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按鍵結構及其鍵盤的制作方法

文檔序號:9088159閱讀:380來源:國知局
按鍵結構及其鍵盤的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種按鍵有關,尤其涉及一種可增加按壓行程的按鍵結構及其鍵盤。
【背景技術】
[0002]如圖1所示,現(xiàn)有應用于如鍵盤上的按鍵la,大致包括一基板10a、一鍵帽11a、以及一活動連接于基板1a與鍵帽Ila間的連接組件12a,且該連接組件12a內供一彈性件120a通過而設置,并抵頂于鍵帽Ila內與基板1a上,而該基板1a上則設有一電路層100a,該電路層10a對應該彈性件120a而突設有一導電突膜101a。當鍵帽Ila受人手按壓時,即可通過連接組件12a帶動鍵帽Ila向下位移而迫壓該彈性件120a,并使該彈性件120a觸擊導電突膜1la后,以達到敲擊鍵盤之按鍵Ia等信號輸入的目的。
[0003]然而,如圖2所示,一般使用者在快速敲擊鍵盤時,或有因為按壓鍵帽Ila位置的偏差,例如像是一般鍵盤上的空白鍵、Shift鍵、Enter鍵等俗稱的「倍數(shù)鍵」,因為其鍵帽本身的寬度較一般「一倍鍵」的寬度來得寬,故于按壓不平衡時,容易造成鍵帽Ila在向下位移的作動上較不完全,以致無法對鍵帽Ila提供較完整的按壓行程,因此彈性件120a也沒有被鍵帽Ila完整迫壓,故無法確保彈性件120a與導電突膜1la能確實接觸,而發(fā)生使用者以為有敲擊按鍵Ia但卻沒有提供信號輸入的作用,且會因鍵帽IIa邊緣撞擊底面而容易產生噪音。為避免或降低此問題的發(fā)生,從而尋找其中可能影響的因素之一:在于按壓鍵帽Ila時所提供的按壓行程若能增加(意即爭取圖2中的間距h),即可進一步使鍵帽Ila對彈性件120a的迫壓更確實,進而能確保彈性件120a能有效觸擊該導電突膜101a,以確實達到信號輸入的目的。
【實用新型內容】
[0004]實用新型的主要目的,在于可提供一種按鍵結構及其鍵盤,其是于鍵帽周緣下提供一導斜面,以增加鍵帽向下位移的按壓行程,進而避免或降低上述現(xiàn)有問題的發(fā)生。
[0005]本實用新型的另一目的,在于可提供一種按鍵結構及其鍵盤,其是可通過上述導斜面的設計,而降低鍵帽因撞擊所產生的噪音。
[0006]為達上述目的,本實用新型提供一種按鍵結構,其包括:
[0007]一基座;
[0008]—鍵帽,包含一鍵帽頂部、以及沿著該鍵帽頂部的外圍所環(huán)設的鍵帽突緣;以及
[0009]—連接組件,活動連接于該基座與該鍵帽之間;
[0010]其中,該鍵帽的該鍵帽突緣自該鍵帽頂部的底面向下延伸,并于該鍵帽突緣下方形成一導斜面,且該導斜面是由該鍵帽突緣的內壁至該鍵帽突緣的外壁呈向上傾斜狀。
[0011]上述的按鍵結構,其中該導斜面連接該鍵帽突緣的內壁與該鍵帽突緣的外壁。
[0012]上述的按鍵結構,其中該基座包含一基板以及一電路層。
[0013]上述的按鍵結構,其中該連接組件內供一彈性件通過而設置,且該彈性件底部貼抵于該電路層上,該彈性件頂部則抵頂于該鍵帽內。
[0014]上述的按鍵結構,其中該電路層上設有一導電突膜,且該導電突膜與該彈性件上、下相對應。
[0015]上述的按鍵結構,其中該連接組件為一剪刀結構。
[0016]上述的按鍵結構,其中該鍵帽為一倍鍵的鍵帽或為倍數(shù)鍵的鍵帽。
[0017]上述的按鍵結構,其中該倍數(shù)鍵的鍵帽是指空白鍵、Shift鍵、Enter鍵、caps lock鍵、backspace 鍵、tab 鍵或 alter 鍵。
[0018]為達上述目的,本實用新型還提供一種鍵盤,包括多個按鍵,該些按鍵至少包含如權利要求1至8任意一項所述的按鍵結構。
[0019]以下結合附圖和具體實施例對本實用新型進行詳細描述,但不作為對本實用新型的限定。
【附圖說明】
[0020]圖1現(xiàn)有按鍵內部構造的剖視示意圖;
[0021]圖2現(xiàn)有按鍵于按壓不平衡時的剖視示意圖;
[0022]圖3本實用新型的立體分解示意圖;
[0023]圖4本實用新型的組合剖視示意圖;
[0024]圖5本實用新型于按壓不平衡時的剖視示意圖;
[0025]圖6本實用新型應用于鍵盤上的外觀示意圖。
[0026]其中,附圖標記
[0027]現(xiàn)有技術
[0028]按鍵Ia
[0029]基板1a 電路層 10a
[0030]導電突膜 1la 鍵帽Ila
[0031]連接組件 12a彈性件 120a
[0032]本實用新型
[0033]基座I
[0034]基板10
[0035]電路層 11導電突膜 110
[0036]鍵帽2
[0037]鍵帽頂部20 底面 200
[0038]表面201
[0039]鍵帽突緣21 內壁 210
[0040]外壁211 導斜面 212
[0041]空白鍵2aShift 鍵 2b
[0042]Enter 鍵2c caps lock 鍵 2d
[0043]backspace 鍵 2etab 鍵2f
[0044]alter 鍵2g
[0045]連接組件3
[0046]彈性件30
【具體實施方式】
[0047]了能更進一步揭露本實用新型的特征及技術內容,請參閱以下有關本實用新型的詳細說明與附圖,然而所附的附圖僅提供參考與說明用,并非用來對本實用新型加以限制。
[0048]請參閱圖3、圖4及圖6,分別為本實用新型的立體分解示意圖、組合剖視示意圖以及本實用新型應用于鍵盤上的外觀示意圖。本實用新型提供一種按鍵結構及其鍵盤,該鍵盤可為一般獨立的鍵盤、或是配置于如筆記型電腦上的鍵盤等,并包括多個按鍵,該些按鍵中至少有一者為以下的按鍵結構;該按鍵結構包括一基座1、一鍵帽2、以及一連接組件3 ;其中:
[0049]該基座I是用于承載上述按鍵的其它組件,包含鍵帽2及連接組件3。該基座I主要包含一基板10、以及一電路層11,基板10和電路層11相互層疊。在本實用新型所舉的實施例中,電路層11例如是層疊于該基板10上?;鵌并可視實際需要而對應多個鍵帽2與連接組件3,以構成一鍵盤或按鍵組;而在本實用新型所舉的實施例中,僅以單一按鍵為例,但并不以此為限。
[0050]該鍵帽2是用以供人手按壓,可為一倍鍵的鍵帽、或為如空白鍵2a、Shift鍵2b、Enter 鍵 2c、caps lock 鍵 2d、backspace 鍵 2e、tab 鍵 2f、alter 鍵 2g 等倍數(shù)鍵的鍵帽,并以上述連接組件3連接于基座I的基板10上,以供人手于按壓該鍵帽2時,鍵帽2能于基座I上相對于所述基座I向下的位移動作;反之,當鍵帽2自其壓下位置回復至其自然的非壓下位置時,鍵帽2能于基座I上相對于所述基座I作向上的位移動作。換言之,連接組件3使鍵帽2可操作地于基座I上相對于所述基座I作上、下的位移動作。而在本實用新型所舉的實施例中,該連接組件3例如是為一剪刀結構,并活動連接于基板10與鍵帽2之間,但并不以此為限;在本實用新型其他圖未繪示的實施例中,該連接組件3例如是為一蝴蝶鉸鏈結構。于該連接組件3內供一彈性件30通過而設置,該彈性件30底部貼抵于基座I的電路層11上,該彈性件30頂部則抵頂于鍵帽2內,以提供彈性力將鍵帽2向上抵頂。此夕卜,基座I的電路層11上設有一導電突膜110,導電突膜110是與該彈性件30上、下相對應,且當鍵帽2受人手按壓時,鍵帽2能通過連接組件3的帶動而向下位移并迫壓該彈性件30,進而使彈性件30觸擊導電突膜110后,以達到敲擊按鍵的信號輸入等目的。
[0051]請一并參閱圖4及圖5所示,承上所述,該鍵帽2更包含一鍵帽頂部20、以及沿著該鍵帽頂部20外圍所環(huán)設的鍵帽突緣21 ;其中鍵帽頂部20是具有一底面200與一表面201,所述鍵帽突緣21即自該鍵帽頂部20的底面200向下延伸,且鍵帽突緣21亦具有一內壁210與一外壁211,并于鍵帽突緣21下方形成一連接該內壁210與外壁211的導斜面212,該導斜面212并非如一般現(xiàn)有技術呈水平狀,而是由該鍵帽突緣21的內壁210至其外壁211呈向上傾斜狀。詳細之,本實用新型主要是改進于該鍵帽2,尤其是將該鍵帽2的傾斜面212由現(xiàn)有的呈水平狀的A位置向上傾斜設計,且傾斜面212與外壁211切線位置也從現(xiàn)有的al向上變更至a2 ;如此,如圖5的按鍵于按壓不平衡時,鍵帽突緣21即可因傾斜面212的上述設計,而為鍵帽2爭取到大略由al至a2的垂直向按壓行程,以供鍵帽2能更確實地對彈性件30提供迫壓作用,進而確保彈性件30能有效觸擊該導電突膜110,以確實達到按壓按鍵的信號輸入的目的。
[0052]所以,藉由上述的構造組成,即可得到本實用新型按鍵結構及其鍵盤。
[0053]因此,藉由本實用新型按鍵結構及其鍵盤,除了可通過于鍵帽2周緣下所形成的導斜面212,來增加鍵帽2向下位移的按壓行程以避免或降低觸壓不良等情事外,也會因為該導斜面212的設計,使按鍵被敲擊時使鍵帽突緣21能以該導斜面212與基座I間有較大的接觸面積,進而降低鍵帽2因撞擊所產生的噪音。
[0054]當然,本實用新型還可有其它多種實施例,在不背離本實用新型精神及其實質的情況下,熟悉本領域的技術人員當可根據(jù)本實用新型作出各種相應的改變和變形,但這些相應的改變和變形都應屬于本實用新型所附的權利要求的保護范圍。
【主權項】
1.一種按鍵結構,其特征在于,包括: 一基座; 一鍵帽,包含一鍵帽頂部、以及沿著該鍵帽頂部的外圍所環(huán)設的鍵帽突緣;以及 一連接組件,活動連接于該基座與該鍵帽之間; 其中,該鍵帽的該鍵帽突緣自該鍵帽頂部的底面向下延伸,并于該鍵帽突緣下方形成一導斜面,且該導斜面是由該鍵帽突緣的內壁至該鍵帽突緣的外壁呈向上傾斜狀。2.根據(jù)權利要求1所述的按鍵結構,其特征在于,該導斜面連接該鍵帽突緣的內壁與該鍵帽突緣的外壁。3.根據(jù)權利要求2所述的按鍵結構,其特征在于,該基座包含一基板以及一電路層。4.根據(jù)權利要求3所述的按鍵結構,其特征在于,該連接組件內供一彈性件通過而設置,且該彈性件底部貼抵于該電路層上,該彈性件頂部則抵頂于該鍵帽內。5.根據(jù)權利要求4所述的按鍵結構,其特征在于,該電路層上設有一導電突膜,且該導電突膜與該彈性件上、下相對應。6.根據(jù)權利要求5所述的按鍵結構,其特征在于,該連接組件為一剪刀結構。7.根據(jù)權利要求6所述的按鍵結構,其特征在于,該鍵帽為一倍鍵的鍵帽或為倍數(shù)鍵的鍵帽。8.根據(jù)權利要求7所述的按鍵結構,其特征在于,該倍數(shù)鍵的鍵帽是指空白鍵、Shift鍵、Enter 鍵、caps lock 鍵、backspace 鍵、tab 鍵或 alter 鍵。9.一種鍵盤,包括多個按鍵,其特征在于,該些按鍵至少包含如權利要求1至8任意一項所述的按鍵結構。
【專利摘要】一種按鍵結構及其鍵盤,該按鍵結構包括一基座、一鍵帽、以及一活動連接于基座與鍵帽之間的連接組件,且鍵帽包含一鍵帽頂部、以及沿著鍵帽頂部外圍所環(huán)設的鍵帽突緣;其中,鍵帽突緣自鍵帽頂部底面向下延伸,并于鍵帽突緣下方形成一導斜面,且導斜面由鍵帽突緣內壁至其外壁呈向上傾斜狀。本實用新型還公開一種具有上述按鍵結構的鍵盤。本實用新型藉由所述導斜面增加鍵帽向下位移的按壓行程,進而避免或降低觸壓不良等問題的發(fā)生。
【IPC分類】H01H13/705
【公開號】CN204740974
【申請?zhí)枴緾N201520404352
【發(fā)明人】吳明翰, 謝朝進
【申請人】群光電子(蘇州)有限公司
【公開日】2015年11月4日
【申請日】2015年6月12日
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