一種薄膜及其修復方法、顯示基板及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示技術領域，公開了一種薄膜及其修復方法、顯示基板及其制作方法。所述薄膜成膜不均一，所述修復方法包括：首先確定一待修復區(qū)域，使所述不平整區(qū)域完全落入所述待修復區(qū)域內(nèi)，然后去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜，最后重新在所述待修復區(qū)域內(nèi)填充制作所述薄膜的材料，形成修復區(qū)域，且所述修復區(qū)域的薄膜的第一表面與位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū)域的薄膜的第二表面的高度差在預設范圍，提高成膜均一性，保證產(chǎn)品的顯示品質(zhì)。
【專利說明】
一種薄膜及其修復方法、顯示基板及其制作方法
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種薄膜及其修復方法、顯示基板及其制作方法?！颈尘凹夹g】
[0002]在顯示器件的制作過程，各顯示薄膜的制作質(zhì)量直接影響最終產(chǎn)品的顯示品質(zhì)。 當利用噴嘴通過噴墨打印工藝制備顯示薄膜時，會因為顆?；虿牧蠚埩舻仍蛟斐沙赡と毕荨?br>[0003]現(xiàn)有技術中，對于具有凹陷缺陷(圖1中的虛線框內(nèi))的薄膜1，一般會利用噴嘴進行修復作業(yè)，但是缺陷區(qū)域的薄膜體積一般小于5pL，而噴嘴的直徑為5um，最小噴墨體積在 10pL左右，修復后會導致凸起缺陷，如圖2中的虛線框內(nèi)所示，無法達到修復目的，使得成膜均一性較差。如果更換直徑小于5um的噴嘴，制作精度不容易實現(xiàn)，而且容易出現(xiàn)堵塞的問題從而頻繁導致宕機，影響生產(chǎn)產(chǎn)能。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供一種薄膜及其修復方法、顯示基板及其制作方法，用以提供一種薄膜修復方法，保證顯示基板上薄膜的均一性。
[0005]為解決上述技術問題，本發(fā)明實施例中提供一種薄膜的修復方法，所述薄膜設置在一基底上，所述薄膜具有不平整區(qū)域，所述不平整區(qū)域的薄膜遠離所述基底的表面為不平整面，所述修復方法包括:
[0006]確定一待修復區(qū)域，使所述不平整區(qū)域完全落入所述待修復區(qū)域內(nèi)；
[0007]去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜；[〇〇〇8]在所述待修復區(qū)域內(nèi)填充制作所述薄膜的材料，形成修復區(qū)域，且所述修復區(qū)域的薄膜的第一表面與位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū)域的薄膜的第二表面的高度差在預設范圍，所述高度差為所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距離。
[0009]本發(fā)明實施例中還提供一種顯示基板的制作方法，包括形成封裝薄膜的步驟，當所述封裝薄膜具有不平整區(qū)域時，采用如上所述的修復方法對所述封裝薄膜進行修復。
[0010]本發(fā)明實施例中還提供一種薄膜，所述薄膜包括修復區(qū)域和位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū)域，所述修復區(qū)域采用如上所述的修復方法制得。
[0011]本發(fā)明實施例中還提供一種顯示基板，包括封裝薄膜，所述封裝薄膜采用如上所述的薄膜。
[0012]本發(fā)明的上述技術方案的有益效果如下:[〇〇13]上述技術方案中，當薄膜成膜不均一時，首先確定一待修復區(qū)域，使所述不平整區(qū)域完全落入所述待修復區(qū)域內(nèi)，然后去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜，最后重新在所述待修復區(qū)域內(nèi)填充制作所述薄膜的材料，形成修復區(qū)域，且所述修復區(qū)域的薄膜的第一表面與位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū)域的薄膜的第二表面的高度差在預設范圍，提高成膜均一性，保證產(chǎn)品的顯示品質(zhì)?！靖綀D說明】
[0014]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0015]圖1表示薄膜的表面具有凹陷缺陷的結(jié)構示意圖；
[0016]圖2表示采用現(xiàn)有技術中的修復對圖1中的凹陷缺陷進行修復后的結(jié)構示意圖； [〇〇17]圖3表示本發(fā)明實施例中薄膜的修復方法流程圖；
[0018]圖4-圖6表示本發(fā)明實施例中對表面具有凹陷缺陷的薄膜的修復過程圖；
[0019]圖7-圖9表示本發(fā)明實施例中對表面具有凸起缺陷的薄膜的修復過程圖；
[0020]圖10表示本發(fā)明實施例中去除待修復區(qū)域的薄膜的過程圖；
[0021]圖11表示本發(fā)明實施例中在待修復區(qū)域填充制作薄膜的材料的過程圖；
[0022]圖12表示本發(fā)明實施例中顯示基板的結(jié)構示意圖?！揪唧w實施方式】[〇〇23]下面將結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。[〇〇24] 實施例一[〇〇25]在顯示器件的制備過程中，會出現(xiàn)薄膜成膜均一性差，降低產(chǎn)品的顯示品質(zhì)的技術問題。
[0026]為了解決上述技術問題，本實施例中提供一種薄膜的修復方法，用于對薄膜進行修復，提高薄膜的均一性。所述薄膜設置在一基底上，所述薄膜具有不平整區(qū)域，所述不平整區(qū)域的薄膜遠離所述基底的表面為不平整面。如圖3所示，所述修復方法包括:
[0027]確定一待修復區(qū)域，使所述不平整區(qū)域完全落入所述待修復區(qū)域內(nèi)；
[0028]去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜；
[0029]在所述待修復區(qū)域內(nèi)填充制作所述薄膜的材料，形成修復區(qū)域，且所述修復區(qū)域的薄膜的第一表面與位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū)域的薄膜的第二表面的高度差在預設范圍，所述高度差為所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距離。
[0030]通過上述修復方法對薄膜進行修復后，能夠有效改善薄膜表面的平整度。提高薄膜的均一性，保證產(chǎn)品的顯示品質(zhì)。
[0031]需要說明的是，除特別聲明外，本發(fā)明中薄膜的表面均為薄膜遠離基底的表面。所述不平整區(qū)域為表面為凹陷(如圖1所示)，表面為凸起(如圖7所示)，或兩者的結(jié)合，通過本發(fā)明的技術方案均可以實現(xiàn)修復。
[0032]結(jié)合圖4和圖7所示，本發(fā)明的薄膜修復方法首先確定一待修復區(qū)域100,使薄膜1 的不平整區(qū)域完全落入待修復區(qū)域100內(nèi)，該步驟的目的是保證后續(xù)在待修復區(qū)域100內(nèi)填充材料時，能夠達到修復目的，即，在待修復區(qū)域1〇〇內(nèi)填充材料形成的修復區(qū)域101，其與周邊區(qū)域的薄膜1的表面的高度差在預設范圍內(nèi)，有效改善薄膜的表面平整度，結(jié)合圖6和圖9所示。優(yōu)選的，修復區(qū)域101的薄膜1的厚度與位于修復區(qū)域101的周邊區(qū)域的薄膜1的厚度完全一致。由于修復區(qū)域101和所述周邊區(qū)域的薄膜由同一材料制得，且同層，因此用同一標記表不。
[0033]其中，待修復區(qū)域100的確定與后續(xù)工藝中填充設備的填充參數(shù)有關，所述填充設備用于在待修復區(qū)域1〇〇內(nèi)填充制作薄膜1的材料，形成修復區(qū)域1〇1(結(jié)合圖5和圖6所示)， 且修復區(qū)域101的薄膜1的第一表面與位于修復區(qū)域101外圍的周邊區(qū)域的薄膜1的第二表面的高度差在預設范圍。具體為:所述填充設備在單位時間內(nèi)填充的材料體積小于修復區(qū)域101的薄膜1的體積。
[0034]本實施例的所述填充設備為噴墨打印設備，利用噴嘴3在待修復區(qū)域100內(nèi)噴墨打印制作所述薄膜的材料，形成修復區(qū)域101，結(jié)合圖11和圖6所示。由于噴墨打印設備能夠在設定區(qū)域內(nèi)噴墨打印材料，缺省了構圖工藝，簡化了制作工藝。
[0035]進一步地，設置所述修復區(qū)域的薄膜的體積大于所述噴嘴在單位時間內(nèi)的最小噴墨體積，有效達到修復的目的。因為如果所述修復區(qū)域的薄膜的體積小于所述噴嘴在單位時間內(nèi)的最小噴墨體積，則，利用所述噴嘴在待修復區(qū)域棚膜打印材料形成修復區(qū)域時，所述修復區(qū)域的薄膜的第一表面大大高于周邊區(qū)域的表面的第二表面，形成凸起，不能夠達到修復的目的。
[0036]在所述待修復區(qū)域內(nèi)填充制作所述薄膜的材料之前，還需去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜，以去除表面不平整的表面。具體可以采用激光燒結(jié)工藝去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜。其中，激光燒結(jié)工藝是以激光為熱源對薄膜進行燒結(jié)的技術，由于激光的能量較高， 能夠?qū)芏嗖牧线M行燒結(jié)。而且激光光束集中和穿透能力小，適于對小面積、薄膜的燒結(jié)。
[0037]由于所述待修復區(qū)域的面積較大，為了僅對所述待修復區(qū)域的薄膜進行選擇性燒結(jié)，可選的，如圖10所示，采用激光燒結(jié)工藝去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜的步驟包括:
[0038]提供一遮擋2,遮擋板2上具有窗口，所述窗口與待修復區(qū)域100的位置對應，且所述窗口在基底10上的投影位于所述待修復區(qū)域在基底10上的投影內(nèi)；
[0039]激光束通過所述窗口掃描薄膜1，去除待修復區(qū)域100內(nèi)的薄膜。
[0040]遮擋板2能夠阻擋激光透過燒結(jié)其他區(qū)域的薄膜1。
[0041]上述步驟中，通過遮擋板限定激光的掃描范圍，從而實現(xiàn)選擇性燒結(jié)，控制對表面平整的薄膜的去除，縮短修復時間，提高產(chǎn)能。由于燒結(jié)的范圍大于激光束實際掃描的范圍，因此需要設置所述窗口在基底10上的投影位于所述待修復區(qū)域在基底10上的投影內(nèi)。
[0042]結(jié)合圖4-圖6、圖10和圖11所示，在一個具體的實施方式中，對具有不平整區(qū)域的薄膜進行修復的方法包括:
[0043]確定一待修復區(qū)域100,使所述不平整區(qū)域完全落入待修復區(qū)域100內(nèi)，如圖4所示；
[0044]采用激光燒結(jié)工藝去除待修復區(qū)域100的薄膜，結(jié)合圖5和圖10所示；
[0045]利用噴嘴3在待修復區(qū)域100內(nèi)填充制作所述薄膜的材料，形成修復區(qū)域101，結(jié)合圖6和圖11所示，且修復區(qū)域101的薄膜1的第一表面與位于修復區(qū)域101外圍的周邊區(qū)域的薄膜1的第二表面的高度差在預設范圍，所述高度差為所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距離。優(yōu)選的，修復區(qū)域101的薄膜1的第一表面與位于修復區(qū)域 101外圍的周邊區(qū)域的薄膜1的第二表面的高度差為零，修復區(qū)域101的薄膜1的厚度與所述周邊區(qū)域的薄膜1的厚度完全一致。
[0046]上述【具體實施方式】中，設置修復區(qū)域101的薄膜的體積大于噴嘴3在單位時間內(nèi)的最小噴墨體積，從而能夠有效達到修復的目的。進一步地，激光束透過一遮擋板2上的窗口掃描待修復區(qū)域1〇〇的薄膜，燒結(jié)待修復區(qū)域1〇〇內(nèi)的薄膜，以有效控制燒結(jié)區(qū)域。
[0047]結(jié)合圖6和圖9所示，本實施例中還提供一種薄膜1，薄膜1包括修復區(qū)域101和位于修復區(qū)域101外圍的周邊區(qū)域，修復區(qū)域101采用上述修復方法制得，且制得的修復區(qū)域101 的薄膜1的第一表面與周邊區(qū)域的薄膜1的第二表面的高度差在預設范圍，有效改善薄膜表面的平整度，提高薄膜的均一性，保證產(chǎn)品的顯示品質(zhì)。其中，所述高度差為所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距離。[〇〇48] 實施例二
[0049]基于同一發(fā)明構思，本實施例中提供一種顯示基板的制作方法，包括形成封裝薄膜的步驟，當所述封裝薄膜具有不平整區(qū)域時，采用實施例一中的修復方法對所述封裝薄膜進行修復，提高封裝薄膜的均一性，起到阻隔水氧作用，保護顯示基板上半導體器件的性能。
[0050]其中，形成封裝薄膜的步驟包括:[0051 ]利用噴墨打印工藝形成有機封裝薄膜；
[0052]具體為，當所述有機封裝薄膜具有不平整區(qū)域時，采用實施例一中的修復方法對所述有機封裝薄膜進行修復。[〇〇53]上述步驟中，對于有機封裝薄膜，通常通過噴墨打印工藝制得，容易出現(xiàn)表面不平整的缺陷，通過實施例一中的修復方法即可實現(xiàn)修復。有機封裝薄膜能夠提高顯示基板的柔性，適用于柔性基板。[〇〇54]在實際應用過程中，所述封裝薄膜還需包括無機封裝薄膜，其主要起到阻隔水氧的作用。本實施例中，形成封裝薄膜的步驟還包括:
[0055]形成第一無機封裝薄膜和第二無機封裝薄膜，所述有機封裝薄膜位于所述第一無機封裝薄膜和第二無機封裝薄膜之間。[〇〇56]通過上述步驟形成的封裝薄膜包括三明治結(jié)構的第一無機封裝薄膜、有機封裝薄膜和第二無機封裝薄膜，雙層無機封裝薄膜能夠提高阻隔水氧的效果。所述有機封裝薄膜位于所述第一無機封裝薄膜和第二無機封裝薄膜之間，能夠減薄每層無機封裝薄膜的厚度，增加無機封裝薄膜的柔性，進一步提高基板的柔性。[〇〇57]本實施例中還提供一種顯示基板，包括封裝薄膜，所述封裝薄膜采用實施例一中的薄膜，包括修復區(qū)域和位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū)域，所述修復區(qū)域采用實施例一中的修復方法制得，且制得的修復區(qū)域的封裝薄膜的第一表面與所述周邊區(qū)域的封裝薄膜的第二表面的高度差在預設范圍，有效改善封裝薄膜表面的平整度，提高封裝薄膜的均一性，保證產(chǎn)品的顯示品質(zhì)。其中，所述高度差為所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距離。封裝薄膜的表面為遠離顯示基板的基底10的表面。
[0058]對于柔性顯示基板，如圖12所示，所述封裝薄膜包括由有機材料制得的有機封裝薄膜1;具體為有機封裝薄膜1采用實施例一中的薄膜，保證了有機封裝薄膜1的均一性。 [〇〇59]為了保證顯示基板上的半導體器件13的性能，所述封裝薄膜還包括由無機材料制得的無機封裝薄膜，用于阻隔環(huán)境中的水氧。可選的，所述無機封裝薄膜包括第一無機封裝薄膜11和第二無機封裝薄膜12,有機封裝薄膜1位于第一無機封裝薄膜11和第二無機封裝薄膜12之間，進一步增加顯示基板的柔性。
[0060]所述顯示基板可以為液晶顯示基板、0LED顯示基板或其他類型的顯示基板。
[0061]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種薄膜的修復方法，所述薄膜設置在一基底上，所述薄膜具有不平整區(qū)域，所述不 平整區(qū)域的薄膜遠離所述基底的表面為不平整面，其特征在于，所述修復方法包括:確定一待修復區(qū)域，使所述不平整區(qū)域完全落入所述待修復區(qū)域內(nèi)；去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜；在所述待修復區(qū)域內(nèi)填充制作所述薄膜的材料，形成修復區(qū)域，且所述修復區(qū)域的薄 膜的第一表面與位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū)域的薄膜的第二表面的高度差在預設范 圍，所述高度差為所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距離。2.根據(jù)權利要求1所述的修復方法，其特征在于，利用噴嘴在所述待修復區(qū)域內(nèi)噴墨打 印制作所述薄膜的材料，形成所述修復區(qū)域。3.根據(jù)權利要求2所述的修復方法，其特征在于，所述修復區(qū)域的薄膜的體積大于所述 噴嘴在單位時間內(nèi)的最小噴墨體積。4.根據(jù)權利要求1所述的修復方法，其特征在于，采用激光燒結(jié)工藝去除所述待修復區(qū) 域內(nèi)的薄膜。5.根據(jù)權利要求4所述的修復方法，其特征在于，采用激光燒結(jié)工藝去除所述待修復區(qū) 域內(nèi)的薄膜的步驟包括:提供一遮擋板，所述遮擋板上具有窗口，所述窗口與所述待修復區(qū)域的位置對應，且所 述窗口在所述基底上的投影位于所述待修復區(qū)域在所述基底上的投影內(nèi)；激光束通過所述窗口掃描所述薄膜，去除所述待修復區(qū)域內(nèi)的薄膜。6.根據(jù)權利要求1所述的修復方法，其特征在于，所述修復區(qū)域的薄膜的厚度與所述周 邊區(qū)域的薄膜的厚度一致。7.—種顯示基板的制作方法，包括形成封裝薄膜的步驟，其特征在于，當所述封裝薄膜 具有不平整區(qū)域時，采用權利要求1-6任一項所述的修復方法對所述封裝薄膜進行修復。8.根據(jù)權利要求7所述的制作方法，其特征在于，形成封裝薄膜的步驟包括:利用噴墨打印工藝形成有機封裝薄膜；具體為，當所述有機封裝薄膜具有不平整區(qū)域時，采用權利要求1-6任一項所述的修復 方法對所述有機封裝薄膜進行修復。9.根據(jù)權利要求8所述的制作方法，其特征在于，形成封裝薄膜的步驟還包括:形成第一無機封裝薄膜和第二無機封裝薄膜，所述有機封裝薄膜位于所述第一無機封 裝薄膜和第二無機封裝薄膜之間。10.—種薄膜，其特征在于，所述薄膜包括修復區(qū)域和位于所述修復區(qū)域外圍的周邊區(qū) 域，所述修復區(qū)域采用權利要求1-6任一項所述的修復方法制得。11.一種顯示基板，包括封裝薄膜，其特征在于，所述封裝薄膜采用權利要求10所述的薄膜。12.根據(jù)權利要求11所述的顯示基板，其特征在于，所述封裝薄膜包括由有機材料制得 的有機封裝薄膜；具體為所述有機封裝薄膜采用權利要求10所述的薄膜。
【文檔編號】H01L51/56GK106098966SQ201610500519
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年6月29日
【發(fā)明人】李旭偉, 崔富毅, 肖昂, 陳靜靜, 王利娜, 陳帥
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司