基板處理裝置制造方法
【專利摘要】在基板處理裝置中，噴射頭從保持在基板保持部上的基板的上方向配置在杯部的外側(cè)的待機(jī)艙的上方的檢查位置移動(dòng)。在檢查位置上，從光出射部向由噴射頭向待機(jī)艙噴射的處理液照射面狀光。然后，由拍攝部獲取包含有在處理液上出現(xiàn)的亮點(diǎn)的檢查圖像，由判斷部基于該檢查圖像來(lái)判斷噴射頭的噴射動(dòng)作是否良好。由此，與通過(guò)從噴射頭向基板上噴射處理液來(lái)對(duì)噴射動(dòng)作進(jìn)行檢查的情況相比，通過(guò)排除由來(lái)自基板的反射光以及碰撞到基板上的處理液的飛沫和霧氣等產(chǎn)生的影響，能夠高精度地判斷噴射頭的噴射動(dòng)作是否良好。
【專利說(shuō)明】基板處理裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對(duì)基板進(jìn)行處理的基板處理裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]以往，在半導(dǎo)體基板(下面，檢測(cè)為“基板”)的制造工序中，利用基板處理裝置對(duì)具有氧化膜等絕緣膜的基板實(shí)施各種處理。例如，通過(guò)向基板的表面供給清洗液，來(lái)進(jìn)行清洗處理，除去粘附在基板表面上的顆粒(particle)等。
[0003]在日本特開(kāi)2010 - 56376號(hào)公報(bào)(文獻(xiàn)I)的基板清洗裝置中，利用壓電元件使清洗噴頭的筒狀體內(nèi)的清洗液振動(dòng)，由此從多個(gè)噴射孔向基板噴射清洗液的液滴。在日本特開(kāi)2012 - 182320號(hào)公報(bào)(文獻(xiàn)2)的基板處理裝置中，在向基板噴射處理液的液滴的噴頭上設(shè)有多列的噴射口列。在日本特開(kāi)2012 - 209513號(hào)公報(bào)(文獻(xiàn)3)的基板處理裝置中，具有多列的噴射口列的噴頭沿穿過(guò)基板的旋轉(zhuǎn)中心的軌跡移動(dòng)。
[0004]在日本特開(kāi)2012 - 9812號(hào)公報(bào)(文獻(xiàn)4)中，公開(kāi)了從以直線狀排列為I列的11個(gè)噴頭向基板供給處理液的液體處理裝置。在該裝置中，向從這些噴頭的前端部到基板表面的區(qū)域照射線狀的激光，并利用面向該區(qū)域的攝像頭拍攝從各噴頭噴射的抗蝕劑液體的液柱。然后，通過(guò)將拍攝結(jié)果與預(yù)先拍攝從噴頭正常噴射抗蝕劑液體的狀態(tài)而得到的基準(zhǔn)信息進(jìn)行比較，來(lái)判斷噴頭是否噴射抗蝕劑液體以及噴射狀態(tài)有無(wú)變化。
[0005]但是，在如文獻(xiàn)I至文獻(xiàn)3那樣的基板處理裝置中，若如文獻(xiàn)4那樣要觀察從噴頭向基板噴射的處理液時(shí)，來(lái)自基板的反射反射光有可能入射至攝像頭。另外，與基板碰撞而產(chǎn)生的處理液飛沫及霧氣等有可能影響檢查精度。進(jìn)而，由于用于接收從基板上飛散來(lái)的處理液的杯部等配置在基板周?chē)母鞣N結(jié)構(gòu)的限制，有時(shí)難以將攝像頭及光源配置到恰當(dāng)?shù)奈恢谩?br>

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本發(fā)明面向?qū)暹M(jìn)行處理的基板處理裝置，其目的在于，高精度判斷噴射動(dòng)作是否良好。
[0007]本發(fā)明的基板處理裝置包括:基板保持部，其用于保持基板；杯部，其包圍所述基板保持部的周?chē)粐娚漕^，其在所述杯部的內(nèi)側(cè)，配置在所述基板保持部的上方，用于向所述基板噴射處理液；待機(jī)艙，其配置在所述杯部的外側(cè)，用于在所述噴射頭待機(jī)時(shí)容置所述噴射頭的下端部；供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于將所述噴射頭從所述基板保持部的上方移動(dòng)至所述待機(jī)艙的上方的檢查位置；光出射部，其通過(guò)沿預(yù)先規(guī)定的光存在面而出射光，在從位于所述檢查位置的所述噴射頭向所述待機(jī)艙噴射的處理液通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述處理液照射光；拍攝部，其對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述處理液進(jìn)行拍攝，從而獲取包含有在所述處理液上出現(xiàn)的亮點(diǎn)的檢查圖像；判斷部，其基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述噴射頭的噴射動(dòng)作是否良好。通過(guò)該基板處理裝置，能夠高精度地判斷噴射動(dòng)作是否良好。
[0008]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述光存在面通過(guò)位于所述檢查位置上的所述噴射頭的下端和所述待機(jī)艙的上端之間的間隙。
[0009]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，還具有用于清掃所述拍攝部的拍攝方向前側(cè)的面的拍攝部清掃部。
[0010]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，還具有用于清掃所述光出射部的光出射方向前側(cè)的面的光出射部清掃部。
[0011]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，投影拍攝軸和投影光軸具有交點(diǎn)，所述投影拍攝軸是使所述拍攝部的拍攝軸在與來(lái)自所述噴射頭的處理液的噴射方向相垂直的投影面上沿所述噴射方向投影而得到的，所述投影光軸是使所述光出射部的光軸在所述投影面上沿所述噴射方向投影而得到的；第一部位和第二部位所形成的角度大于90度，所述第一部位是指在所述投影拍攝軸上所述交點(diǎn)與所述拍攝部之間的部位，所述第二部位是指在所述投影光軸上所述交點(diǎn)與所述光出射部之間的部位。
[0012]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，還具有遮光腔室，其內(nèi)部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內(nèi)部空間入射的光。
[0013]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個(gè)噴射口 ；所述光出射部，在從所述多個(gè)噴射口噴射的所述處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述多個(gè)飛濺體照射光；所述拍攝部，對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述多個(gè)飛濺體進(jìn)行拍攝，獲取包含有在所述多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的所述檢查圖像；所述判斷部，基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述多個(gè)噴射口中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。
[0014]在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方式中，還具有:維護(hù)部，其對(duì)所述噴射頭進(jìn)行維護(hù)；維護(hù)控制部，其在由所述判斷部檢測(cè)出所述噴射頭的噴射動(dòng)作不良的情況下，通過(guò)對(duì)所述供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)及所述維護(hù)部進(jìn)行控制，在使所述噴射頭從所述檢查位置下降而將所述噴射頭的所述下端部容置到所述待機(jī)艙內(nèi)的狀態(tài)下，對(duì)所述噴射頭進(jìn)行維護(hù)。
[0015]更加優(yōu)選地，所述維護(hù)部是使貯存在所述待機(jī)艙內(nèi)的浸潰液發(fā)生振動(dòng)的振動(dòng)賦予部；在檢測(cè)出所述噴射頭的噴射動(dòng)作不良的情況下，在所述待機(jī)艙內(nèi)所述噴射頭的所述下端部浸潰到所述待機(jī)艙內(nèi)的所述浸潰液中，由所述振動(dòng)賦予部通過(guò)使所述浸潰液振動(dòng)來(lái)對(duì)所述噴射頭進(jìn)行清洗。
[0016]能夠通過(guò)參照附圖來(lái)在下面進(jìn)行的對(duì)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明中明確上述的目的及其他目的、特征、方式及優(yōu)點(diǎn)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1是一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置的主視圖。
[0018]圖2是基板處理裝置的俯視圖。
[0019]圖3是噴射頭的仰視圖。
[0020]圖4是噴射頭的剖視圖。
[0021]圖5是示出了控制單元的功能的框圖。
[0022]圖6是頭待機(jī)部、光出射部及拍攝部的俯視圖。
[0023]圖7是頭待機(jī)部、光出射部及拍攝部的立體圖。
[0024]圖8是頭待機(jī)部及噴射檢查部的俯視圖。
[0025]圖9是示出了頭待機(jī)部及噴射頭的圖。
[0026]其中，附圖標(biāo)記的說(shuō)明如下:
[0027]I 基板處理裝置
[0028]6 腔室
[0029]9 基板
[0030]21基板保持部
[0031]22 杯部
[0032]31噴射頭
[0033]35供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)
[0034]41待機(jī)艙
[0035]42維護(hù)部
[0036]51光出射部
[0037]52拍攝部
[0038]53光出射部清掃部
[0039]54拍攝部清掃部
[0040]60內(nèi)部空間
[0041]75判斷部
[0042]76維護(hù)控制部
[0043]314 噴射口
[0044]419浸潰液
[0045]510面狀光
[0046]513 (光出射部罩的)前表面
[0047]523 (拍攝部罩的)前表面
[0048]Jl 光軸
[0049]J2拍攝軸
[0050]J3投影光軸
[0051]J4投影拍攝軸
[0052]Kl 交點(diǎn)

【具體實(shí)施方式】
[0053]圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置I的主視圖。圖2是基板處理裝置I的俯視圖。在圖2中，變更了圖1中的基板處理裝置I的朝向?；逄幚硌b置I是逐個(gè)處理半導(dǎo)體基板9 (下面，簡(jiǎn)稱為“基板9”)的單張式裝置。在基板處理裝置I中，通過(guò)向基板9噴射處理液來(lái)進(jìn)行規(guī)定處理。在本實(shí)施方式中，通過(guò)將作為處理液的清洗液的液滴噴射到基板9上，來(lái)進(jìn)行從基板9上除去顆粒等的清洗處理。在基板處理裝置I中，例如將直徑約為20 μ m (微米)的液滴向基板9以噴霧(spray)方式噴射。
[0054]如圖1及圖2所示，基板處理裝置I具有基板保持部21、杯部22、基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23、處理液供給部3、供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)35、保護(hù)液供給部36、頭待機(jī)部4、噴射檢查部5、腔室6及后述的控制單元。腔室6的內(nèi)部空間60容置基板保持部21、杯部22、基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23、處理液供給部3、供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)35、保護(hù)液供給部36、頭待機(jī)部4及噴射檢查部5等結(jié)構(gòu)。腔室6是遮斷從外部向內(nèi)部空間60入射的光的遮光腔室。在圖1及圖2中，通過(guò)用虛線表示腔室6，圖示了腔室6的內(nèi)部。
[0055]基板保持部21，在腔室6內(nèi)以使基板9的一個(gè)主表面91(下面，稱為“上表面91”)朝向上側(cè)的狀態(tài)保持基板9。在基板9的上表面91形成有電路圖案等微細(xì)圖案。杯部22是包圍基板9及基板保持部21周?chē)拇笾鲁蕡A筒狀的構(gòu)件?；逍D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23配置在基板保持部21的下方?；逍D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23以穿過(guò)基板9的中心而且與基板9的上表面91垂直的旋轉(zhuǎn)軸為中心使基板9與基板保持部21 —起在水平面上旋轉(zhuǎn)。
[0056]處理液供給部3具有向下方噴射處理液的噴射頭31和向噴射頭31供給處理液的處理液配管32。噴射頭31在杯部22的內(nèi)側(cè)而配置在基板保持部21的上方。換句話講，噴射頭31的下表面位于杯部22的上部開(kāi)口 220和基板9的上表面91之間。噴射頭31是從后述的多個(gè)噴射口連續(xù)地噴射相互分離的微小液滴的裝置。從噴射頭31向基板9的上表面91噴射處理液的微小液滴。利用純水(優(yōu)選地，采用去離子水(DIW))、碳酸水、氨水和過(guò)氧化氫溶液的混合液等液體，作為處理液。從噴射頭31的噴射處理液的設(shè)計(jì)噴射方向與上下方向(即，重力方向)大致平行。
[0057]圖3是示出了噴射頭31的下表面311的仰視圖。在噴射頭31的下表面311設(shè)有多個(gè)噴射口 314。下面，將噴射頭31的下表面311稱為“噴射面311”。多個(gè)噴射口 314具有在圖3中的左右方向上大致以直線狀延伸的四條噴射口列。在各噴射口列中，以規(guī)定的排列間距排列有多個(gè)噴射口 314。各噴射口 314的直徑大約是5μπι?ΙΟμπι。在圖3中，將各噴射口 314描畫(huà)得比實(shí)際大小更大并且噴射口 314的數(shù)目比實(shí)際數(shù)目更少。
[0058]圖4是噴射頭31的縱向剖視圖。噴射頭31具有頭主體部312和壓電元件315。在頭主體部312的內(nèi)部設(shè)有作為保持處理液的空間的處理液保持部316。處理液保持部316的一個(gè)端部與向噴射頭31供給處理液的處理液供給部相連接。處理液保持部316的另一端部與回收來(lái)自噴射頭31的處理液的處理液回收部相連接。作為頭主體部312的外表面的一部分的下表面，是上述的噴射面311。多個(gè)噴射口 314分別與處理液保持部316相連接。壓電元件315安裝在頭主體部312的上表面。壓電元件315經(jīng)由頭主體部312使頭主體部312內(nèi)的處理液振動(dòng)，由此從多個(gè)噴射口 314中的各噴射口噴射處理液的微小液滴。
[0059]如圖1及圖2所示，供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)35具有臂(機(jī)械臂)351、旋轉(zhuǎn)軸352、頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)353及頭升降機(jī)構(gòu)354。臂351從旋轉(zhuǎn)軸352開(kāi)始而在水平方向上延伸。在臂351的前端部安裝有噴射頭31。頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)353使噴射頭31與臂351 —起以旋轉(zhuǎn)軸352為中心在水平方向上旋轉(zhuǎn)。頭升降機(jī)構(gòu)354使噴射頭31與臂351 —起在上下方向上移動(dòng)。頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)353例如具有電動(dòng)馬達(dá)。頭升降機(jī)構(gòu)354例如具有滾珠絲杠(ball screw)機(jī)構(gòu)及電動(dòng)馬達(dá)。
[0060]保護(hù)液供給部36直接或間接地固定在噴射頭31上，該保護(hù)液供給部36將保護(hù)液向斜下方噴射。在圖1及圖2所示的例子中，保護(hù)液供給部36安裝在臂351上，間接地固定在噴射頭31上。與上述處理液同樣地，利用純水(優(yōu)選地，采用去離子水)、碳酸水、氨水和過(guò)氧化氫溶液的混合液等液體，作為保護(hù)液。保護(hù)液可以是與處理液相同種類的液體，也可以是不同種類的液體。
[0061]在基板處理裝置I中，從保護(hù)液供給部36向基板9的上表面91以液柱狀噴射的保護(hù)液，在噴射頭31的下方而在基板9上擴(kuò)散，由此在噴射頭31的正下方形成規(guī)定厚度的保護(hù)液的膜(下面，成為“保護(hù)液膜”)。由頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)353及頭升降機(jī)構(gòu)354使保護(hù)液供給部36與噴射頭31 —起移動(dòng)。
[0062]圖5是示出了控制單元7的功能的框圖。在圖5中，還一同描畫(huà)了控制單元7以外的結(jié)構(gòu)。控制單元7具有處理控制部71、檢查控制部72、判斷部75及維護(hù)控制部76。判斷部75也是上述噴射檢查部5的一部分。判斷部75基于其判斷結(jié)果來(lái)控制維護(hù)控制部76及顯示器等報(bào)知部78。
[0063]在圖1及圖2所示的基板處理裝置I對(duì)基板9進(jìn)行處理時(shí)，首先，開(kāi)放能夠開(kāi)閉腔室6的遮光門(mén)(省略圖示)，并將基板9搬入腔室6內(nèi)，由基板保持部21保持該基板9。在搬入基板9時(shí)，噴射頭31如在圖2中用雙點(diǎn)劃線表示那樣，在配置在杯部22的外側(cè)的頭待機(jī)部4上待機(jī)。若由基板保持部21保持了基板9，則關(guān)閉上述遮光門(mén)。然后，由處理控制部71驅(qū)動(dòng)基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23，使基板9開(kāi)始旋轉(zhuǎn)。
[0064]接著，由處理控制部71驅(qū)動(dòng)供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)35的頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)353及頭升降機(jī)構(gòu)354，噴射頭31及保護(hù)液供給部36從頭待機(jī)部4上上升后旋轉(zhuǎn)，在移動(dòng)至杯部22的上方之后下降。由此，噴射頭31及保護(hù)液供給部36經(jīng)由杯部22的上部開(kāi)口 220而移動(dòng)至位于杯部22的內(nèi)側(cè)且位于基板保持部21的上方的位置。接著，開(kāi)始從保護(hù)液供給部36向基板9上供給保護(hù)液，由此形成覆蓋基板9的上表面91的一部分的保護(hù)液膜。另外，開(kāi)始從噴射頭31的多個(gè)噴射口 314 (參照?qǐng)D3)向形成有保護(hù)液膜的基板9的上表面91噴射處理液(SP，噴射微小液滴)。保護(hù)液膜覆蓋來(lái)自多個(gè)噴射口 314的處理液在基板9上的多個(gè)設(shè)計(jì)液體著落點(diǎn)(即，微小液滴的液滴著落點(diǎn))。
[0065]從噴射頭31向保護(hù)液膜噴射的多數(shù)的微小液滴碰撞到基板9的上表面91上的保護(hù)液膜，隔著保護(hù)液膜而間接地碰撞到基板9的上表面91上。并且，粘附在基板9的上表面91上的顆粒等異物，受到因處理液的微小液滴的碰撞而產(chǎn)生的沖擊，從而從基板9上被除去。換句話講，通過(guò)由處理液的微小液滴隔著保護(hù)液膜而間接賦予基板9的動(dòng)能，對(duì)基板9的上表面91進(jìn)行清洗處理。
[0066]這樣，通過(guò)使處理液的微小液滴隔著保護(hù)液膜碰撞基板9，與微小液滴直接碰撞基板的情況相比，能夠在防止或抑制對(duì)形成在基板9的上表面91上的圖案等帶來(lái)?yè)p傷的同時(shí)進(jìn)行基板9的清洗處理。另外，由于基板9上的進(jìn)行清洗處理的部位被保護(hù)液覆蓋，因而能夠防止或抑制從基板9上除去的顆粒等再次粘附到基板9的上表面91上。
[0067]在基板處理裝置I中，與保護(hù)液及處理液的噴射并行地，由頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)353使噴射頭31及保護(hù)液供給部36轉(zhuǎn)動(dòng)。噴射頭31及保護(hù)液供給部36在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中的基板9的中央部的上方和基板9的外緣部的上方之間，反復(fù)進(jìn)行水平的往返移動(dòng)。由此，對(duì)基板9的上表面91整體進(jìn)行清洗處理。供給到基板9的上表面91上的保護(hù)液及處理液，因基板9的旋轉(zhuǎn)，而從基板9的邊緣向外側(cè)飛散。從基板9飛散的保護(hù)液及處理液被杯部22接收后廢棄或回收。
[0068]若通過(guò)來(lái)自噴射頭31的處理液進(jìn)行的規(guī)定處理(即，基板9的清洗處理)結(jié)束，則停止噴射保護(hù)液及處理液。由頭升降機(jī)構(gòu)354使噴射頭31及保護(hù)液供給部36上升至杯部22的上部開(kāi)口 220的上側(cè)。然后，由頭旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)353使噴射頭31及保護(hù)液供給部36從基板保持部21及基板9的上方移動(dòng)至頭待機(jī)部4的上方。
[0069]圖6是放大示出了頭待機(jī)部4及噴射檢查部5的俯視圖。圖7是放大示出了頭待機(jī)部4的上部附近的立體圖。頭待機(jī)部4具有待機(jī)艙41和維護(hù)部42。待機(jī)艙41是配置在杯部22的外側(cè)的大致呈長(zhǎng)方體狀的容器，能夠在內(nèi)部貯存液體。具體地，在配置在待機(jī)艙41的內(nèi)部空間40的貯存槽44內(nèi)貯存液體。待機(jī)艙41的內(nèi)部空間40的上部被蓋部43覆蓋。在蓋部43上設(shè)有分別與噴射頭31及保護(hù)液供給部36相對(duì)應(yīng)的第一開(kāi)口 431及第二開(kāi)口 432。在圖6中用雙點(diǎn)劃線表示位于待機(jī)艙41上的噴射頭31及保護(hù)液供給部36。貯存槽44位于第一開(kāi)口 431的下方。維護(hù)部42安裝在待機(jī)艙41內(nèi)的貯存槽44的側(cè)面，在維護(hù)噴射頭31時(shí)使用。維護(hù)部42是使貯存在貯存槽44內(nèi)的液體發(fā)生振動(dòng)的振動(dòng)賦予部。例如使用超聲波振子來(lái)作為維護(hù)部42。
[0070]在圖7中，噴射頭31的噴射面311從待機(jī)艙41的蓋部43向上方與該蓋部43分開(kāi)。在噴射頭31位于圖7所示的位置上的狀態(tài)下，對(duì)后述的噴射頭31的噴射動(dòng)作進(jìn)行檢查。例如，在對(duì)新一批基板9開(kāi)始處理之前，檢查噴射頭31。在下面的說(shuō)明中，將圖7所示的噴射頭31的位置稱為“檢查位置”。
[0071]如圖6所示，噴射檢查部5具有光出射部51、拍攝部52、光出射部清掃部53及拍攝部清掃部54。如圖7所示，光出射部51及拍攝部52避開(kāi)位于檢查位置的噴射頭31的正下方，而配置在噴射頭31的斜下方。在圖7中省略了光出射部清掃部53及拍攝部清掃部54的圖示。
[0072]如圖6及圖7所示，光出射部51具有光出射部主體511和光出射部罩512。光出射部罩512包圍光出射部主體511的周?chē)?，在?nèi)部容置光出射部主體511。換句話講，光出射部主體511被光出射部罩512覆蓋。光出射部罩512由具有透光性的材料(例如，透明的聚氯乙烯)形成。光出射部主體511具有光源以及將來(lái)自該光源的光轉(zhuǎn)換為在大致的水平方向上延伸的線狀光的光學(xué)系統(tǒng)。例如，利用激光二極管或LED (light emitting d1de:發(fā)光二極管)兀件，作為光源。
[0073]光出射部主體511沿作為預(yù)先規(guī)定的假想面的光存在面，向位于檢查位置的噴射頭31的下方出射光。經(jīng)由光出射部罩512出射來(lái)自光出射部主體511的光。在圖7中，用單點(diǎn)劃線描繪了光出射部主體511的光軸J1，用標(biāo)注了附圖標(biāo)記510的雙點(diǎn)劃線表示從光出射部主體511出射的面狀的光的輪廓。來(lái)自光出射部51的面狀光510通過(guò)了噴射頭31的噴射面311和待機(jī)艙41的蓋部43之間的間隙。換句話講，上述的光存在面通過(guò)了位于檢查位置的噴射頭31的下端和待機(jī)艙41的上端之間的間隙。
[0074]在基板處理裝置I中，從位于檢查位置上的噴射頭31的多個(gè)噴射口 314 (參照?qǐng)D3)向待機(jī)艙41的第一開(kāi)口 431,與向基板9上噴射的情況同樣地噴射處理液。然后,在從多個(gè)噴射口 314噴射出的處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)上述光存在面(即，通過(guò)面狀光510)時(shí)，從光出射部51向該多個(gè)飛濺體照射光。面狀光510與來(lái)自噴射頭31的處理液的設(shè)計(jì)噴射方向(即，多個(gè)飛濺體的預(yù)先規(guī)定的規(guī)定噴射方向)大致垂直。嚴(yán)謹(jǐn)?shù)刂v，優(yōu)選使面狀光510(即，光存在面)相對(duì)于與多個(gè)飛濺體的規(guī)定噴射方向相垂直的平面而傾斜微小角度(例如，5度?10度)。由此，能夠在多個(gè)飛濺體上產(chǎn)生更加明亮的亮點(diǎn)(后述)。
[0075]如圖6及圖7所示，拍攝部52具有拍攝部主體521和拍攝部罩522。拍攝部罩522包圍拍攝部主體521的周?chē)?，在?nèi)部容置拍攝部主體521。換句話講，拍攝部主體521被拍攝部罩522覆蓋。拍攝部罩522由具有透光性的材料(例如，透明的聚氯乙烯)形成。拍攝部主體521以使拍攝軸J2面向位于噴射頭31的下方的面狀光510的方式配置在上述光存在面的下方。拍攝部主體521的拍攝方向(即，拍攝軸J2面向的方向)相對(duì)于與多個(gè)飛濺體的規(guī)定的噴射方向相垂直的平面而傾斜。例如，利用CO) (charge-coupled device:電荷耦合裝置)攝像頭，作為拍攝部主體521。拍攝部52經(jīng)由拍攝部罩522拍攝通過(guò)面狀光510的處理液(即，多個(gè)飛濺體)，由此獲取包含有在該多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的檢查圖像。在噴射檢查部5中，從拍攝部52的拍攝結(jié)果中，提取一幀的靜止圖像作為檢查圖像。
[0076]圖8是與圖6同樣地放大不出了頭待機(jī)部4及噴射檢查部5的俯視圖。標(biāo)注有附圖標(biāo)記J4的單點(diǎn)劃線是投影拍攝軸，該投影拍攝軸，是通過(guò)使拍攝部52的拍攝軸J2(參照?qǐng)D7)在與來(lái)自噴射頭31的處理液的設(shè)計(jì)噴射方向相垂直的投影面(即，水平面)上沿該噴射方向投影而得到的。標(biāo)注有附圖標(biāo)記J3的單點(diǎn)劃線是投影光軸，該投影光軸，是通過(guò)使光出射部51的光軸Jl在該投影面上沿噴射方向投影而得到的。投影拍攝軸J4和投影光軸J3具有交點(diǎn)Kl。投影拍攝軸J4上的交點(diǎn)Kl與拍攝部52之間的部位，和投影光軸J3上的交點(diǎn)Kl與光出射部51之間的部位，所形成的角度α大于90度。
[0077]圖6所示的光出射部清掃部53，配置在光出射部罩512的外表面上的面向位于檢查位置上的噴射頭31的前表面513 (B卩，光出射部51的光出射方向前側(cè)的面)的側(cè)方。從光出射部清掃部53向光出射部罩512的前表面513噴射氣體(例如，氮?dú)?。在光出射部罩512的前表面513上會(huì)粘附從噴射頭31向基板9噴射的處理液、從保護(hù)液供給部36向基板9噴射的保護(hù)液或者在基板處理裝置I中使用的其他液體的飛沫及霧氣等。利用從光出射部清掃部53噴射的氣體來(lái)除去粘附在光出射部罩512的前表面513上的飛沫及霧氣等，由此清掃光出射部罩512的前表面513。
[0078]拍攝部清掃部54配置在拍攝部罩522的外表面中的面向位于檢查位置上的噴射頭31的前表面523 (即，拍攝部罩522的拍攝方向前側(cè)的面)的側(cè)方。從拍攝部清掃部54向拍攝部罩522的前表面523噴射氣體(例如，氮?dú)?。在拍攝部罩522的前表面523上，與光出射部罩512同樣地，會(huì)粘附上述處理液及保護(hù)液或者在處理基板9時(shí)利用的其他液體的飛沫及霧氣等。利用從拍攝部清掃部54噴射的氣體來(lái)除去粘附在拍攝部罩522的前表面523上的飛沫及霧氣等，由此清掃拍攝部罩522的前表面523。
[0079]在基板處理裝置I中檢查噴射頭31的噴射動(dòng)作時(shí)，首先由檢查控制部72 (參照?qǐng)D5)通過(guò)控制處理液供給部3，來(lái)從位于圖7所示的待機(jī)艙41的上方的檢查位置上的噴射頭31向待機(jī)艙41的第一開(kāi)口 431噴射處理液。另外，由檢查控制部72通過(guò)控制光出射部51及拍攝部52，來(lái)如上述那樣獲取檢查圖像，該檢查圖像包含有在通過(guò)面狀光510的處理液即多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)。將檢查圖像發(fā)送至判斷部75。
[0080]在判斷部75中，基于來(lái)自拍攝部52的檢查圖像，判斷噴射頭31的多個(gè)噴射口 314(圖3參照)中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。例如，預(yù)先準(zhǔn)備包含從噴射頭31正常噴射的處理液上的多個(gè)亮點(diǎn)的基準(zhǔn)圖像，將該基準(zhǔn)圖像和檢查圖像進(jìn)行比較，由此進(jìn)行判斷部75的判斷。在與基準(zhǔn)圖像上的亮點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的亮點(diǎn)在檢查圖像上不存在的情況下或者相對(duì)應(yīng)的亮點(diǎn)的位置大幅偏離的情況下，判斷部75判斷為與檢查圖像上的該亮點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的噴射口 314的處理液的噴射發(fā)生了異常。噴射動(dòng)作的異常(即，噴射不良)例如是指，從噴射口314不能?chē)娚涮幚硪旱牟粐娚?現(xiàn)象)以及來(lái)自噴射口 314的液滴與規(guī)定的噴射方向偏離地噴射的傾斜噴射(現(xiàn)象)。此外，判斷部75對(duì)噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好進(jìn)行的判斷，也可以通過(guò)除了比較基準(zhǔn)圖像和檢查圖像的方法以外的各種方法來(lái)進(jìn)行。
[0081]在由判斷部75檢測(cè)出噴射頭31的噴射動(dòng)作的不良的情況下，由維護(hù)控制部76對(duì)供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)35的頭升降機(jī)構(gòu)354進(jìn)行控制，由此使噴射頭31從檢查位置下降。然后，噴射頭31的下端部經(jīng)由蓋部43的第一開(kāi)口 431插入至待機(jī)艙41，如圖9所示，容置到待機(jī)艙41內(nèi)。第一開(kāi)口 431是用于插入噴射頭31的下端部的插入口。在圖9中，為了使圖容易理解，將待機(jī)艙41的外壁等表示為剖面。
[0082]噴射頭31的下端部，在待機(jī)艙41內(nèi)被浸潰到貯存在貯存槽44內(nèi)的液體419 (下面，稱為“浸潰液419”沖。例如，從噴射頭31的噴射面311開(kāi)始到大約向上5mm的部位為止都浸潰到浸潰液419中。在下面的說(shuō)明中，將圖9所示的噴射頭31的位置稱為“待機(jī)位置”。待機(jī)位置上的噴射頭31的上下方向上的位置，即噴射頭31的噴射面311浸潰在浸潰液419中的狀態(tài)下的噴射頭31的上下方向上的位置，與向基板9噴射處理液時(shí)的噴射頭31的上下方向上的位置相同(等高)。
[0083]在噴射頭31從檢查位置向待機(jī)位置下降時(shí)，保護(hù)液供給部36也與噴射頭31 —起下降。保護(hù)液供給部36經(jīng)由圖6所示的蓋部43的第二開(kāi)口 432而插入待機(jī)艙41進(jìn)而被容置在待機(jī)艙41內(nèi)。在待機(jī)艙41內(nèi)，容置噴射頭31的下端部的空間和容置保護(hù)液供給部36的空間被隔壁411隔離。在容置保護(hù)液供給部36的空間內(nèi)沒(méi)有貯存液體。
[0084]在噴射頭31位于待機(jī)位置時(shí)，由維護(hù)控制部76(參照?qǐng)D5)通過(guò)控制維護(hù)部42，來(lái)使圖9所不的浸潰液419振動(dòng)。由此，對(duì)浸潰中浸潰液419中的噴射頭31的噴射面311等進(jìn)行清洗，從而消除噴射口 314的堵塞等。換句話講，由維護(hù)部42對(duì)噴射頭31進(jìn)行維護(hù)。在基板處理裝置I中，噴射頭31的待機(jī)位置也是對(duì)噴射頭31進(jìn)行維護(hù)的維護(hù)位置。
[0085]在由判斷部75判斷為噴射頭31的噴射動(dòng)作正常的情況下，也使噴射頭31從檢查位置下降至待機(jī)位置。然后，在噴射頭31的下端部浸潰在浸潰液419中的狀態(tài)下，使處理液供給部3待機(jī)。
[0086]在上面說(shuō)明的那樣，在基板處理裝置I中，噴射頭31配置在杯部22外側(cè)的待機(jī)艙41上方的檢查位置，從光出射部51向從噴射頭31噴射的處理液照射面狀光510。然后，由拍攝部52獲取包含有在處理液上出現(xiàn)的亮點(diǎn)的檢查圖像，并由判斷部75基于該檢查圖像來(lái)判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。
[0087]由此，與通過(guò)從噴射頭31向基板9上噴射處理液來(lái)檢查噴射動(dòng)作的情況相比，通過(guò)排除來(lái)自基板9上的反射光及碰撞到基板9上的處理液的飛沫及霧氣等的影響，能夠高精度地判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。特別地，在如半導(dǎo)體基板那樣反射率高的基板的上方檢查噴射動(dòng)作的情況下，從基板產(chǎn)生強(qiáng)烈的反射光，但在上述的基板處理裝置I中，能夠排除這樣的強(qiáng)烈的反射光入射至拍攝部52的可能性。另外，能夠與不使用噴射頭31的其他處理(例如，由基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23使基板9旋轉(zhuǎn)來(lái)除去基板9上的液體的干燥處理)并行地，檢查噴射頭31的噴射動(dòng)作。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置I的生產(chǎn)率。
[0088]如上所述，在基板處理裝置I中，能夠高精度地判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。因此，基板處理裝置I的結(jié)構(gòu)特別適合于如下的噴射頭的噴射動(dòng)作是否良好，該噴射頭是指，在檢查圖像中包含多個(gè)亮點(diǎn)而難以判斷噴射動(dòng)作是否良好的噴射頭，即，具有獨(dú)立噴射處理液的多個(gè)噴射口的噴射頭。
[0089]在基板處理裝置I中，上述的光存在面通過(guò)了位于檢查位置上的噴射頭31的下端和待機(jī)艙41的上端之間的間隙。由此，因面狀光510而出現(xiàn)在處理液上的亮點(diǎn)位于待機(jī)艙41的上方。因此,與該亮點(diǎn)位于待機(jī)艙41的內(nèi)部空間40內(nèi)的情況等相比，拍攝部52能夠更加容易地獲取檢查圖像。另外，能夠降低從噴射頭31向待機(jī)艙41內(nèi)噴射的處理液的飛沫及霧氣等的影響的同時(shí)獲取檢查圖像，因而能夠更加高精度地判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。進(jìn)而，通過(guò)用蓋部43覆蓋待機(jī)艙41的內(nèi)部空間40的上部，能夠進(jìn)一步降低向待機(jī)艙41內(nèi)噴射的處理液的飛沫及霧氣等的影響。其結(jié)果，能夠進(jìn)一步高精度地判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。
[0090]在噴射檢查部5中，光出射部主體511容置在光出射部罩512內(nèi)，拍攝部主體521容置在拍攝部罩522內(nèi)。由此，能夠防止在基板處理裝置I中使用的各種處理液粘附到光出射部主體511及拍攝部主體521上而帶來(lái)壞影響。
[0091 ] 另外，通過(guò)光出射部清掃部53清掃光出射部罩512的前表面513，能夠防止因粘附在光出射部51上的飛沫及霧氣等而對(duì)光照射帶來(lái)的壞影響。進(jìn)而，通過(guò)拍攝部清掃部54清掃拍攝部罩522的前表面523，能夠防止因粘附在拍攝部52上的飛沫及霧氣等而對(duì)拍攝帶來(lái)的壞影響。其結(jié)果，能夠進(jìn)一步更加高精度地判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。
[0092]在基板處理裝置I中，將噴射頭31、光出射部51及拍攝部52容置到內(nèi)部空間60的腔室6，是遮斷從外部向內(nèi)部空間60入射的光的遮光腔室。由此，能夠防止除了來(lái)自光出射部51的面狀光510以外的光在杯部22等上發(fā)生反射而被包含在檢查圖像中的情況。其結(jié)果，能夠容易地判別檢查圖像中的亮點(diǎn)，從而能夠進(jìn)一步高精度地判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。
[0093]在噴射檢查部5中，投影光軸J3和投影拍攝軸J4之間的角度α大于90度。因此，能夠由拍攝部52的拍攝部主體521更加充分地獲取來(lái)自被面狀光510照射的處理液的向前散射光。由此，檢查圖像上的亮點(diǎn)變得更亮，從而能夠容易地提取亮點(diǎn)。其結(jié)果，能夠更加高精度地判斷噴射頭31的噴射動(dòng)作是否良好。
[0094]如上所述，在基板處理裝置I中，在檢測(cè)出噴射頭31的噴射動(dòng)作的不良的情況下，在噴射頭31的下端部容置在待機(jī)艙41內(nèi)的狀態(tài)下，由維護(hù)部42進(jìn)行維護(hù)。由此，在檢測(cè)出噴射不良時(shí)，能夠迅速地對(duì)噴射頭31進(jìn)行維護(hù)。另外，能夠抑制在進(jìn)行維護(hù)時(shí)有可能產(chǎn)生的飛沫及霧氣等向待機(jī)艙41的外部飛散。進(jìn)而，在基板處理裝置I中，在待機(jī)艙41內(nèi)噴射頭31的下端部浸潰在浸潰液419中，并由維護(hù)部42使浸潰液419振動(dòng)，由此能夠高效地清洗噴射頭31。
[0095]能夠?qū)逄幚硌b置I進(jìn)行各種變更
[0096]例如，在光出射部51中，不需要一定出射面狀的光，也可以沿光存在面從光出射部51向前方出射以直線狀延伸的光，由此，利用該光通過(guò)多面鏡等光掃描單元來(lái)沿光存在面進(jìn)行掃描。由此，在從多個(gè)噴射口 314噴射的處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)光存在面時(shí)，向該多個(gè)飛濺體照射光。另外，光存在面也可以與來(lái)自噴射頭31的處理液的設(shè)計(jì)噴射方向相垂直，拍攝部52的拍攝方向也可以平行于與該設(shè)計(jì)噴射方向垂直的平面。光出射部51及拍攝部52也可以配置在除了位于檢查位置上的噴射頭31的斜下方以外的位置，例如也可以配置在噴射頭31的斜上方。
[0097]在噴射檢查部5中，也可以通過(guò)除了從光出射部清掃部53噴射氣體的方法以外的各種方法，來(lái)清掃光出射部罩512的前表面513。例如，光出射部清掃部也可以具有板狀橡膠等的擦拭部和使該擦拭部移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)，并通過(guò)利用擦拭部擦拭光出射部罩512的前表面513來(lái)清掃前表面513。清掃拍攝部罩522的前表面523的方法也可以采用除了從拍攝部清掃部54噴射氣體以外的各種方法。例如,如上述那樣可以利用擦拭部進(jìn)行擦拭來(lái)清掃拍攝部罩522的前表面523。
[0098]在噴射檢查部5中，不需一定設(shè)置光出射部罩512及拍攝部罩522。在不設(shè)置光出射部罩512的情況下，利用光出射部清掃部53清掃光出射部51的光出射方向前側(cè)的面即光出射部主體511的前表面。另外，在不設(shè)置拍攝部罩522的情況下，利用拍攝部清掃部54清掃拍攝部52的拍攝方向前側(cè)的面即拍攝部主體521的前表面。
[0099]在基板處理裝置I中，也可以將噴射頭31的壓電元件315用作維護(hù)噴射頭31的維護(hù)部。例如，通過(guò)在噴射頭31的下端部浸潰在浸潰液419中的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)壓電元件315來(lái)使浸潰液419振動(dòng)，由此清洗噴射頭31的下端部。另外，在基板處理裝置I中，在檢測(cè)出噴射頭31的噴射不良的情況下，也可以從判斷部75通過(guò)噴射檢查部5的報(bào)知部78來(lái)向工作人員通知發(fā)生噴射不良。進(jìn)而，也可以由工作人員將噴射頭31更換為新的噴射頭。
[0100]從噴射頭31噴射的處理液不需一定限定于液滴狀，也可以從噴射頭31噴射以液柱狀連續(xù)的處理液。基板處理裝置I的結(jié)構(gòu)也可以適用于具有設(shè)有一個(gè)噴射口的噴射頭的基板處理裝置。
[0101]基板處理裝置I也可以利用與除了清洗基板9的處理以外的各種處理。另外，基板處理裝置I除了利用于半導(dǎo)體基板以外，也可以利用于在液晶顯示裝置、等離子顯示器、FED (field emiss1n display:場(chǎng)發(fā)射顯示器)等的顯示裝置中使用的玻璃基板的處理?；蛘撸逄幚硌b置I也可以利用于光盤(pán)用基板、磁盤(pán)用基板、磁光盤(pán)用基板、掩模用基板、陶瓷基板及太陽(yáng)能電池用基板等的處理。
[0102]只要不相互產(chǎn)生矛盾，也可以適當(dāng)組合上述實(shí)施方式及各變形例的結(jié)構(gòu)。
[0103]對(duì)發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描寫(xiě)并進(jìn)行了說(shuō)明，但已述的說(shuō)明僅是例示而不用于限定。由此，只要不脫離本發(fā)明的范圍，則能夠?qū)嵤┒鄠€(gè)變形及方式。
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理裝置，用于處理基板，其特征在于，包括: 基板保持部，其用于保持基板； 杯部，其包圍所述基板保持部的周?chē)? 噴射頭，其在所述杯部的內(nèi)側(cè)，配置在所述基板保持部的上方，用于向所述基板噴射處理液； 待機(jī)艙，其配置在所述杯部的外側(cè)，用于在所述噴射頭待機(jī)時(shí)容置所述噴射頭的下端部; 供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于將所述噴射頭從所述基板保持部的上方移動(dòng)至所述待機(jī)艙的上方的檢查位置； 光出射部，其通過(guò)沿預(yù)先規(guī)定的光存在面而出射光，在從位于所述檢查位置的所述噴射頭向所述待機(jī)艙噴射的處理液通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述處理液照射光； 拍攝部，其對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述處理液進(jìn)行拍攝，從而獲取包含有在所述處理液上出現(xiàn)的亮點(diǎn)的檢查圖像； 判斷部，其基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述噴射頭的噴射動(dòng)作是否良好。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述光存在面，通過(guò)位于所述檢查位置的所述噴射頭的下端和所述待機(jī)艙的上端之間的間隙。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有拍攝部清掃部，該拍攝部清掃部用于清掃所述拍攝部的拍攝方向前側(cè)的面。
4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有光出射部清掃部，該光出射部清掃部用于清掃所述光出射部的光出射方向前側(cè)的面。
5.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于， 投影拍攝軸和投影光軸具有交點(diǎn)，所述投影拍攝軸是使所述拍攝部的拍攝軸在與來(lái)自所述噴射頭的處理液的噴射方向相垂直的投影面上沿所述噴射方向投影而得到的，所述投影光軸是使所述光出射部的光軸在所述投影面上沿所述噴射方向投影而得到的； 第一部位和第二部位所形成的角度大于90度，所述第一部位是指在所述投影拍攝軸上的所述交點(diǎn)與所述拍攝部之間的部位，所述第二部位是指在所述投影光軸上的所述交點(diǎn)與所述光出射部之間的部位。
6.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有遮光腔室，其內(nèi)部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內(nèi)部空間入射的光。
7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個(gè)噴射口 ； 所述光出射部，在從所述多個(gè)噴射口噴射的所述處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述多個(gè)飛濺體照射光； 所述拍攝部，對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述多個(gè)飛濺體進(jìn)行拍攝，獲取包含有在所述多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的所述檢查圖像； 所述判斷部，基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述多個(gè)噴射口中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。
8.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有拍攝部清掃部，該拍攝部清掃部用于清掃所述拍攝部的拍攝方向前側(cè)的面。
9.如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有光出射部清掃部，該光出射部清掃部用于清掃所述光出射部的光出射方向前側(cè)的面。
10.如權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于， 投影拍攝軸和投影光軸具有交點(diǎn)，所述投影拍攝軸是使所述拍攝部的拍攝軸在與來(lái)自所述噴射頭的處理液的噴射方向相垂直的投影面上沿所述噴射方向投影而得到的，所述投影光軸是使所述光出射部的光軸在所述投影面上沿所述噴射方向投影而得到的； 第一部位和第二部位所形成的角度大于90度，所述第一部位是指在所述投影拍攝軸上的所述交點(diǎn)與所述拍攝部之間的部位，所述第二部位是指在所述投影光軸上的所述交點(diǎn)與所述光出射部之間的部位。
11.如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有遮光腔室，其內(nèi)部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內(nèi)部空間入射的光。
12.如權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個(gè)噴射口 ； 所述光出射部，在從所述多個(gè)噴射口噴射的所述處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述多個(gè)飛濺體照射光； 所述拍攝部，對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述多個(gè)飛濺體進(jìn)行拍攝，獲取包含有在所述多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的所述檢查圖像； 所述判斷部，基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述多個(gè)噴射口中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。
13.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有光出射部清掃部，該光出射部清掃部用于清掃所述光出射部的光出射方向前側(cè)的面。
14.如權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于， 投影拍攝軸和投影光軸具有交點(diǎn)，所述投影拍攝軸是使所述拍攝部的拍攝軸在與來(lái)自所述噴射頭的處理液的噴射方向相垂直的投影面上沿所述噴射方向投影而得到的，所述投影光軸是使所述光出射部的光軸在所述投影面上沿所述噴射方向投影而得到的； 第一部位和第二部位所形成的角度大于90度，所述第一部位是指在所述投影拍攝軸上的所述交點(diǎn)與所述拍攝部之間的部位，所述第二部位是指在所述投影光軸上的所述交點(diǎn)與所述光出射部之間的部位。
15.如權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有遮光腔室，其內(nèi)部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內(nèi)部空間入射的光。
16.如權(quán)利要求15所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個(gè)噴射口 ；所述光出射部，在從所述多個(gè)噴射口噴射的所述處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述多個(gè)飛濺體照射光； 所述拍攝部，對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述多個(gè)飛濺體進(jìn)行拍攝，獲取包含有在所述多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的所述檢查圖像； 所述判斷部，基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述多個(gè)噴射口中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。
17.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 投影拍攝軸和投影光軸具有交點(diǎn)，所述投影拍攝軸是使所述拍攝部的拍攝軸在與來(lái)自所述噴射頭的處理液的噴射方向相垂直的投影面上沿所述噴射方向投影而得到的，所述投影光軸是使所述光出射部的光軸在所述投影面上沿所述噴射方向投影而得到的； 第一部位和第二部位所形成的角度大于90度，所述第一部位是指在所述投影拍攝軸上的所述交點(diǎn)與所述拍攝部之間的部位，所述第二部位是指在所述投影光軸上的所述交點(diǎn)與所述光出射部之間的部位。
18.如權(quán)利要求17所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有遮光腔室，其內(nèi)部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內(nèi)部空間入射的光。
19.如權(quán)利要求18所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個(gè)噴射口 ； 所述光出射部，在從所述多個(gè)噴射口噴射的所述處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述多個(gè)飛濺體照射光； 所述拍攝部，對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述多個(gè)飛濺體進(jìn)行拍攝，獲取包含有在所述多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的所述檢查圖像； 所述判斷部，基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述多個(gè)噴射口中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。
20.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有遮光腔室，其內(nèi)部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內(nèi)部空間入射的光。
21.如權(quán)利要求20所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個(gè)噴射口 ； 所述光出射部，在從所述多個(gè)噴射口噴射的所述處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述多個(gè)飛濺體照射光； 所述拍攝部，對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述多個(gè)飛濺體進(jìn)行拍攝，獲取包含有在所述多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的所述檢查圖像； 所述判斷部，基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述多個(gè)噴射口中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。
22.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個(gè)噴射口 ； 所述光出射部，在從所述多個(gè)噴射口噴射的所述處理液即多個(gè)飛濺體通過(guò)所述光存在面時(shí)，向所述多個(gè)飛濺體照射光；所述拍攝部，對(duì)通過(guò)所述光存在面的所述多個(gè)飛濺體進(jìn)行拍攝，獲取包含有在所述多個(gè)飛濺體上出現(xiàn)的多個(gè)亮點(diǎn)的所述檢查圖像； 所述判斷部，基于所述檢查圖像來(lái)判斷所述多個(gè)噴射口中的各噴射口的噴射動(dòng)作是否良好。
23.如權(quán)利要求1至22中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有: 維護(hù)部，其對(duì)所述噴射頭進(jìn)行維護(hù)； 維護(hù)控制部，其在由所述判斷部檢測(cè)出所述噴射頭的噴射動(dòng)作不良的情況下，通過(guò)對(duì)所述供給部移動(dòng)機(jī)構(gòu)及所述維護(hù)部進(jìn)行控制，在使所述噴射頭從所述檢查位置下降從而將所述噴射頭的所述下端部容置到所述待機(jī)艙內(nèi)的狀態(tài)下，對(duì)所述噴射頭進(jìn)行維護(hù)。
24.如權(quán)利要求23所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述維護(hù)部，是使貯存在所述待機(jī)艙內(nèi)的浸潰液發(fā)生振動(dòng)的振動(dòng)賦予部； 在檢測(cè)出所述噴射頭的噴射動(dòng)作不良的情況下，在所述待機(jī)艙內(nèi)，所述噴射頭的所述下端部浸潰到所述待機(jī)艙內(nèi)的所述浸潰液中，由所述振動(dòng)賦予部通過(guò)使所述浸潰液振動(dòng)來(lái)對(duì)所述噴射頭進(jìn) 行清洗。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK104051302SQ201410092445
【公開(kāi)日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年3月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月13日
【發(fā)明者】佐藤雅伸, 屋敷啟之 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)屏制造株式會(huì)社