專利名稱：光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動(dòng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動(dòng)裝置。更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及 通過(guò)將第一聚焦線圏和第二聚焦線圏以不同的取向安裝到透鏡架上， 用于獲得聚焦操作的大的推力并縮小透鏡架的厚度的技術(shù)。
背景技術(shù)：
通常，盤驅(qū)動(dòng)裝置用于將信息信號(hào)記錄到諸如光盤和磁光盤等盤 狀的記錄介質(zhì)上，并且再生被記錄的信息信號(hào)。盤驅(qū)動(dòng)裝置包括光學(xué) 拾取器，將所述光學(xué)拾取器構(gòu)造成沿著盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向移動(dòng)，
并且利用激光光束照射盤狀記錄介質(zhì)。
光學(xué)拾取器包括物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括固定塊和可動(dòng)
塊?？蓜?dòng)塊被多個(gè)諸如金屬絲等固定到固定塊上的支承彈簧所支承。
在光學(xué)拾取器中，利用設(shè)置在可動(dòng)塊上的透鏡架保持物鏡。通過(guò) 在聚焦方向上相對(duì)于固定塊移動(dòng)可動(dòng)塊進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)，在所述聚焦方 向上可動(dòng)塊進(jìn)行移動(dòng)，接近和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面。另外， 通過(guò)在跟蹤方向上相對(duì)于固定塊移動(dòng)可動(dòng)塊，進(jìn)行跟蹤調(diào)節(jié)，其中所 述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向。進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)和跟蹤 調(diào)節(jié)，使得通過(guò)物鏡入射到盤狀記錄介質(zhì)上的激光光束聚焦，以便在 盤狀記錄介質(zhì)上，在其記錄軌道上形成斑點(diǎn)。
設(shè)置在光學(xué)拾取器上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括用于在聚焦方向上移動(dòng) 可動(dòng)塊的聚焦磁路，以及用于在跟蹤方向上移動(dòng)可動(dòng)塊的跟蹤磁路。 每一個(gè)磁路中都包括線圏和》茲體。在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，借助支承彈簧將可動(dòng)塊和固定塊相互連接起 來(lái)，使得可動(dòng)塊和固定塊在切線方向上相互隔開(kāi)，其中，所述切線方 向垂直于聚焦方向和跟蹤方向兩者。
當(dāng)沿著盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向移動(dòng)光學(xué)拾取器時(shí)，激光光束通 過(guò)在與面對(duì)固定塊的表面相對(duì)的透鏡架的表面上形成的光路開(kāi)口 ，被
引導(dǎo)到配置在物鏡下方的立起反射鏡(rising mirror)上。激光光束 被立起反射鏡反射，通過(guò)物鏡入射到盤狀記錄介質(zhì)的記錄面上。在這 種狀態(tài)下，進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)和跟蹤調(diào)節(jié)，使得通過(guò)物鏡入射到盤狀記錄 介質(zhì)上的激光光束聚焦，以便在盤狀記錄介質(zhì)上，在其記錄軌道上形 成斑點(diǎn)。
在曰本未經(jīng)審查的專利申請(qǐng)公開(kāi)特開(kāi)2007 - 102912號(hào)公報(bào)中，描 迷了相關(guān)技術(shù)的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的例子。在這種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，聚焦 線圈在切線方向上安裝到保持物鏡的透鏡架的任一側(cè)。將物鏡驅(qū)動(dòng)裝 置制成這樣的結(jié)構(gòu)，使得在聚焦方向上由聚焦線圏和聚焦磁體產(chǎn)生的 推力的中心(驅(qū)動(dòng)中心)與可動(dòng)塊的重心或者物鏡的中心重合。
在推力的中心與可動(dòng)塊的重心或者物鏡的中心重合時(shí)，進(jìn)行聚焦 操作。因此，可以抑制不必要的共振，可以提高聚焦操作的可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
在上述相關(guān)技術(shù)的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置中，沿切線方向在透鏡架的任一 側(cè)，將聚焦線圈安裝到透鏡架上。因此，應(yīng)當(dāng)將聚焦線圈安裝到這樣 的區(qū)域上，即，在該區(qū)域內(nèi)，在切線方向上在透鏡架的兩側(cè)中的一側(cè) 上不形成光路開(kāi)口。
從而，如果增大安裝在具有光路開(kāi)口的一側(cè)的聚焦線圈的尺寸時(shí)， 透鏡架的尺寸相應(yīng)地增大，變得難于減小物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的尺寸。相反 地，如果為了縮小物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的尺寸而縮小安裝在具有光路開(kāi)口的 一側(cè)的聚焦線圈的尺寸，在聚焦操作中由聚焦磁路產(chǎn)生的推力會(huì)降低， 并且變得難于在聚焦操作中獲得足夠的推力。
因此，希望解決上述問(wèn)題，并提供一種厚度薄、對(duì)于聚焦操作能 夠提供大的推力的光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動(dòng)裝置。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動(dòng)裝置，設(shè)有物鏡
驅(qū)動(dòng)裝置，所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動(dòng) 基座上；可動(dòng)塊，所述可動(dòng)塊具有物鏡和構(gòu)造成保持物鏡的透鏡架， 透鏡架具有光路開(kāi)口 ，從光源發(fā)射要入射到立起反射鏡上的激光光束 通過(guò)該光路開(kāi)口，可動(dòng)塊至少能夠在聚焦方向上和跟蹤方向上相對(duì)于 固定塊移動(dòng)，其中，可動(dòng)塊在所述聚焦方向上朝向和遠(yuǎn)離盤狀記錄介 質(zhì)的記錄面運(yùn)動(dòng)，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向； 多個(gè)支承彈簧，所述支承彈簧被構(gòu)造成將固定塊和可動(dòng)塊相互連接； 聚焦磁路，所述聚焦磁路被構(gòu)造成將可動(dòng)塊沿聚焦方向移動(dòng)，并包括 第一聚焦線圈、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體；以及 跟蹤萬(wàn)茲路，所述跟蹤萬(wàn)茲路纟皮構(gòu)造成將可動(dòng)塊沿跟蹤方向移動(dòng)，并包括 跟蹤線圈和跟蹤磁體。通過(guò)可動(dòng)塊中的光路開(kāi)口的激光光束的光路沿 著所述切線方向延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向。第 一聚焦線圈包括當(dāng)沿聚焦方向移動(dòng)可動(dòng)塊時(shí)產(chǎn)生推力的第一推力產(chǎn)生 部和第二推力產(chǎn)生部，并且，所述第一聚焦線圏安裝到透鏡架上，使 得第一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部在所述切線方向上相互分隔開(kāi)。 第二聚焦線圏安裝到透鏡架的面對(duì)固定塊的表面上，使得第二聚焦線 圏的軸線方向與所述切線方向重合。第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配 置在所述切線方向上，可動(dòng)塊設(shè)置在所述兩個(gè)聚焦磁體之間。
在光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動(dòng)裝置中，在其上形成有光路開(kāi)口的透鏡架 的表面上不設(shè)置如下的聚焦線圏，該聚焦線圏進(jìn)行巻繞，使得其軸線 方向沿著切線方向延伸。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光學(xué)拾取器，包括構(gòu)造成容納盤狀 記錄介質(zhì)的盤臺(tái)，以及光學(xué)拾取器，所述光學(xué)拾取器構(gòu)造成利用激光 光束通過(guò)物鏡照射位于盤臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)，所述激光光束從光源 發(fā)射出來(lái)，并被立起反射鏡反射，所述光學(xué)拾取器包括構(gòu)造成沿著 盤臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向移動(dòng)的移動(dòng)基座，以及配置在該移 動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括固定塊，所述固定 塊固定到移動(dòng)基座上；可動(dòng)塊，所述可動(dòng)塊具有物鏡和構(gòu)造成保持物鏡的透鏡架，所述透鏡架具有光路開(kāi)口，從光源發(fā)射出來(lái)要入射到立 起反射鏡上的激光光束通過(guò)該光路開(kāi)口，可動(dòng)塊至少在聚焦方向上和 跟蹤方向上可以相對(duì)于固定塊移動(dòng)，其中，在所述聚焦方向上，可動(dòng) 塊移動(dòng)靠近和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄面，所述跟蹤方向基本上是盤
狀記錄介質(zhì)的徑向方向；多個(gè)支承彈簧，所述支承彈簧構(gòu)造成將固定 塊和可動(dòng)塊相互連接起來(lái)；聚焦磁路，所述聚焦磁路構(gòu)造成沿聚焦方 向移動(dòng)可動(dòng)塊，并包括笫一聚焦線圏、第二聚焦線圏、第一聚焦磁體 和第二聚焦磁體；跟蹤磁路，所述跟蹤磁路構(gòu)造成沿著跟蹤方向移動(dòng)
可動(dòng)塊，并包括跟蹤線圏和跟蹤磁體。通過(guò)可動(dòng)塊中的光路開(kāi)口的激 光光束的光路沿切線方向延伸，其中，所述切線方向垂直于聚焦方向 和跟蹤方向兩者。第一聚焦線圏包括當(dāng)可動(dòng)塊沿聚焦方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生 推力的第一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部，并且，所述第一聚焦線圏 安裝到透鏡架上，使得笫一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部在所述切線 方向上相互隔開(kāi)。第二聚焦線圏安裝到透鏡架的面對(duì)固定塊的表面上， 使得第二聚焦線圈的軸線方向與所述切線方向重合。第一聚焦磁體和 第二聚焦磁體配置在所述切線方向上，可動(dòng)塊配置在上述兩個(gè)聚焦磁 體之間。
從而，光路開(kāi)口可以在透鏡架上形成有大的開(kāi)口面積，并且可以 減小可動(dòng)塊的厚度。其結(jié)果是，可以縮小光學(xué)拾取器的厚度，并且可 以在聚焦操作中產(chǎn)生足夠大的推力。
優(yōu)選地，第一聚焦線圏、第二聚焦線圏和跟蹤線圏的每一個(gè)形成 具有四個(gè)側(cè)部的基本上的矩形柱狀，靠近第二聚焦線圏配置的第一聚
焦線圏的側(cè)部起著第二推力產(chǎn)生部的作用，并且在聚焦方向上設(shè)置在 和沿著跟蹤方向延伸的第二聚焦線圈的側(cè)部的位置基本上相同的位置 上。在這種情況下，第二推力產(chǎn)生部位于第二聚焦磁體的磁力強(qiáng)的位 置上，在聚焦操作中可以獲得大的推力。
優(yōu)選地，滿足下面的等式
Fla x Lla = Fib x Lib + F2 x L2
其中，F(xiàn)la是通過(guò)向第一聚焦線圏提供的驅(qū)動(dòng)電流以及第一聚焦磁體的磁通量，在第一聚焦線圏的第一推力產(chǎn)生部中沿著聚焦方向產(chǎn)
生的推力，F(xiàn)ib是通過(guò)向第一聚焦線圈提供的驅(qū)動(dòng)電流以及第二聚焦 磁體的磁通量，在第一聚焦線圏的第二推力產(chǎn)生部中沿著聚焦方向產(chǎn) 生的推力，F(xiàn)2是通過(guò)向第二聚焦線圏提供的驅(qū)動(dòng)電流以及第二聚焦磁 體的磁通量，在第二聚焦線圏上沿著聚焦方向產(chǎn)生的推力，G是可動(dòng) 塊的重心，S是包括重心G并且垂直于切線方向的平面，Lla是平面 S與產(chǎn)生推力Fla的點(diǎn)之間的最小距離，Llb是平面S與產(chǎn)生推力Flb 的點(diǎn)之間的最小距離，L2是平面S與產(chǎn)生推力F2的點(diǎn)之間的最小距 離。在這種情況下，在聚焦操作過(guò)程中，不會(huì)發(fā)生圍繞重心相對(duì)于切 線方向的傾斜。從而，在聚焦操作中，可以獲得令人滿意的伺服特性。
優(yōu)選地，設(shè)置多個(gè)物鏡，沿著跟蹤方向配置物鏡，布置第一聚焦 線圏以便包圍物鏡。在這種情況下，可以改進(jìn)聚焦操作的穩(wěn)定性，并 且在聚焦操作中可以產(chǎn)生足夠大的推力。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的盤驅(qū)動(dòng)裝置包括構(gòu)造成容納盤狀記 錄介質(zhì)的盤臺(tái)；以及利用激光光束通過(guò)物鏡照射位于盤臺(tái)上的盤狀記 錄介質(zhì)的光學(xué)拾取器，所述激光光束從光源發(fā)射出來(lái)，并被立起反射 鏡反射，所述光學(xué)拾取器包括構(gòu)造成沿著盤臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑 向方向運(yùn)動(dòng)的移動(dòng)基座，和配置在移動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。該物 鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動(dòng)基座上；可動(dòng)塊， 所述可動(dòng)塊具有物鏡和構(gòu)造成保持物鏡的透鏡架，所述透鏡架具有光 路開(kāi)口，從光源發(fā)射出來(lái)、照射到立起反射鏡上的激光光束通過(guò)所述 光路開(kāi)口 ，可動(dòng)塊能夠至少在聚焦方向和跟蹤方向上相對(duì)于固定塊移
動(dòng)，其中，在所述聚焦方向上可動(dòng)塊靠近和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄 面運(yùn)動(dòng)，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向；多個(gè)支承 彈簧，所述支承彈簧構(gòu)造成將固定塊和可動(dòng)塊相互連接起來(lái)；聚焦磁
路，所述聚焦磁路構(gòu)造成沿聚焦方向移動(dòng)可動(dòng)塊，并包括第一聚焦線
圏、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和笫二聚焦磁體；以及跟蹤磁路， 所述跟蹤磁路構(gòu)造成沿著跟蹤方向移動(dòng)可動(dòng)塊，并包括跟蹤線圏和跟 蹤磁體。通過(guò)可動(dòng)塊上的光路開(kāi)口的激光光束的光路沿著切線方向延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向。第一聚焦線圈包括當(dāng) 將可動(dòng)塊沿聚焦方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生推力的第一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn) 生部，并且所述第一聚焦線圏安裝到透鏡架上，使得第一推力產(chǎn)生部 和第二推力產(chǎn)生部在切線方向上相互隔開(kāi)。第二聚焦線圏安裝到透鏡 架的面對(duì)固定塊的表面上，使得第二聚焦線圏的軸線方向與切線方向 重合。第一聚焦磁體和第二聚焦磁體沿著切線方向配置，可動(dòng)塊配置 在它們之間。
從而，光路開(kāi)口可以在透鏡架上形成有大的開(kāi)口面積，并且可以 縮小可動(dòng)塊的厚度。其結(jié)果是，可以減小盤驅(qū)動(dòng)裝置的厚度，在聚焦 操作中，可以產(chǎn)生足夠大的推力。


圖l和圖2至圖7—起表示根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾取
器和盤驅(qū)動(dòng)裝置，圖l是盤驅(qū)動(dòng)裝置的示意透視圖； 圖2是物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的放大的透視圖3是從不同于圖2的方向觀察時(shí)，看到的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的另外 一個(gè)放大的透視圖4是可動(dòng)塊的放大的透視圖5是從不同于圖4的方向觀察時(shí)看到的可動(dòng)塊的另外一個(gè)放大 的透視圖6是說(shuō)明可動(dòng)塊的重心與推力產(chǎn)生點(diǎn)之間的關(guān)系的概念視以及
圖7是說(shuō)明可動(dòng)塊的另外一個(gè)例子的放大的透視圖；
具體實(shí)施例方式
下面將參照

根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的光學(xué)拾取器和盤 驅(qū)動(dòng)裝置。
盤驅(qū)動(dòng)裝置1包括外殼2，各種構(gòu)件和機(jī)構(gòu)配置在該外殼2內(nèi)(見(jiàn) 圖l)。外殼2具有形成在其內(nèi)部的盤插槽(圖中未示出)。
底盤(未示出)配置在外殼2內(nèi)。盤臺(tái)3固定到安裝在底盤上的 主軸馬達(dá)的馬達(dá)軸上。相互平行的導(dǎo)軸4安裝到底盤上，由進(jìn)給馬達(dá)(圖中未示出)旋 轉(zhuǎn)的導(dǎo)螺桿5被支承在底盤上。
光學(xué)拾取器6包括移動(dòng)基座7,設(shè)置在移動(dòng)基座7上的光學(xué)部件 以及設(shè)置在移動(dòng)基座7上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8。移動(dòng)基座7在其兩端具 有軸承部7a和7b，軸承部7a和7b可滑動(dòng)地被各個(gè)導(dǎo)軸4進(jìn)行支承。
設(shè)置在移動(dòng)基座7上的螺母構(gòu)件(圖中未示出)與導(dǎo)螺桿5嚙合。 當(dāng)導(dǎo)螺桿5被進(jìn)給馬達(dá)旋轉(zhuǎn)時(shí)，螺母構(gòu)件沿著對(duì)應(yīng)于導(dǎo)螺桿5的旋轉(zhuǎn) 方向的方向運(yùn)動(dòng)。從而，光學(xué)拾取器6在配置在盤臺(tái)3上的盤狀記錄 介質(zhì)100的徑向方向上移動(dòng)。
物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8包括固定塊9和可動(dòng)塊10，可動(dòng)塊10可以相對(duì) 于固定塊9運(yùn)動(dòng)(見(jiàn)圖2和3)。固定塊9和可動(dòng)塊10配置在移動(dòng)基 座7上(見(jiàn)圖1)。
固定塊9固定到移動(dòng)基座7上。電路基板11安裝到固定塊9的后面。
可動(dòng)塊10具有透鏡架12和安裝到該透鏡架12上的部件(見(jiàn)圖4 和5)。
線圈槽12a形成在透鏡架12內(nèi)，以便在靠近其上端位置處在整個(gè) 周邊延伸。具有基本上為矩形柱狀的第一聚焦線圈13安裝到線圈槽 12a內(nèi)。定位第一聚焦線圈13，使得該第一聚焦線圈13的軸線方向沿 著聚焦方向(垂直方向)延伸。
第一聚焦線圈13的前部和后部分別用作第一推力產(chǎn)生部13a和第 二推力產(chǎn)生部13b，它們沿著左右方向延伸。
這樣形成光路開(kāi)口 12b使之在透鏡架12的前側(cè)打開(kāi)。
透鏡架12在其頂面上具有透鏡安裝部12c。物鏡14和15安裝到 透鏡安裝部12c上。物鏡14和15沿左右方向(徑向方向)相互分開(kāi)， 并對(duì)應(yīng)于不同類型的盤狀記錄介質(zhì)，例如利用波長(zhǎng)約為780nm的激光 光束的壓縮光盤(CD )、利用波長(zhǎng)約為660nm的激光光束的數(shù)字通用 盤(DVD)以及利用波長(zhǎng)約為405nm的激光光束的藍(lán)光盤。
立起反射鏡配置在物鏡14和15的每一個(gè)的下方。每一個(gè)立起反射鏡通過(guò)光路開(kāi)口 12b從光源(未示出)接受激光光束，并且將激光 光束以直角發(fā)射，使得該激光光束入射到對(duì)應(yīng)的一個(gè)物鏡14和15上。
透鏡架12在其后表面具有線圏安裝部12d。第二聚焦線圈16和 跟蹤線圏17安裝到線圏安裝部12d上。第二聚焦線圏16和跟蹤線圏 17的每一個(gè)具有基本上矩形柱狀，并安裝到線圏安裝部12d上，使其 軸線方向沿著切線方向延伸。跟蹤線圏17配置在第二聚焦線圏16的 左側(cè)和右側(cè)。 一對(duì)傾斜線圏(未示出)安裝到透鏡架12上。
連接基板18在其左邊緣和右邊緣處安裝到透鏡架12的線圏安裝 部12d上。第一聚焦線圈13、第二聚焦線圏16、跟蹤線圏17和傾斜 線圏的端子安裝到連接基板18的端子上。如圖2和3所示，支承彈簧 19的前端，例如通過(guò)焊接連接到連接基板18上。支承彈簧19利用導(dǎo) 電性金屬材料制成，例如，具有金屬絲的形狀。
支承彈簧19的后端，例如通過(guò)焊接連接到安裝在固定塊9上的電 路基板11上。
如上所述，支承彈簧19在其端部連接到可動(dòng)塊10上的連接基板 18和固定塊9上的電路基板11上。這樣，通過(guò)被支承彈簧19連接到 固定塊9上，將可動(dòng)塊10懸掛到半空中。
在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中，通過(guò)電路基板11、支承彈簧19和連接基 板18，從電源電路(未示出)向第一聚焦線圏13、第二聚焦線圏16、 跟蹤線圏17和傾斜線圏供應(yīng)驅(qū)動(dòng)電流。
第一聚焦磁體20配置在可動(dòng)塊10的前方，以便沿著左右方向延 伸(見(jiàn)圖2至圖5)。笫一聚焦磁體20例如安裝到移動(dòng)基座7的安裝 部(未示出)上，并且配置在光路開(kāi)口 12b的上方，并位于第一聚焦 線圏13的第一推力產(chǎn)生部13a的前方。
由磁性金屬材料制成的磁軛構(gòu)件21配置在移動(dòng)基座7上(見(jiàn)圖2 和3)。
磁輒構(gòu)件21包括配置成垂直于豎直方向的基部21a，以及從基部 21a向上方突出的石茲軛部21b。
第二聚焦磁體22和跟蹤磁體23安裝到f茲軛部21b的前表面。傾斜磁體(未示出)安裝到磁軛構(gòu)件21上。
磁軛構(gòu)件21的基部21a和萬(wàn)茲軛部21b也可以相互分開(kāi)獨(dú)立地形 成。在這種情況下，可以將基部21a形成為具有將固定塊9固定到移 動(dòng)基座7上并且保持磁軛部21b的功能，可以將磁軛部21b形成為具 有作為專用磁軛的功 能。
定位第二聚焦磁體22,以便面對(duì)第一聚焦線圈13的第二推力產(chǎn) 生部13b。定位跟蹤磁體23以便面對(duì)各個(gè)跟蹤線圏17。配置傾斜磁體 以便面對(duì)各個(gè)傾斜線圏。
物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8沒(méi)有必要具有專門的傾斜磁體。例如，可以將聚 焦磁體22構(gòu)造成也具有傾斜磁體的功能。在這種情況下，定位傾斜線 圏，以便面對(duì)起著傾斜磁體作用的聚焦磁體22 。
第一聚焦線圏13、第二聚焦線圈16、第一聚焦磁體20、第二聚 焦磁體22和磁軛構(gòu)件21形成聚焦磁路。跟蹤線圈17、跟蹤磁體23 和磁輒構(gòu)件21形成跟蹤磁路。傾斜線圏、傾斜磁體和磁軛構(gòu)件21形 成傾斜f茲路。
當(dāng)從電源電路(未示出)向第一聚焦線圏13和第二聚焦線圏16、 跟蹤線圏17或者傾斜線圈提供驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，根據(jù)驅(qū)動(dòng)電流的方向以及 在第一聚焦磁體20和第二聚焦磁體22、跟蹤磁體23或者傾斜磁體中 產(chǎn)生的磁通量的方向，產(chǎn)生一個(gè)力(推力)。其結(jié)果是，可動(dòng)塊10沿 著聚焦方向、跟蹤方向或者傾斜方向移動(dòng)。
聚焦方向是可動(dòng)塊10靠近和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)100運(yùn)動(dòng)的方向 (在圖2和3中的F方向)，即，豎直方向。跟蹤方向是盤狀記錄介 質(zhì)100的徑向方向(圖2和3中的TR方向)，即，左右方向。傾斜方 向是圍繞著一個(gè)軸的方向(圖2和3中的TI方向)，所述軸在垂直于 聚焦方向和跟蹤方向兩者的方向(切線方向)上延伸。
當(dāng)可動(dòng)塊IO在聚焦方向、跟蹤方向或者傾斜方向上移動(dòng)時(shí)，支承 彈簧19進(jìn)行彈性變形。
在上述聚焦操作中，當(dāng)從電源電路向第一聚焦線圏13和第二聚焦 線圈16提供驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，在第一聚焦線圈13的第一推力產(chǎn)生部13a和笫二推力產(chǎn)生部13b的每一個(gè)和第二聚焦線圈16上產(chǎn)生推力，使得 可動(dòng)塊10沿聚焦方向移動(dòng)(見(jiàn)圖6)。將第一推力產(chǎn)生部13a中產(chǎn)生 推力的點(diǎn)定義為點(diǎn)A,將在第二推力產(chǎn)生部13b中產(chǎn)生推力的點(diǎn)定義 為點(diǎn)B，將在第二聚焦線圏16中產(chǎn)生推力的點(diǎn)定義為點(diǎn)C。假定產(chǎn)生 向上的推力，在點(diǎn)A處產(chǎn)生推力Fla，在點(diǎn)B產(chǎn)生推力Flb,在點(diǎn)C 處產(chǎn)生推力F2。從而，由推力Fla、 Flb和F2的合力使可動(dòng)塊10沿 聚焦方向移動(dòng)。
在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中，滿足下述等式
Fla x Lla - Fib x Lib + F2 x L2 ( 1)
其中，G是可動(dòng)塊10的重心，S是包括重心G并垂直于切線方 向的平面，Lla是平面S與點(diǎn)A之間的最小距離，Llb是平面S與點(diǎn) B之間的最小距離，L2是平面S與點(diǎn)C之間的最小距離。
等式(1)的左側(cè)表示圖6中的逆時(shí)針力矩，等式(1)的右側(cè)表 示圖6中的順時(shí)針力矩。等式(l)表示逆時(shí)針力矩和順時(shí)針力矩彼此 相等。從而，在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中，在聚焦操作過(guò)程中，不會(huì)發(fā)生圍 繞重心G相對(duì)于切線方向的傾斜，即，不會(huì)發(fā)生物鏡14和15的前部 向上或向下移位的傾斜。從而，在聚焦操作中，可以獲得令人滿意的 伺服特性。
在具有上述結(jié)構(gòu)的盤驅(qū)動(dòng)裝置1中，當(dāng)通過(guò)主軸馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)將盤 臺(tái)3轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，位于盤臺(tái)3上的盤狀記錄介質(zhì)IOO也旋轉(zhuǎn)。同時(shí)，光學(xué) 拾取器6沿盤狀記錄介質(zhì)100的徑向方向移動(dòng)。從而，進(jìn)行對(duì)于盤狀 記錄介質(zhì)100的記錄操作或再生操作。
在記錄操作或者再生操作的過(guò)程中，當(dāng)向第一聚焦線圈13和第二 聚焦線圏16上提供驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中的可動(dòng)塊IO相對(duì) 于固定塊9在圖2和3所示的聚焦方向F-F上移動(dòng)。從而，進(jìn)行聚 焦調(diào)節(jié)，將通過(guò)物鏡14或者15的激光光束聚焦，以便在盤狀記錄介 質(zhì)100的記錄面上形成斑點(diǎn)。
當(dāng)向跟蹤線圈17提供驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中的可動(dòng)塊 10相對(duì)于固定塊9在圖2和3中所示的跟蹤方向TR-TR上移動(dòng)。從而，進(jìn)行跟蹤調(diào)節(jié)，將通過(guò)物鏡14或者15的激光光束聚焦，以便在 盤狀記錄介質(zhì)100上，在其記錄軌道上形成斑點(diǎn)。
另外，當(dāng)向傾斜線圈上提供驅(qū)動(dòng)電流時(shí)，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中的可 動(dòng)塊IO相對(duì)于固定塊9在圖2和3所示的傾斜方向TI-TI上移動(dòng)。 從而，進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié)，使得通過(guò)物鏡14或者15的激光光束的光軸變 得與盤狀記錄介質(zhì)100的記錄面垂直。
在上述結(jié)構(gòu)中，將第一聚焦線圏13水平配置。但是，例如，如圖 7所示，也可以以傾斜的方式配置第一聚焦線圏13A。第一聚焦線圏 13A以傾斜的方式安裝到透鏡架12上，使得第一推力產(chǎn)生部13a位于 第二推力產(chǎn)生部13b的上方。位于第一推力產(chǎn)生部13a的下方的第二 推力產(chǎn)生部13b,與第二聚焦線圏16的上部16a處于相同的高度。
如上所述，第一聚焦線圈13A的第二推力產(chǎn)生部13b，與第二聚 焦線圏16的上部16a處于相同的高度。上部16a用于在聚焦方向上產(chǎn) 生推力，并位于第二聚焦磁體22的磁力強(qiáng)的位置上。從而，第二推力 產(chǎn)生部13b也位于第二聚焦磁體22的磁力強(qiáng)的位置上，在聚焦操作中 可以獲得大的推力。
如上所述，光學(xué)拾取器6包括第一聚焦線圏13和第二聚焦線圏 16。第一聚焦線圏13以沿著前后方向配置第一推力產(chǎn)生部13a和第二 推力產(chǎn)生部13b的方式安裝到透鏡架12上。將第二聚焦線圈16安裝 到透鏡架12上，使得其軸線方向沿著切線方向延伸。從而，光路開(kāi)口 12b可以在透鏡架12上形成大的開(kāi)口面積。另外，可以縮小可動(dòng)塊IO 的厚度，因?yàn)樵谕哥R架12的前表面不安裝聚焦線圏。其結(jié)果是，可以 減小光學(xué)拾取器6的厚度，在聚焦操作中可以產(chǎn)生足夠大的推力。
另外，由于沒(méi)有聚焦線圏安裝在透鏡架12的前表面上，所以可以 減小可動(dòng)塊IO在切線方向上的尺寸，可以改進(jìn)高階共振特性。
另外，由于可以縮小可動(dòng)塊10的厚度，從而，可以相應(yīng)地降低可 動(dòng)塊10的重量。因此，可以改進(jìn)在聚焦操作、跟蹤操作和傾斜操作中 的靈敏度。
在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8中，定位第一聚焦線圏13，以便包圍兩個(gè)物鏡14和15。從而，可以改進(jìn)聚焦操作的穩(wěn)定性，在聚焦操作中可以獲得 足夠大的推力。
盡管在上述例子中設(shè)置兩個(gè)物鏡14和15，但是，物鏡的數(shù)目并 不局限于兩個(gè)，可以是一個(gè)，三個(gè)或者更多個(gè)。
在上述例子中，當(dāng)將驅(qū)動(dòng)電流提供給傾斜線圏時(shí)進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié)。 但是，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置8沒(méi)有必要具有專門的傾斜磁路，聚焦磁路和跟 蹤磁路中的一個(gè)可以起著傾斜磁路的作用。例如，在聚焦磁路起著傾 斜磁路的作用的情況下，可以通過(guò)在相反的方向上向第一聚焦線圏13 和第二聚焦線圈16提供驅(qū)動(dòng)電流，進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié)，使得可動(dòng)塊10相 對(duì)于固定塊9在傾斜方向TI-TI上移動(dòng)。
盡管為了簡(jiǎn)單起見(jiàn)，將聚焦方向、跟蹤方向和切線方向分別稱之 為豎直方向、左右方向和前后方向，但是，這些方向并不局限于上面 所述的這些方向。
在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中上述的每一個(gè)部件的形狀和結(jié)構(gòu)僅僅是 本發(fā)明的例子，并不限定本發(fā)明的技術(shù)范圍。
應(yīng)當(dāng)理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)設(shè)計(jì)上的需要和其它因素，可以 進(jìn)行各種改型、組合、分組合和變更，只要它們?cè)谒綑?quán)利要求或者 其等價(jià)物的范圍內(nèi)即可。
權(quán)利要求
1. 一種光學(xué)拾取器，包括移動(dòng)基座，所述移動(dòng)基座被構(gòu)造成沿著安裝到盤臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向移動(dòng)；以及物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在所述移動(dòng)基座上，其中，所述光學(xué)拾取器利用激光光束通過(guò)物鏡照射位于盤臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)，所述激光光束從光源中發(fā)射出來(lái)，并被立起反射鏡反射，以及其中，所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動(dòng)基座上；可動(dòng)塊，所述可動(dòng)塊具有物鏡和構(gòu)造成保持物鏡的透鏡架，透鏡架具有光路開(kāi)口，從光源發(fā)射要入射到立起反射鏡上的激光光束通過(guò)該光路開(kāi)口，可動(dòng)塊至少能夠在聚焦方向上和跟蹤方向上相對(duì)于固定塊移動(dòng)，其中，可動(dòng)塊在所述聚焦方向上朝向和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄面運(yùn)動(dòng)，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向；多個(gè)支承彈簧，所述支承彈簧被構(gòu)造成將固定塊和可動(dòng)塊相互連接起來(lái)；聚焦磁路，所述聚焦磁路被構(gòu)造成將可動(dòng)塊沿聚焦方向移動(dòng)，并包括第一聚焦線圈、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體；以及跟蹤磁路，所述跟蹤磁路被構(gòu)造成將可動(dòng)塊沿跟蹤方向移動(dòng)，并包括跟蹤線圈和跟蹤磁體，其中，通過(guò)可動(dòng)塊中的光路開(kāi)口的激光光束的光路沿著切線方向延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向兩者，其中，第一聚焦線圈包括當(dāng)沿聚焦方向移動(dòng)可動(dòng)塊時(shí)產(chǎn)生推力的第一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部，并且，所述第一聚焦線圈安裝到透鏡架上，使得第一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部在所述切線方向上相互分隔開(kāi)，其中，第二聚焦線圈安裝到透鏡架的面對(duì)固定塊的表面上，使得第二聚焦線圈的軸線方向與所述切線方向重合，其中，第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配置在所述切線方向上，可動(dòng)塊設(shè)置在所述兩個(gè)聚焦磁體之間。
2. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，第一聚焦線圏、 第二聚焦線圈和跟蹤線圏中的每一個(gè)均形成具有四個(gè)側(cè)部的基本上矩 形;f主狀，以及其中，靠近第二聚焦線圈配置的第一聚焦線圈的側(cè)部起著第二推 力產(chǎn)生部的作用，并配置在聚焦方向上、與沿著跟蹤方向延伸的第二 聚焦線圏的側(cè)部的位置基本上相同的位置上。
3. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，滿足下面等式 Fla x Lla - Fib x Lib + F2 x L2其中，F(xiàn)la是通過(guò)向第一聚焦線圏上提供的驅(qū)動(dòng)電流以及第一聚 焦磁體的磁通量，在第一聚焦線圏的第一推力產(chǎn)生部中在聚焦方向上 產(chǎn)生的推力，F(xiàn)lb是通過(guò)向第一聚焦線圈上提供的驅(qū)動(dòng)電流以及第二聚焦磁體 的磁通量，在第一聚焦線圏的第二推力產(chǎn)生部中在聚焦方向上產(chǎn)生的 推力，F(xiàn)2是通過(guò)向第二聚焦線圏上提供的驅(qū)動(dòng)電流以及第二聚焦磁體 的磁通量，在第二聚焦線圏中在聚焦方向上產(chǎn)生的推力， G是可動(dòng)塊的重心，S是包括重心G并垂直于所述切線方向的平面， Lla是平面S與產(chǎn)生推力Fla的點(diǎn)之間的最小距離， Llb是平面S與產(chǎn)生推力Flb的點(diǎn)之間的最小距離， L2是平面S與產(chǎn)生推力F2的點(diǎn)之間的最小距離。
4. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，設(shè)置多個(gè)物鏡， 所述物鏡配置在跟蹤方向上，以及其中，第一聚焦線圈設(shè)置成包圍物鏡。
5. —種盤驅(qū)動(dòng)裝置，包括盤臺(tái)，其被構(gòu)造成容納盤狀記錄介質(zhì)；以及光學(xué)拾取器，其被構(gòu)造成利用激光光束通過(guò)物鏡照射位于所述盤 臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)，所述激光光束是從光源發(fā)射出來(lái)的并被立起反 射鏡反射，所述光學(xué)拾取器包括移動(dòng)基座，該移動(dòng)基座被構(gòu)造成在盤 臺(tái)上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向方向上移動(dòng)，所述光學(xué)拾取器還包括配置 在移動(dòng)基座上的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其中，所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括固定塊，所述固定塊固定到移動(dòng)基座上； 可動(dòng)塊，所述可動(dòng)塊具有物鏡和構(gòu)造成保持物鏡的透鏡架， 所述透鏡架具有光路開(kāi)口，從光源發(fā)射出來(lái)、要入射到立起反射鏡上 的激光光束通過(guò)該光路開(kāi)口，可動(dòng)塊至少在聚焦方向上和跟蹤方向上 可以相對(duì)于固定塊移動(dòng)，其中，可動(dòng)塊在所述聚焦方向上移動(dòng)靠近和 遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄面，所述跟蹤方向基本上是盤狀記錄介質(zhì)的 徑向方向；多個(gè)支承彈簧，所述支承彈簧被構(gòu)造成將固定塊和可動(dòng)塊相 互連接起來(lái)；聚焦磁路，所述聚焦磁路被構(gòu)造成沿聚焦方向移動(dòng)可動(dòng)塊， 并包括第一聚焦線圏、第二聚焦線圏、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體； 以及跟蹤磁路，所述跟蹤磁路被構(gòu)造成沿著跟蹤方向移動(dòng)可動(dòng)塊， 并包括跟蹤線圏和跟蹤/磁體，其中，通過(guò)在可動(dòng)塊中的光路開(kāi)口的激光光束的光路沿切線方向 延伸，所述切線方向垂直于聚焦方向和跟蹤方向兩者，其中，第一聚焦線圏包括當(dāng)可動(dòng)塊沿聚焦方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生推力的 第,推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部，并且，所述第一聚焦線圏安裝到 透鏡架上，使得第一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部在所述切線方向上 相互隔開(kāi)，其中，第二聚焦線圈安裝到透鏡架的面對(duì)固定塊的表面上，使得 第二聚焦線圈的軸線方向與所述切線方向重合，其中，第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配置在所述切線方向上，可 動(dòng)塊配置在上述兩個(gè)聚焦磁體之間。
全文摘要
一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，包括固定到移動(dòng)基座上的固定塊、具有構(gòu)造成保持物鏡的透鏡架、構(gòu)造成將固定塊和可動(dòng)塊相互連接起來(lái)的支承彈簧、包括第一聚焦線圈、第二聚焦線圈、第一聚焦磁體和第二聚焦磁體的聚焦磁路以及跟蹤磁路。第一聚焦線圈安裝到透鏡架上，使得第一推力產(chǎn)生部和第二推力產(chǎn)生部在切線方向上相互分離。第二聚焦線圈安裝到透鏡架上，使得第二聚焦線圈的軸線方向與切線方向重合。第一聚焦磁體和第二聚焦磁體配置在切線方向上，可動(dòng)塊配置在所述兩個(gè)聚焦磁體之間；以及包括該物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動(dòng)裝置。
文檔編號(hào)G11B7/09GK101414468SQ20081014995
公開(kāi)日2009年4月22日 申請(qǐng)日期2008年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月17日
發(fā)明者宮田琢郎 申請(qǐng)人:索尼株式會(huì)社