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一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜的制作方法

文檔序號:10614307閱讀:683來源:國知局
一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,包括中間薄膜基質(zhì)、第一金屬鍍層、第二金屬鍍層、第一薄膜介質(zhì)和第二薄膜介質(zhì);所述中間薄膜基質(zhì)、所述第一金屬鍍層和所述第二金屬鍍層均為聚烯烴材料制成,所述第一金屬鍍層和所述第二金屬鍍層為鋁、或鋅、或鋁和鋅的混合物;所述中間薄膜基質(zhì)的一面包括第一金屬蒸鍍區(qū)和第一留邊區(qū),所述中間薄膜基質(zhì)的另一面包括第二金屬蒸鍍區(qū)和第二留邊區(qū);所述第一金屬蒸鍍區(qū)和所述第二留邊區(qū)位于所述中間薄膜基質(zhì)寬度方向上的一端,所述第二金屬蒸鍍區(qū)和所述第一留邊區(qū)位于所述中間薄膜基質(zhì)寬度方向上的另一端。本發(fā)明絕緣基質(zhì)薄膜的用量增加了50%,但顯著地降低了制備工藝的要求。
【專利說明】
一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,屬于薄膜電容器產(chǎn)品制造技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中的電容器薄膜大多為復合鋅鋁金屬化薄膜,具體地是“鋁-鋅-鋁”的三層復合鍍層結(jié)構(gòu);這是由于金屬鋁鍍層相對于高分子薄膜材料具有較好的附著性能,且生產(chǎn)過程易于處理,但是金屬鋁鍍層在空氣中容易被氧化而形成以三氧化二鋁為主要成份的致密氧化層,該致密氧化層在交流高壓大電流下工作時會導致電容器的容量迅速下降;而金屬鋅鍍層相對于高分子薄膜材料的附著性能較差,但是在金屬鋁鍍層外再蒸鍍一層金屬鋅鍍層能夠很好地防止內(nèi)層鍍鋁層形成氧化層,從而不會發(fā)生電容器的容量迅速下降的情況;而最外層的金屬鋁鍍層則主要用于形成致密氧化層以阻止進一步氧化的發(fā)生,從而保護內(nèi)層的金屬鋅鍍層和金屬鋁鍍層。
[0003]上述“鋁-鋅-鋁”三層復合鍍層結(jié)構(gòu)的電容器金屬化薄膜在制備工藝上要求較高,生產(chǎn)加工難度大且產(chǎn)品合格率低,生產(chǎn)加工設(shè)備投入成本高且維護難度大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明正是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,提供一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,能夠降低電容器金屬化薄膜在制備工藝上的要求,滿足實際使用要求。
[0005]為解決上述問題,本發(fā)明所采取的技術(shù)方案如下:
一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,包括具有絕緣性質(zhì)的中間薄膜基質(zhì),和分別蒸鍍于所述中間薄膜基質(zhì)兩面的第一金屬鍍層和第二金屬鍍層,所述第一金屬鍍層的一面貼設(shè)于所述中間薄膜基質(zhì)上,所述第一金屬鍍層的另一面設(shè)置有具有絕緣性質(zhì)的第一薄膜介質(zhì),所述第二金屬鍍層的一面貼設(shè)于所述中間薄膜基質(zhì)上,所述第二金屬鍍層的另一面設(shè)置有具有絕緣性質(zhì)的第二薄膜介質(zhì);所述中間薄膜基質(zhì)、所述第一薄膜介質(zhì)和所述第二薄膜介質(zhì)均為聚烯烴材料制成,所述第一金屬鍍層和所述第二金屬鍍層為鋁、或鋅、或鋁和鋅的混合物;
所述中間薄膜基質(zhì)包括結(jié)構(gòu)重復延伸的長度方向和垂直于所述長度方向的寬度方向,所述中間薄膜基質(zhì)的一面包括用于蒸鍍所述第一金屬鍍層的第一金屬蒸鍍區(qū)和不蒸鍍金屬鍍層的第一留邊區(qū),所述中間薄膜基質(zhì)的另一面包括用于蒸鍍所述第二金屬鍍層的第二金屬蒸鍍區(qū)和不蒸鍍金屬鍍層的第二留邊區(qū);所述第一金屬蒸鍍區(qū)和所述第二留邊區(qū)位于所述中間薄膜基質(zhì)寬度方向上的一端,所述第二金屬蒸鍍區(qū)和所述第一留邊區(qū)位于所述中間薄膜基質(zhì)寬度方向上的另一端。
[0006]作為上述技術(shù)方案的改進,所述第一金屬蒸鍍區(qū)包括朝向所述第一留邊區(qū)一側(cè)的第一平直邊緣和背向所述第一留邊區(qū)一側(cè)的第一弧形邊緣,所述第二金屬蒸鍍區(qū)包括朝向所述第二留邊區(qū)一側(cè)的第二平直邊緣和背向所述第二留邊區(qū)一側(cè)的第二弧形邊緣。
[0007]作為上述技術(shù)方案的改進,所述第一金屬鍍層和所述第二金屬鍍層為鋁和鋅的混合物,且鋅在鋁和鋅的混合物中的質(zhì)量百分比為17%?22%。
[0008]作為上述技術(shù)方案的改進,所述第一金屬蒸鍍區(qū)和所述第二金屬蒸鍍區(qū)結(jié)構(gòu)相同均包括若干個矩陣排列的鍍層方塊,相鄰的所述鍍層方塊之間設(shè)置有絕緣間隙,且相鄰的所述鍍層方塊在拐角相互連接;位于所述第一弧形邊緣和所述第二弧形邊緣處的所述鍍層方塊的邊為半圓弧形邊,且所述鍍層方塊用于連接所述半圓弧形邊的兩條直線邊分別相切于所述半圓弧形邊的兩個端點。
[0009]作為上述技術(shù)方案的改進,所述第一薄膜介質(zhì)和所述第二薄膜介質(zhì)在所述中間薄膜基質(zhì)的長度方向上均與所述中間薄膜基質(zhì)的兩端邊緣齊平;所述第一薄膜介質(zhì)和所述第二薄膜介質(zhì)在所述中間薄膜基質(zhì)寬度方向上的一端邊緣分別位于所述第一留邊區(qū)和所述第二留邊區(qū),所述第一薄膜介質(zhì)和所述第二薄膜介質(zhì)在所述中間薄膜基質(zhì)寬度方向上的另一端邊緣與所述半圓弧形邊的兩個端點齊平。
[0010]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比較,本發(fā)明的實施效果如下:
本發(fā)明所述的一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,通過在所述中間薄膜基質(zhì)兩面的蒸鍍所述第一金屬鍍層和所述第二金屬鍍層,并通過設(shè)置所述第一薄膜介質(zhì)和所述第二薄膜介質(zhì)來阻隔氧化性氣體與所述第一金屬鍍層和所述第二金屬鍍層的接觸,從而使得金屬鍍層在空氣中不易被氧化,且相對于常規(guī)的電容器金屬化薄膜,絕緣基質(zhì)薄膜的用量只增加了 50%,但顯著地降低了制備工藝的要求。
【附圖說明】
[0011]圖1為本發(fā)明所述的一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明所述的中間薄膜基質(zhì)和第一金屬鍍層的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面將結(jié)合具體的實施例來說明本發(fā)明的內(nèi)容。
[0013]如圖1至圖2所示,為本發(fā)明所述的一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]本發(fā)明所述一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,包括:具有絕緣性質(zhì)的中間薄膜基質(zhì)10,和分別蒸鍍于所述中間薄膜基質(zhì)10兩面的第一金屬鍍層20和第二金屬鍍層30,所述第一金屬鍍層20的一面貼設(shè)于所述中間薄膜基質(zhì)10上,所述第一金屬鍍層20的另一面設(shè)置有具有絕緣性質(zhì)的第一薄膜介質(zhì)40,所述第二金屬鍍層30的一面貼設(shè)于所述中間薄膜基質(zhì)10上,所述第二金屬鍍層30的另一面設(shè)置有具有絕緣性質(zhì)的第二薄膜介質(zhì)50;所述中間薄膜基質(zhì)10、所述第一薄膜介質(zhì)40和所述第二薄膜介質(zhì)50均為聚烯烴材料制成,所述第一金屬鍍層20和所述第二金屬鍍層30為鋁、或鋅、或鋁和鋅的混合物;所述中間薄膜基質(zhì)10包括結(jié)構(gòu)重復延伸的長度方向和垂直于所述長度方向的寬度方向,所述中間薄膜基質(zhì)10的一面包括用于蒸鍍所述第一金屬鍍層20的第一金屬蒸鍍區(qū)11和不蒸鍍金屬鍍層的第一留邊區(qū)12,所述中間薄膜基質(zhì)10的另一面包括用于蒸鍍所述第二金屬鍍層30的第二金屬蒸鍍區(qū)13和不蒸鍍金屬鍍層的第二留邊區(qū)14;所述第一金屬蒸鍍區(qū)11和所述第二留邊區(qū)14位于所述中間薄膜基質(zhì)10寬度方向上的一端,所述第二金屬蒸鍍區(qū)13和所述第一留邊區(qū)12位于所述中間薄膜基質(zhì)10寬度方向上的另一端。
[0015]進一步改進地,所述第一金屬蒸鍍區(qū)11包括朝向所述第一留邊區(qū)12—側(cè)的第一平直邊緣21和背向所述第一留邊區(qū)12—側(cè)的第一弧形邊緣22,所述第二金屬蒸鍍區(qū)13包括朝向所述第二留邊區(qū)14 一側(cè)的第二平直邊緣31和背向所述第二留邊區(qū)14 一側(cè)的第二弧形邊緣32。上述改進使金屬化薄膜在高電流狀態(tài)下穩(wěn)定,不易拉火、擊穿而損壞,設(shè)置所述第一留邊區(qū)12和所述第二留邊區(qū)14能夠進一步降低拉火、擊穿的幾率,降低了次品率,提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
[0016]進一步改進地,所述第一金屬鍍層20和所述第二金屬鍍層30為鋁和鋅的混合物,且鋅在鋁和鋅的混合物中的質(zhì)量百分比為17%?22%。雖然本發(fā)明設(shè)置了所述第一薄膜介質(zhì)40和所述第二薄膜介質(zhì)50,但是金屬鍍層長時間在交流高壓大電流下工作時仍舊存在緩慢的氧化現(xiàn)象,采用鋁和鋅的混合物可以避免生成以三氧化二鋁為主要成份的致密氧化層,而鋅在鋁和鋅的混合物中的質(zhì)量百分比過高時則會影響金屬鍍層的附著性能,鋅在鋁和鋅的混合物中的質(zhì)量百分比為17%?22%時金屬鍍層具有較好的附著性能且金屬鍍層的耐氧化性較好。
[0017]進一步改進地,所述第一金屬蒸鍍區(qū)11和所述第二金屬蒸鍍區(qū)13結(jié)構(gòu)相同均包括若干個矩陣排列的鍍層方塊23,相鄰的所述鍍層方塊23之間設(shè)置有絕緣間隙24,且相鄰的所述鍍層方塊23在拐角相互連接;位于所述第一弧形邊緣22和所述第二弧形邊緣32處的所述鍍層方塊23的邊為半圓弧形邊25,且所述鍍層方塊23用于連接所述半圓弧形邊25的兩條直線邊26分別相切于所述半圓弧形邊25的兩個端點。相鄰所述鍍層方塊23的拐角相互連接,當局部發(fā)生擊穿后,會熔斷所述鍍層方塊23的拐角,從而避免短路電流的擴散,降低了電容器的發(fā)熱量;且所述半圓弧形邊25的兩條直線邊26分別相切于所述半圓弧形邊25的兩個端點,因此在所述第一弧形邊緣22或所述第二弧形邊緣32處不存在尖銳的凸角,從而有利于降低金屬化薄膜發(fā)生拉火和擊穿的幾率,而且所述第一弧形邊緣22或所述第二弧形邊緣32能夠增大噴金層對金屬化薄膜的附著力。
[0018]進一步改進地,所述第一薄膜介質(zhì)40和所述第二薄膜介質(zhì)50在所述中間薄膜基質(zhì)10的長度方向上均與所述中間薄膜基質(zhì)10的兩端邊緣齊平;所述第一薄膜介質(zhì)40和所述第二薄膜介質(zhì)50在所述中間薄膜基質(zhì)10寬度方向上的一端邊緣分別位于所述第一留邊區(qū)12和所述第二留邊區(qū)14,所述第一薄膜介質(zhì)40和所述第二薄膜介質(zhì)50在所述中間薄膜基質(zhì)10寬度方向上的另一端邊緣與所述半圓弧形邊25的兩個端點齊平。所述結(jié)構(gòu)便于通過噴金和焊接引線使電容器金屬化薄膜接入電路中進行使用。
[0019]以上內(nèi)容是結(jié)合具體的實施例對本發(fā)明所作的詳細說明,不能認定本發(fā)明具體實施僅限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干簡單推演或替換,都應(yīng)當視為屬于本發(fā)明保護的范圍。
【主權(quán)項】
1.一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,其特征是,包括具有絕緣性質(zhì)的中間薄膜基質(zhì)(10),和分別蒸鍍于所述中間薄膜基質(zhì)(10)兩面的第一金屬鍍層(20)和第二金屬鍍層(30),所述第一金屬鍍層(20)的一面貼設(shè)于所述中間薄膜基質(zhì)(10)上,所述第一金屬鍍層(20)的另一面設(shè)置有具有絕緣性質(zhì)的第一薄膜介質(zhì)(40),所述第二金屬鍍層(30)的一面貼設(shè)于所述中間薄膜基質(zhì)(10)上,所述第二金屬鍍層(30)的另一面設(shè)置有具有絕緣性質(zhì)的第二薄膜介質(zhì)(50);所述中間薄膜基質(zhì)(10)、所述第一薄膜介質(zhì)(40)和所述第二薄膜介質(zhì)(50)均為聚烯烴材料制成,所述第一金屬鍍層(20)和所述第二金屬鍍層(30)為鋁、或鋅、或鋁和鋅的混合物; 所述中間薄膜基質(zhì)(10)包括結(jié)構(gòu)重復延伸的長度方向和垂直于所述長度方向的寬度方向,所述中間薄膜基質(zhì)(10)的一面包括用于蒸鍍所述第一金屬鍍層(20)的第一金屬蒸鍍區(qū)(11)和不蒸鍍金屬鍍層的第一留邊區(qū)(12),所述中間薄膜基質(zhì)(10)的另一面包括用于蒸鍍所述第二金屬鍍層(30)的第二金屬蒸鍍區(qū)(13)和不蒸鍍金屬鍍層的第二留邊區(qū)(14);所述第一金屬蒸鍍區(qū)(11)和所述第二留邊區(qū)(14)位于所述中間薄膜基質(zhì)(10)寬度方向上的一端,所述第二金屬蒸鍍區(qū)(13)和所述第一留邊區(qū)(12)位于所述中間薄膜基質(zhì)(10)寬度方向上的另一端。2.如權(quán)利要求1所述的一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,其特征是,所述第一金屬蒸鍍區(qū)(11)包括朝向所述第一留邊區(qū)(12)—側(cè)的第一平直邊緣(21)和背向所述第一留邊區(qū)(12)—側(cè)的第一弧形邊緣(22),所述第二金屬蒸鍍區(qū)(13)包括朝向所述第二留邊區(qū)(14)一側(cè)的第二平直邊緣(31)和背向所述第二留邊區(qū)(14) 一側(cè)的第二弧形邊緣(32)。3.如權(quán)利要求1或2所述的一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,其特征是,所述第一金屬鍍層(20)和所述第二金屬鍍層(30)為鋁和鋅的混合物,且鋅在鋁和鋅的混合物中的質(zhì)量百分比為17%?22%。4.如權(quán)利要求2所述的一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,其特征是,所述第一金屬蒸鍍區(qū)(11)和所述第二金屬蒸鍍區(qū)(13)結(jié)構(gòu)相同均包括若干個矩陣排列的鍍層方塊(23),相鄰的所述鍍層方塊(23)之間設(shè)置有絕緣間隙(24),且相鄰的所述鍍層方塊(23)在拐角相互連接;位于所述第一弧形邊緣(22)和所述第二弧形邊緣(32)處的所述鍍層方塊(23)的邊為半圓弧形邊(25),且所述鍍層方塊(23)用于連接所述半圓弧形邊(25)的兩條直線邊(26)分別相切于所述半圓弧形邊(25)的兩個端點。5.如權(quán)利要求4所述的一種耐高壓大電流電容器金屬化薄膜,其特征是,所述第一薄膜介質(zhì)(40)和所述第二薄膜介質(zhì)(50)在所述中間薄膜基質(zhì)(10)的長度方向上均與所述中間薄膜基質(zhì)(10)的兩端邊緣齊平;所述第一薄膜介質(zhì)(40)和所述第二薄膜介質(zhì)(50)在所述中間薄膜基質(zhì)(10)寬度方向上的一端邊緣分別位于所述第一留邊區(qū)(12)和所述第二留邊區(qū)(14),所述第一薄膜介質(zhì)(40)和所述第二薄膜介質(zhì)(50)在所述中間薄膜基質(zhì)(10)寬度方向上的另一端邊緣與所述半圓弧形邊(25)的兩個端點齊平。
【文檔編號】H01G4/008GK105977023SQ201610476637
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年6月27日
【發(fā)明人】徐湘華
【申請人】安徽賽福電子有限公司
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