用假載體102對(duì)清潔工具108進(jìn)行清潔之后，對(duì)磁傳輸載體清潔規(guī)定的次數(shù)，例如10次，隨后將假載體102放入清潔設(shè)備，以便進(jìn)行對(duì)清潔工具108的第二次清潔工作。
可以通過計(jì)數(shù)清潔液中的顆粒來確定碎片是否附著在清潔工具108的表面上。也就是說，可以采用下述方法使用一種公知的計(jì)數(shù)液體中的顆粒的計(jì)數(shù)器來計(jì)數(shù)液體中的顆粒，當(dāng)液體中的顆粒數(shù)目超過規(guī)定值時(shí)將假載體102放入清潔設(shè)備中。
本發(fā)明并不局限于在磁傳輸載體2之前采用一個(gè)假載體102，而是可以在磁傳輸載體2之前連續(xù)使用多個(gè)，例如，10個(gè)假載體102，這樣可改善清潔工具108的清潔效果。
在本發(fā)明中，假載體的結(jié)構(gòu)并不局限于在其上不形成磁性薄膜的那種，而是例如在使用一個(gè)磁傳輸載體，該磁傳輸載體上具有磁性薄膜，磁性薄膜的角部未被刷去掉，或其多個(gè)角部已被去掉時(shí)，可以取得相同的效果。
本發(fā)明的清潔工具108可以呈輥狀刷的形狀。在輥狀刷的情形中，輥狀刷并不在表面上從內(nèi)周滑向外周，而是通過滾動(dòng)而滑動(dòng)。應(yīng)注意的是，本發(fā)明可包括其它滑動(dòng)方式。(其它實(shí)施例)下面對(duì)照?qǐng)D14和15描述與本發(fā)明第二實(shí)施例有關(guān)的磁傳輸載體的清潔方法。在圖14中，與圖11中的零件相同的零件使用相同的標(biāo)號(hào)。在所使用的設(shè)備的結(jié)構(gòu)中，直徑為50mm的硅片制成的磁傳輸載體2由轉(zhuǎn)臺(tái)103固定，并可在箭頭AA的方向上以1rpm的轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)。由旋轉(zhuǎn)刷構(gòu)成的清潔工具108的半徑為10mm。清潔工具108的半徑被設(shè)定成小于包括中心的一個(gè)區(qū)域的13mm的半徑，該區(qū)域是在磁傳輸載體2上未形成凹部4的部分。
當(dāng)空氣缸112向下移動(dòng)時(shí)清潔工具108在磁傳輸載體2內(nèi)的下壓量設(shè)定為0.20mm。也就是說，清潔工具108和磁傳輸載體2所處位置是由測微計(jì)113調(diào)節(jié)的，使清潔工具108達(dá)到與清潔工具108和磁傳輸載體2彼此接觸的位置向下相距0.2mm的位置。
現(xiàn)在參閱圖15，采用一種結(jié)構(gòu)，使每個(gè)凹部4圓弧的曲率半徑與樞轉(zhuǎn)馬達(dá)111的中心和清潔工具108的中心之間的距離大致相符。采用一種結(jié)構(gòu)，使樞轉(zhuǎn)馬達(dá)111的中心被定位成當(dāng)磁傳輸載體2轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)樞轉(zhuǎn)馬達(dá)111的中心與每個(gè)凹部4的圓弧的曲率中心的軌跡大致相符。
磁傳輸載體2被放置在轉(zhuǎn)臺(tái)103上，并由一個(gè)靜止夾頭固定在那里。此時(shí)，空氣缸112位于沿圖14中箭頭DD的方向的上側(cè)，磁傳輸載體2和清潔工具108彼此分開。清潔工具108設(shè)置在圖15中箭頭FF所示位置上。
清潔工具108借助樞轉(zhuǎn)馬達(dá)111在從上方看去順時(shí)針方向上旋轉(zhuǎn)，以便移至圖15的箭頭EE所示位置，即，移至磁傳輸載體2的中心的位置。
磁傳輸載體2在AA的方向上被轉(zhuǎn)臺(tái)103以1rpm的轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)清潔工具108在箭頭BB的方向上被旋轉(zhuǎn)馬達(dá)109以450rpm的轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)。在這種狀態(tài)下，清潔液從噴孔114噴出。
清潔工具108被空氣缸112移至箭頭DD的下部頭部。與此運(yùn)動(dòng)一起，清潔工具108在轉(zhuǎn)動(dòng)中移動(dòng)以接近磁傳輸載體2，并在清潔工具108在磁傳輸載體內(nèi)下壓0.2mm深度的位置上停止其垂向運(yùn)動(dòng)。此時(shí)，如圖15所示，凹部4的凹、凸形狀無機(jī)會(huì)與清潔工具108直接接觸，這是由于清潔工具108的10mm的半徑設(shè)定得小于無凹部4的部分存在的中央?yún)^(qū)域的半徑的緣故。
清潔工具108借助樞轉(zhuǎn)馬達(dá)111在箭頭CC的方向上運(yùn)動(dòng)。此時(shí)，旋轉(zhuǎn)馬達(dá)11的運(yùn)動(dòng)速度設(shè)定在充分大于磁傳輸載體2的1rpm的值上，因而清潔工具108基本沿著每個(gè)凹部4運(yùn)動(dòng)。
圖16的曲線圖表示在這種情形中清潔工具108的運(yùn)動(dòng)循環(huán)。在圖16中，縱坐標(biāo)設(shè)定在空氣缸112的位置上，而橫坐標(biāo)用于表示經(jīng)過的時(shí)間。當(dāng)空氣缸112位于上側(cè)時(shí)，圖中表示一種狀態(tài)，在這種狀態(tài)下，清潔工具108和磁傳輸載體彼此分開，而當(dāng)空氣缸112位于下側(cè)時(shí)，圖中表示一種狀態(tài)，在這種狀態(tài)下，清潔工具108和磁傳輸載體2彼此接觸。
在圖16中0秒的時(shí)刻，圖中表示一種狀態(tài)，在這種狀態(tài)下，空氣缸112在上側(cè)，清潔工具108處于圖15中箭頭FF所示的位置上，在1秒的時(shí)刻，圖中表示一種狀態(tài)，在該狀態(tài)下，空氣缸112在上側(cè)，清潔工具108移至圖15中箭頭EE所示位置。在又過了0.5秒的時(shí)刻，空氣缸112移至下側(cè)以便接觸磁傳輸載體2。
其后，清潔工具108從箭頭EE所示位置移至圖15中箭頭FF所示的位置，而空氣缸112保持在其下側(cè)位置上。也就是說，清潔工具108在磁傳輸載體2的表面上從其內(nèi)周移向其外周。
此時(shí)，由于清潔工具108的10mm的半徑設(shè)定得小于未形成凹部4部分的中央?yún)^(qū)域，因而特別是在形成凹部4的徑向形狀的部分中，可使清潔工具108可靠地從內(nèi)周移向外周。
箭頭FF所示位置被選擇在一個(gè)清潔工具108與磁傳輸載體2的外周間隔開來的位置上，因而清潔工具108和磁傳輸載體2彼此不接觸。因此，異物不會(huì)留在磁傳輸載體2的外周上，能夠可靠地被清除。
在又過了0.5秒的時(shí)刻，清潔工具108再次移至一個(gè)空氣缸移至其上側(cè)時(shí)的位置。其后，重復(fù)上述清潔操作以清除異物。
在這個(gè)實(shí)施例中，清潔工具108的運(yùn)動(dòng)周期設(shè)定為3秒。另外，總的清潔時(shí)間設(shè)定為5分鐘。因此，旋轉(zhuǎn)刷的運(yùn)動(dòng)重復(fù)總計(jì)為100個(gè)周期。
由于磁傳輸載體2的轉(zhuǎn)速設(shè)定為1rpm，其半徑設(shè)定為50mm，因而在清潔工具108運(yùn)轉(zhuǎn)一個(gè)周期時(shí)，磁傳輸載體2的外周緣移過的距離為π×2×50mm×(1/60)×3秒＝15.6mm。
由于清潔工具108的半徑設(shè)定為10mm，因而磁傳輸載體2的外周緣在清潔工具108的一個(gè)周期中被清潔一個(gè)10mm×2＝20mm的長度。因此，由于清潔工作是在一個(gè)磁傳輸載體2移過的等于或大于15.6的區(qū)域中進(jìn)行的，因而使磁傳輸載體2的整個(gè)表面在磁傳輸載體2轉(zhuǎn)動(dòng)一次時(shí)可靠地與清潔工具108相接觸。
也就是說，如果清潔工具的半徑為r(mm)，在滑動(dòng)部分的控制下的滑動(dòng)重復(fù)周期為t(s)，幾乎呈圓形的磁傳輸載體2的半徑為R，磁傳輸載體2的t轉(zhuǎn)速為X(rps)，那么，最好滿足下述表達(dá)式πtXR＜r∧(1)由于清潔工具108的運(yùn)動(dòng)速度足夠地快于磁傳輸載體2的轉(zhuǎn)速，因而清潔工具108能夠可靠地幾乎沿著磁傳輸載體2上的凹部4的徑向形狀從磁傳輸載體2的內(nèi)周滑向其外周。
附著在凹部4內(nèi)的異物能夠可靠地借助一種結(jié)構(gòu)送出外周，在這種結(jié)構(gòu)中，凹部4形成一種從磁傳輸載體2的內(nèi)周延伸向其外周的徑向形狀，外周緣向其外側(cè)敞通，清潔工具108能夠沿在磁傳輸載體2上的凹部4的徑向形狀從磁傳輸載體2的內(nèi)周滑向其外周。也就是說，附著在凹部4內(nèi)的異物通過清潔工具108與磁傳輸載體2的接觸及清潔工具108本身的轉(zhuǎn)動(dòng)，與磁傳輸載體2分離，并通過呈徑向形狀的凹部4送出至磁傳輸載體2的外面。
由于清潔工具108與磁傳輸載體2是分開的、由箭頭FF所示的清潔工具108的位置設(shè)定成一個(gè)清潔工具108不與磁傳輸載體2接觸的位置，即，一個(gè)清潔工具108和磁傳輸載體2之間完全不接觸的位置，因而附著在磁傳輸載體2表面上的異物能夠可靠地送出至磁傳輸載體2的外面。
此時(shí)，如此實(shí)施例中所示，凹部4的寬度最好朝向外周是增大的。這是由于，采用這種形狀，伴隨著清潔工具108從內(nèi)周向外周的滑動(dòng)，異物容易被送出至外面。
另外，如在本實(shí)施例中所示，清潔工具108的下壓量最好設(shè)定為一個(gè)10倍于凹部4的深度或更大的值。這是由于如果下壓量過小，在每個(gè)凹部4的周緣上就會(huì)喪失清除異物的效果。
例如，為了確認(rèn)清潔工具108的下壓量和在清潔了磁傳輸載體2后在凹部4內(nèi)存在/不存在異物之間的關(guān)系，通過調(diào)節(jié)測微計(jì)113，用顯微鏡進(jìn)行了觀察。結(jié)果確認(rèn)，在凹部4的深度為5μm的情形中，下壓量為0.05mm時(shí)，凹部4內(nèi)的異物被可靠地清除。
如上所述，通過實(shí)驗(yàn)表明，通過將清潔工具108的下壓量設(shè)定為一個(gè)10倍于凹部4的深度或更大的值，凹部4內(nèi)的異物可被可靠地清除。
下面對(duì)照?qǐng)D17描述磁記錄復(fù)制設(shè)備。圖17是一個(gè)硬盤設(shè)備的視圖，其中已使用清潔過了的磁傳輸載體2進(jìn)行磁傳輸后，磁盤1被裝置在硬盤設(shè)備中。
在圖17中，標(biāo)號(hào)1代表磁傳輸后的磁盤。通過在磁傳輸載體2上的信號(hào)區(qū)域2a中磁傳輸信息，向磁盤1上進(jìn)行記錄。
當(dāng)磁頭61在磁盤1上掃描時(shí)，安裝在磁頭懸架62上的磁頭61沿著以磁頭致動(dòng)器的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線為中心的圓弧運(yùn)動(dòng)，該運(yùn)動(dòng)與信號(hào)區(qū)域2a的圓弧重合。磁盤1借助主軸電機(jī)(未畫出)在從上方看去逆時(shí)針方向上以5400rpm的轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng)，磁頭61可借助音圈電機(jī)64在磁盤1上方20nm的以浮動(dòng)狀態(tài)樞轉(zhuǎn)。
在裝有磁傳輸后的磁盤1的硬盤設(shè)備中，用磁頭61進(jìn)行了記錄復(fù)制從檢測數(shù)據(jù)錯(cuò)誤百分比。檢測結(jié)果發(fā)現(xiàn)，使用在本實(shí)施例中所示方法清潔的磁傳輸載體進(jìn)行磁傳輸后的磁盤具有與未進(jìn)行過磁傳輸?shù)拇疟P相同的數(shù)據(jù)錯(cuò)誤百分比。因此，可以認(rèn)為，實(shí)現(xiàn)了這樣一種清潔工作，借助這種清潔工作在磁傳輸載體2表面上未留下異物，在凹部4也未留有異物。
如上所述，按照這個(gè)實(shí)施例，磁傳輸載體的表面及其上面的凹部能夠通過簡單方法可靠地清潔。因此，可以實(shí)現(xiàn)高度可靠的磁記錄復(fù)制設(shè)備。
應(yīng)注意的是，雖然使用純凈水作為清潔液，但是對(duì)此并無特殊的限制，例如，使用其它液體如IPA(異丙醇)也可取得等同的效果。
工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明可應(yīng)用在磁傳輸載體的清潔方法中，所述磁傳輸載體應(yīng)用在向硬盤設(shè)備和軟盤設(shè)備中使用的磁記錄媒介的磁傳輸中。
權(quán)利要求
1.一種清潔方法，它包括在用于放置磁傳輸載體的轉(zhuǎn)臺(tái)上放置假載體的第一步驟，所述假載體上具有至少一個(gè)凹部，所述凹部從假載體的內(nèi)周通向外周，所述磁傳輸載體上具有多個(gè)從其內(nèi)周通向其外周的凹部；以及在用轉(zhuǎn)動(dòng)中的所述轉(zhuǎn)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)所述假載體時(shí)，在所述假載體上從其內(nèi)周向其外周滑動(dòng)一個(gè)用于清潔所述磁傳輸載體的第二步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的清潔方法，其特征在于在所述第二步驟中，當(dāng)與在清潔所述磁傳輸載體基本相同的方向上轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，所述清潔工具在所述假載體上從其內(nèi)周向其外周被滑動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的清潔方法，其特征在于所述假載體上具有多個(gè)徑向凹部，每個(gè)徑向凹部的形狀與所述磁傳輸載體上每個(gè)所述多個(gè)徑向凹部的形狀基本相同。
4.如權(quán)利要求1所述的清潔方法，其特征在于在所述第二步驟中，當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述假載體上滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具對(duì)所述假載體的接觸壓力與當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述磁傳輸載體上相對(duì)滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具對(duì)所述磁傳輸載體的接觸壓力基本相同。
5.如權(quán)利要求1所述的清潔方法，其特征在于在所述第二步驟中，當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述假載體上滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具與所述假載體的相對(duì)速度與當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述磁傳輸載體上相對(duì)滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具與所述磁傳輸載體的相對(duì)速度基本相同。
6.如權(quán)利要求1所述的清潔方法，其特征在于在所述清潔中，所述清潔工具相對(duì)移動(dòng)至所述假載體的所述外周邊緣的外面。
7.如權(quán)利要求1所述的清潔方法，其特征在于所述清潔工具是由聚氨酯制成的旋轉(zhuǎn)刷。
8.一種清潔方法，它包括在一假載體上相對(duì)滑動(dòng)清潔工具以便清潔所述清潔工具的第一步驟，所述假載體上具有至少一個(gè)從其內(nèi)周通向其外周的凹部；以及在所述第一步驟之后，在所述磁傳輸載體被安放的狀態(tài)中，在磁傳輸載體上相對(duì)滑動(dòng)所述清潔工具以便清潔所述磁傳輸載體的第二步驟，所述磁傳輸載體上具有多個(gè)從其內(nèi)周通向其外周的徑向凹部，
9.如權(quán)利要求8所述的清潔方法，其特征在于所述假載體的所述凹部的形狀與所述磁傳輸載體的所述凹部的形狀彼此基本相同。
10.如權(quán)利要求8所述的清潔方法，其特征在于當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述假載體上滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具對(duì)所述假載體的接觸壓力與當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述磁傳輸載體上相對(duì)滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具對(duì)所述磁傳輸載體的接觸壓力基本相同。
11.如權(quán)利要求8所述的清潔方法，其特征在于當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述假載體上滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具與所述假載體的相對(duì)速度與當(dāng)所述清潔工具在清潔中在所述磁傳輸載體上相對(duì)滑動(dòng)時(shí)所述清潔工具與所述磁傳輸載體的相對(duì)速度基本相同。
12.如權(quán)利要求8所述的清潔方法，其特征在于在所述第一步驟中，在所述清潔工具的方向上噴射清潔液。
13.如權(quán)利要求12所述的清潔方法，其特征在于測量在所述清潔液中的異物，根據(jù)所述測量的結(jié)果進(jìn)行用所述清潔工具的清潔。
14.如權(quán)利要求8所述的清潔方法，其特征在于所述清潔工具相對(duì)移動(dòng)直至所述假載體的所述外周的外面。
15.如權(quán)利要求8所述的清潔方法，其特征在于所述清潔工具相對(duì)移動(dòng)直至所述磁傳輸載體的所述外周的邊緣外面。
16.一種磁傳輸載體，在該磁傳輸載體上記錄信息信號(hào)，所述磁傳輸載體用于向與其接觸的磁記錄媒介磁傳輸所述信息信號(hào)，該磁傳輸載體包括在所述磁傳輸載體面對(duì)所述磁記錄媒介的磁傳輸表面上的一個(gè)用于在所述磁記錄媒介和所述磁記錄媒介在磁傳輸中緊密接觸的凹槽，其中所述凹部具有從所述磁傳輸載體內(nèi)周通向其外周的形狀，所述凹部還用作在清潔中清潔所述磁傳輸載體的凹部。
17.如權(quán)利要求16所述的磁傳輸載體，其特征在于所述磁傳輸載體上不僅具有多個(gè)用于向所述磁記錄媒介磁傳輸?shù)慕佑|部分、從所述磁傳輸載體的內(nèi)周通向其外周，而且所述用于清潔的凹部徑向至少設(shè)置在一對(duì)接觸部分之間。
18.如權(quán)利要求16所述的磁傳輸載體，其特征在于所述凹部從所述磁傳輸載體的所述內(nèi)周向著其所述外周寬度加大。
19.一種清潔設(shè)備，它包括一個(gè)固定部分，它能夠固定呈盤狀的、待清潔的一個(gè)第一載體和呈盤狀的用作假載體的第二載體；一個(gè)清潔工具，它面對(duì)由所述固定部分固定的兩載體中的每一個(gè)設(shè)置；以及一個(gè)滑動(dòng)部分，它使所述清潔工具在清潔中在所述兩個(gè)載體中的每一個(gè)上相對(duì)滑動(dòng)，并能夠按照一個(gè)程序操作，該程序包括在所述第二載體被所述固定部分固定的狀態(tài)下，借助所述滑動(dòng)部分使所述清潔工具在所述第二載體上相對(duì)滑動(dòng)以便清潔所述清潔工具的步驟；以及在所述第一載體被所述固定部分固定的狀態(tài)下，使在前一步驟中被清潔的所述清潔工具在所述第一載體上與其相對(duì)滑動(dòng)以便清潔所述第一載體的步驟。
20.如權(quán)利要求19所述的清潔設(shè)備，其特征在于在清潔中，所述清潔工具相對(duì)移動(dòng)，直至所述第二載體的外周緣外面。
21.如權(quán)利要求19所述的清潔設(shè)備，其特征在于在清潔中，所述清潔工具相對(duì)移動(dòng)，直至所述第一載體的外周緣外面。
22.如權(quán)利要求19所述的清潔設(shè)備，其特征在于將一個(gè)載體用作第一載體，在其上記錄信息信號(hào)，它在將所述信息信號(hào)磁傳輸向一個(gè)與其接觸的磁記錄媒介中被使用，并且在所述載體面對(duì)所述磁記錄媒介的磁傳輸表面上具有一個(gè)在磁傳輸中用于在所述第一載體和所述第二載體之間緊密接觸的凹部，其中所述凹部具有一個(gè)從所述載體的內(nèi)周通向其外周的形狀，而且用作用于清潔的凹部，以及將一個(gè)載體用作第二載體，在其上至少一個(gè)載體表面上帶有一個(gè)具有與所述第一載體的所述凹部幾乎相同的形狀。
23.一種假載體，它相應(yīng)于磁傳輸載體，磁傳輸載體用于磁傳輸信息信號(hào)，在其磁傳輸表面上帶有多個(gè)徑向凹部，每個(gè)徑向凹部從其內(nèi)周通向其外周；所述假載體具有在其至少一個(gè)表面上從其內(nèi)周伸向其外周的徑向凹部，該徑向凹部的形狀與所述磁傳輸表面上的所述多個(gè)徑向凹部的每一個(gè)的形狀相同或基本相同，并用于清潔一個(gè)清潔所述磁傳輸載體的清潔工具。
24.一種磁傳輸載體的清潔設(shè)備，所述磁傳輸載體具有在一基片上形成的相應(yīng)于信息信號(hào)的磁性薄膜，所述清潔設(shè)備包括一個(gè)固定所述磁傳輸載體的固定部分，所述磁傳輸載體上具有一個(gè)從其內(nèi)周伸向其外周的凹部，所述外周的邊緣通向外面；一個(gè)面對(duì)所述磁傳輸載體的形成所述磁性薄膜的表面的清潔工具；以及一個(gè)使所述清潔工具在所述磁傳輸載體上與其相對(duì)滑動(dòng)的滑動(dòng)部分，其中，在清潔中，所述滑動(dòng)部分以規(guī)定的下壓量將所述清潔工具壓在所磁傳輸載體上并保持該狀態(tài)，按照所述凹部的所述徑向形狀，使所述清潔工具從所述磁傳輸載體的內(nèi)周滑向所述外周。
25.如權(quán)利要求24所述的清潔設(shè)備，其特征在于在所述磁傳輸載體的一個(gè)表面上，一個(gè)沒有所述凹部的中央部分的面積大于所述清潔工具所述清潔工具接觸所述磁傳輸載體的面積。
26.如權(quán)利要求24所述的清潔設(shè)備，其特征在于所述清潔工具是一個(gè)旋轉(zhuǎn)刷，該旋轉(zhuǎn)刷圍繞一條作為軸線的直線轉(zhuǎn)動(dòng)，所述軸線在基本平行于一條垂直于所述磁傳輸載體的直線的方向上。
27.如權(quán)利要求24所述的清潔設(shè)備，其特征在于如果所述旋轉(zhuǎn)刷的半徑為5(mm)，由所述滑動(dòng)部分驅(qū)動(dòng)的所述旋轉(zhuǎn)刷的滑動(dòng)中的滑動(dòng)周期為t(s)，基本呈圓形的所述磁傳輸載體的半徑為R(mm)，及所述磁傳輸載體被所述固定部分轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)的轉(zhuǎn)速為X(rps)，那么，形成7πtXR＜r的關(guān)系。
28.如權(quán)利要求24所述的清潔設(shè)備，其特征在于如果所述磁傳輸載體上的所述凹部的深度為M(mm)，且所述旋轉(zhuǎn)刷在清潔中在所述磁傳輸載體內(nèi)的下壓量為N(mm)，那么形成N/M＞10的關(guān)系。
29.如權(quán)利要求24所述的清潔設(shè)備，其特征在于所述凹部從內(nèi)周向外周寬度加大。
30.如權(quán)利要求24所述的清潔設(shè)備，其特征在于所述清潔工具在所述磁傳輸載體的形成磁性薄膜的表面上滑至所述磁性薄膜的外周緣。
31.如權(quán)利要求24所述的清潔設(shè)備，其特征在于所述凹部基本呈圓弧形，所述清潔工具圍繞一個(gè)作為中心的規(guī)定位置樞轉(zhuǎn)，所述圓弧的曲率半徑和所述旋轉(zhuǎn)刷的所述樞轉(zhuǎn)的半徑彼此基本一致。
32.一種磁傳輸載體的清潔方法，所述磁傳輸載體具有相應(yīng)于在一基片表面上形成的信息信號(hào)的磁性薄膜，所述清潔方法包括以下步驟固定所述磁傳輸載體，該磁傳輸載體上具有一個(gè)從其內(nèi)周伸向其外周的凹部，所述外周的邊緣通向外面；以及使一個(gè)面對(duì)所述磁傳輸載體的形成磁性薄膜的表面設(shè)置的清潔工具相對(duì)于該表面滑動(dòng)，其中在清潔中，所述滑動(dòng)部分以一個(gè)規(guī)定的下壓量將所述清潔工具壓在所述磁傳輸載體上，使所述清潔工具按照所述凹部的徑向形狀從內(nèi)周滑向外周。
全文摘要
一種清潔方法，該方法通過一個(gè)假載體清除附著在一清潔工具如刷上的異物，防止附著在刷上的異物返回到磁傳輸載體上，所述假載體具有一個(gè)凹槽，該凹槽相當(dāng)于磁傳輸載體的表面上的凹槽。
文檔編號(hào)G11B5/86GK1463438SQ02802156
公開日2003年12月24日 申請(qǐng)日期2002年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2001年6月20日
發(fā)明者橋秀幸, 宮田敬三, 浜田泰三 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社