專利名稱：光盤標(biāo)簽刻畫方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，尤其是關(guān)于光盤標(biāo)簽刻畫時(shí)，記錄 每次標(biāo)簽圖形刻畫的位置，以供多次刻畫標(biāo)簽的刻畫方法。
背景技術(shù)：
一般的光盤有兩面， 一面為數(shù)據(jù)記錄面，另一面為標(biāo)簽面，公知制作光 盤標(biāo)簽的方式， 一般使用者以馬克筆直接書寫于標(biāo)簽面，作為識(shí)別標(biāo)簽，而 制造廠商則將標(biāo)示光盤的商標(biāo)及數(shù)據(jù)記錄內(nèi)容，以噴涂印刷或自粘貼紙的方 式附著在光盤標(biāo)簽面上。由于上述的方式，簡(jiǎn)陋、無個(gè)人化的標(biāo)示及容易脫落影響光盤的轉(zhuǎn)動(dòng)播放，因此另有一種公知的光雕(Lig,ht Scribe)標(biāo)簽的方式，如圖1所示，利 用光盤機(jī)的讀取頭(圖未示)所發(fā)射的激光，將使用者所需的圖形文字1直接 刻畫在光盤2的標(biāo)簽面3,作為識(shí)別標(biāo)簽?？坍嫎?biāo)簽時(shí)，將光盤2倒放，將 標(biāo)簽面3對(duì)準(zhǔn)讀取頭，再由使用者選擇所需的圖形文字，利用計(jì)算機(jī)等主機(jī) 中的光雕應(yīng)用程序，控制讀取頭，將圖形文字刻畫在標(biāo)簽面3,達(dá)到識(shí)別光 盤的作用。然而，公知光雕的標(biāo)示方式，對(duì)刻畫的圖形文字并未作記錄，為了避免 標(biāo)簽的圖形文字重迭，影響標(biāo)示，僅能作一次刻畫標(biāo)簽，即使光盤的標(biāo)簽面 仍有空白位置存在，亦無法配合多次記錄數(shù)據(jù)的光盤，重復(fù)刻畫更新的圖形 或文字，造成使用上的不便。因此，公知的光盤標(biāo)簽刻畫方法在多次刻畫上， 仍有問題亟待解決。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在提供一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，利用光盤標(biāo)簽面既有可刻 畫的位置，形成相對(duì)刻畫區(qū)的標(biāo)示區(qū)，以記錄刻畫圖形文字的4立置。本發(fā)明的目的在提供一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，通過記錄光盤標(biāo)簽面每次 刻畫圖形文字的位置，使標(biāo)簽面于空白位置可多次刻畫更新的圖形文字。為了達(dá)到前述發(fā)明的目的，本發(fā)明的光盤標(biāo)簽刻畫方法，首先接收該主 機(jī)中光雕應(yīng)用程序的指令開始刻畫標(biāo)簽，讀取位于光盤的標(biāo)簽刻畫區(qū)的標(biāo)示 區(qū)，以獲得標(biāo)簽刻畫的信息，將獲得標(biāo)簽刻畫的信息傳輸至主機(jī)，由主機(jī)規(guī) 劃光盤刻畫區(qū)可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，假如無法規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū) 塊，則停止刻畫標(biāo)簽，否則進(jìn)行刻畫標(biāo)簽于光盤刻畫區(qū)，然后相對(duì)已刻畫標(biāo) 簽的區(qū)塊，于光盤標(biāo)示區(qū)注記記號(hào)，最后停止刻畫標(biāo)簽。


圖1為公知光盤刻畫的標(biāo)簽。圖2為標(biāo)簽刻畫型光盤標(biāo)簽面的標(biāo)示結(jié)構(gòu)示意圖。 圖3為本發(fā)明光盤標(biāo)簽刻畫標(biāo)示區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖4為本發(fā)明光盤標(biāo)簽刻畫方法的流程圖。主要元件符號(hào)說明 10中心孔11外周 12商標(biāo)區(qū) 13信息區(qū) 14刻畫區(qū) 15標(biāo)示區(qū)Sl開始刻畫標(biāo)簽步驟S2讀取標(biāo)簽標(biāo)示區(qū)步驟S3傳輸至主機(jī)步驟S4規(guī)劃可標(biāo)簽刻畫區(qū)塊步驟S5刻畫標(biāo)簽步驟S6注i己標(biāo)簽標(biāo)示區(qū)S7停止標(biāo)簽刻畫步驟Rl、 R2半徑D 光盤具體實(shí)施方式
有關(guān)本發(fā)明為達(dá)成上述目的，所采用的技術(shù)手段及其功效，舉較佳實(shí)施例，并配合附圖加以i兌明如下。請(qǐng)參考圖2,為標(biāo)簽刻畫型光盤D標(biāo)簽面的標(biāo)示結(jié)構(gòu)。依據(jù)標(biāo)簽刻畫型 (Label Flash)光盤D的賴L格，由光盤D的中心孔10至外周11，依序定i義為 商標(biāo)區(qū)(L0G0 Area) 12、信息區(qū)(Information Area) 13及刻畫區(qū)(Drawing Area)14。商標(biāo)區(qū)(L0G0 Area) 12標(biāo)示廠商的商標(biāo)數(shù)據(jù),信息區(qū)(Information Area) 13則標(biāo)示光盤D標(biāo)簽面材料、地址等數(shù)據(jù)。而刻畫區(qū)(Drawing Area) 14， 則由信息區(qū)13的外周到達(dá)光盤半徑Rl處，其中Rl=58. 5mm,亦即標(biāo)簽面可 刻畫的材料涂敷的最外圈至58. 5mm。然而，光雕的應(yīng)用程序限制刻畫區(qū)14， 僅可刻畫標(biāo)簽至半徑R2=58mm處，尚有0. 5隱未使用。本發(fā)明光盤標(biāo)簽刻畫方法，即利用刻畫區(qū)14半徑R2-58鵬至Rl-58. 5mm, 0， 5mm的環(huán)形寬度規(guī)劃為標(biāo)示區(qū)15。將標(biāo)示區(qū)15劃分成多個(gè)區(qū)塊，與刻畫區(qū) 14的每.一區(qū)塊一一相對(duì)位置，只要刻畫區(qū)14的某一區(qū)塊刻畫標(biāo)簽圖形文字， 即在整個(gè)標(biāo)簽刻畫完成后，以讀取頭的激光，在標(biāo)示區(qū)15每一相對(duì)區(qū)塊，形 成例如凹洞或相變化的記號(hào)，以標(biāo)示刻畫區(qū)14已刻畫標(biāo)簽的位置，供下次刻 畫標(biāo)簽的依據(jù)。例如刻畫區(qū)14由內(nèi)圈的刻畫軌道n=l至外圈的刻畫軌道n-n， 一般約規(guī) 劃為n=675條刻畫軌道，而在徑向上，則由k=l至k-k, ^見劃每一軌道包含k 個(gè)區(qū)塊， 一般k-500區(qū)塊，假設(shè)在n-i-2至n-i+2及k-j-2至k-j+2的區(qū)間， 已刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊有(n-i-2， k=j-2)、 (n=i-l, k=j-1) 、 (n=i-1, k=j+l)、 (n=i， k=j-2)、 (n=i, k=j+l) 、 (ri=i+l， k:J-l)及(n=i+l， k-J)等。如圖3所示，為本發(fā)明相對(duì)已刻畫區(qū)塊的標(biāo)示區(qū)。由于目前讀取頭的激 光點(diǎn)(Laser beam spot)的直徑，約可小于0. 74 p m， 0. 5mm/0. 74 jli m = 675圈， 亦即0. 5mm環(huán)形寬度的標(biāo)示區(qū)15，約可劃分成L=0至L=675圏的標(biāo)示軌道， 與刻畫區(qū)14的675條刻畫4九道——相對(duì)，標(biāo)示區(qū)15并沿用刻畫區(qū)14徑向 k=500個(gè)區(qū)塊的規(guī)劃，則相對(duì)前述刻畫區(qū)14刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，f(L=c-2， k=j—2)、 (L=c-1， k-j-l)、 (L-c-l, k=j+l)、 (L=c, k=j-2) 、 (L=c， k=j+l)、 (L=c+1， k=J-l)及(L =c+l, k-J)形成已刻畫標(biāo)示記號(hào)。因此，光盤機(jī)再接收主機(jī)進(jìn)行新的標(biāo)簽刻畫指令時(shí)，就會(huì)先讀取標(biāo)示區(qū) 15，對(duì)所有的標(biāo)示區(qū)塊掃描一次，將已標(biāo)示記號(hào)的位置，也就是已刻畫標(biāo)簽 圖形文字的位置信息，傳輸給主機(jī)，由主機(jī)的光雕應(yīng)用程序，配合使用者需 要再加入的標(biāo)簽，規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫的空白位置，使刻畫區(qū)14經(jīng)多次刻畫后，仍可避免新舊標(biāo)簽重迭，以維持光盤標(biāo)簽可辦識(shí)性。如圖4所示，為本發(fā)明光盤刻畫方法的流程。本發(fā)明光盤刻畫方法，利 用光盤標(biāo)簽面最外圈的標(biāo)示區(qū)，所形成記錄標(biāo)簽刻畫位置的詳細(xì)步驟，說明 如下步驟S1:在光盤反向置入光盤機(jī)，使標(biāo)簽面對(duì)著讀取頭后，光盤機(jī)將接 收主機(jī)光雕應(yīng)用程序的指令，開始進(jìn)行新標(biāo)簽圖形文字的刻畫。步驟S2:光盤機(jī)在讀取信息區(qū)，取得標(biāo)簽面的記錄的材質(zhì)、特性及地址 等信息后，于刻畫標(biāo)簽前，先讀取標(biāo)簽面標(biāo)示區(qū)，獲得標(biāo)示區(qū)的記號(hào)狀態(tài)。步驟S3:由光盤機(jī)將所讀取的標(biāo)示區(qū)的記號(hào)狀態(tài)，傳輸給主機(jī)。步驟S4:主機(jī)的光雕應(yīng)用程序配合使用者所需的標(biāo)簽，由標(biāo)示區(qū)的記號(hào) 狀態(tài)，規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫的刻畫區(qū)空白區(qū)塊，如刻畫區(qū)的空白區(qū)塊足供新標(biāo) 簽刻畫，則進(jìn)入下一步驟，如刻畫區(qū)的空白區(qū)塊不足供新標(biāo)簽刻畫，則至步 驟7，停止刻畫標(biāo)簽。步驟S5:依據(jù)主機(jī)應(yīng)用程序所規(guī)劃的刻畫區(qū)的空白區(qū)塊，將使用者所需 的標(biāo)簽圖形文字，刻畫在標(biāo)簽面的刻畫區(qū)內(nèi)。步驟S6:于完成刻畫標(biāo)簽后，光盤機(jī)將移動(dòng)讀取頭至標(biāo)簽面的標(biāo)示區(qū)， 于此次刻畫標(biāo)簽的刻畫區(qū)區(qū)塊相對(duì)的標(biāo)示區(qū)區(qū)塊，注記已刻畫的記號(hào)，例如 以激光形成凹洞或相變化，作為下 一次刻畫標(biāo)簽的參考。步驟S7:于完成刻畫標(biāo)簽后，再停止本次標(biāo)簽刻畫的操作程序。因此，本發(fā)明的光盤標(biāo)簽刻畫方法，經(jīng)由前述的步驟，即可利用光盤標(biāo) 簽面既有可刻畫區(qū)未使用的部份，形成相對(duì)刻畫區(qū)的標(biāo)示區(qū)，于每次刻畫標(biāo) 簽時(shí)記錄刻畫圖形文字的位置，使標(biāo)簽面于空白位置可多次刻畫更新的圖形 文字，亦可讓多次記錄的數(shù)據(jù)，可將其內(nèi)容目錄再添加于標(biāo)簽面上，以方便 使用者辨識(shí)。同時(shí)，前述的標(biāo)簽刻畫，其刻畫及標(biāo)示的區(qū)塊雖以點(diǎn)對(duì)點(diǎn)作為說明，然 由前述的標(biāo)簽刻畫技術(shù)及過程，亦可得知，將標(biāo)示區(qū)的區(qū)塊，對(duì)應(yīng)刻畫區(qū)的 副碼結(jié)構(gòu)(Subcode frame)、區(qū)段(sector)、 軌道數(shù)或較大范圍的區(qū)塊，使 標(biāo)示區(qū)可對(duì)應(yīng)到整張更高清晰度的標(biāo)簽圖形文字達(dá)到本發(fā)明的前述目的及功 效，均屬本發(fā)明的范疇。以上所述者，僅用以方便說明本發(fā)明的較佳實(shí)施例，本發(fā)明的范圍不限 于該多個(gè)較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明所做的任何變更，于不脫離本發(fā)明的精神 下，皆屬本發(fā)明權(quán)利要求的范圍。
權(quán)利要求
1. 一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，其步驟包含(1)開始刻畫標(biāo)簽；(2)讀取光盤標(biāo)示區(qū)以獲得標(biāo)簽刻畫的信息；(3)規(guī)劃光盤刻畫區(qū)可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊；(4)刻畫標(biāo)簽于光盤刻畫區(qū)；(5)相對(duì)刻畫區(qū)已刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，于光盤標(biāo)示區(qū)區(qū)塊注記記號(hào)；以及(6)停止刻畫標(biāo)簽。
2. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該步驟(l)中光盤由一 光盤機(jī)播放，光盤機(jī)接收刻畫標(biāo)簽指令后，開始進(jìn)行標(biāo)簽的刻畫。
3. 依據(jù)權(quán)利要求2所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該光盤機(jī)相連一主機(jī)， 接收該主機(jī)中光雕應(yīng)用程序的指令開始刻畫標(biāo)簽。
4. 依據(jù)權(quán)利要求3所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該步驟(2)后進(jìn)一步 包含一步驟(2-1)于讀取光盤標(biāo)示區(qū)后，將獲得標(biāo)簽刻畫的信息傳輸至主機(jī)。
5. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該光盤標(biāo)示區(qū)位于光 盤的4示簽刻畫區(qū)。
6. 依據(jù)權(quán)利要求5所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該光盤標(biāo)示區(qū)位于光 盤的標(biāo)簽刻畫區(qū)的最外圈環(huán)形區(qū)。
7. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該環(huán)形區(qū)位于光盤半 徑58mm至58. 5mm。
8. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該環(huán)形區(qū)具有與刻畫 區(qū)相同的軌道數(shù)。
9. 依據(jù)權(quán)利要求8所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該軌道數(shù)為675圈。
10. 依據(jù)權(quán)利要求8所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該環(huán)形區(qū)在徑向上 規(guī)劃區(qū)域與軌道形成多個(gè)區(qū)塊。
11. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該標(biāo)示區(qū)與刻畫區(qū) 的區(qū)塊為點(diǎn)對(duì)點(diǎn)對(duì)應(yīng)。
12. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該標(biāo)示區(qū)的區(qū)塊對(duì) 應(yīng)刻畫區(qū)的副碼結(jié)構(gòu)區(qū)塊。
13. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該標(biāo)示區(qū)的區(qū)塊對(duì) 應(yīng)刻畫區(qū)的軌道數(shù)區(qū)塊。
14. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該標(biāo)示區(qū)的區(qū)塊對(duì) 應(yīng)刻畫區(qū)的區(qū)段區(qū)塊。
15. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該光盤標(biāo)示區(qū)為標(biāo) 簽刻畫的未使用區(qū)。
16. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該步驟(3)中，假 如可規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，則進(jìn)入步驟(4),否則進(jìn)入步驟(6)停止 刻畫標(biāo)、簽。
17. 依據(jù)權(quán)利要求16所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該步驟(3)系依據(jù) 使用者所需的標(biāo)簽與步驟(2)所獲得的標(biāo)簽刻畫信息進(jìn)行規(guī)劃。
18. 依據(jù)權(quán)利要求16所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該步驟(3)規(guī)劃出 可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊為區(qū)空白區(qū)塊。
19. 依據(jù)權(quán)利要求18所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該步驟(4)中標(biāo)簽 系刻畫在標(biāo)簽面的刻畫區(qū)內(nèi)空白區(qū)塊。
20. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤標(biāo)簽刻畫方法，其中該步驟(5)標(biāo)示區(qū) 區(qū)塊所注記者為已刻畫的記號(hào)。
全文摘要
一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，首先接收該主機(jī)中光雕應(yīng)用程序的指令開始刻畫標(biāo)簽，讀取位于光盤的標(biāo)簽刻畫區(qū)的標(biāo)示區(qū)，以獲得標(biāo)簽刻畫的信息，將獲得標(biāo)簽刻畫的信息傳輸至主機(jī)，由主機(jī)規(guī)劃光盤刻畫區(qū)可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，假如無法規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，則停止刻畫標(biāo)簽，否則進(jìn)行刻畫標(biāo)簽于光盤刻畫區(qū)，然后相對(duì)已刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，于光盤標(biāo)示區(qū)注記已刻畫標(biāo)簽的記號(hào)，再停止刻畫標(biāo)簽。
文檔編號(hào)G11B7/00GK101221774SQ20071000166
公開日2008年7月16日 申請(qǐng)日期2007年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月9日
發(fā)明者蕭亦隆 申請(qǐng)人:廣明光電股份有限公司