一種斷路器及其滅弧罩的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種滅弧罩，包括疊加布置的多個(gè)滅弧柵片，并且每個(gè)滅弧柵片均具有導(dǎo)流槽，為了便于區(qū)分，將滅弧柵片分為靠近上面的上滅弧柵片和靠近下面的下滅弧柵片以及位于上滅弧柵片和下滅弧柵片之間的中滅弧柵片，其中，上滅弧柵片的導(dǎo)流槽的深度大于中、下滅弧柵片的導(dǎo)流槽的深度。本申請(qǐng)中增大上滅弧柵片的導(dǎo)流槽的深度，一方面減小電弧運(yùn)動(dòng)的阻力，另一方面可通過(guò)增強(qiáng)氣流與磁場(chǎng)作用促進(jìn)電弧向柵片切割部分運(yùn)動(dòng)，從而減少電弧在柵片后方的停滯時(shí)間，降低背后擊穿發(fā)生概率，從而達(dá)到提高電弧電壓增大限流能力，降低電弧能量的目的。本實(shí)用新型還公開(kāi)了一種具有上述滅弧罩的斷路器。
【專利說(shuō)明】
一種斷路器及其滅弧罩
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及電路元件技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說(shuō)，是涉及一種斷路器及其滅弧罩。
【背景技術(shù)】
[0002]斷路器中的滅弧罩一方面可使電弧與滅弧罩中固體介質(zhì)相接處，通過(guò)熱傳導(dǎo)迅速降低電弧溫度，更重要的是利用鐵磁柵片將電弧切割為數(shù)個(gè)串聯(lián)的短電弧，利用電弧與柵片的近極壓降將電弧電壓大幅提升，從而達(dá)到明顯限流，加速電弧熄滅的目的。的比較常用的裝置。
[0003]目前的滅弧罩由多個(gè)滅弧柵片疊加而成，每個(gè)滅弧柵片的均具有導(dǎo)流槽，并且該導(dǎo)流槽包括靠近中間部分的U型槽段和由U型槽段的兩個(gè)側(cè)壁向開(kāi)口端漸擴(kuò)的V型槽段。由于斷路器觸頭系統(tǒng)與滅弧室的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，電弧運(yùn)動(dòng)至滅弧罩附近時(shí)，電弧上下部分所受到的氣流與磁場(chǎng)作用存在較大差異，使得電弧難以進(jìn)入上面滅弧柵片，而容易在滅弧柵片的U型開(kāi)口區(qū)域燃燒，導(dǎo)致滅弧罩后方溫度高、金屬粒子多等問(wèn)題，進(jìn)而引起電弧背后擊穿現(xiàn)象嚴(yán)重，斷路器的限流能力難以得到保證，分?jǐn)嗄芰茈y提高。
[0004]因此，如何充分利用滅弧柵片對(duì)電弧的切割作用，提高產(chǎn)品的限流與分?jǐn)嗄芰?，是本領(lǐng)域技術(shù)人員目前需要解決的技術(shù)問(wèn)題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]有鑒于此，本實(shí)用新型的目的是提供一種滅弧罩，提高滅弧柵片利用率，進(jìn)而提升產(chǎn)品分?jǐn)嗄芰Α１緦?shí)用新型的另一目的是提供一種具有上述滅弧罩的斷路器。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0007]—種滅弧罩，包括疊加布置的多個(gè)滅弧柵片，所述滅弧柵片均具有導(dǎo)流槽，所述導(dǎo)流槽包括U型槽段和漸擴(kuò)段，其中，所述滅弧柵片包括靠近上面的上滅弧柵片和靠近下面的下滅弧柵片以及位于所述上滅弧柵片和下滅弧柵片之間的中滅弧柵片，其中，所述上滅弧柵片的U型槽段的深度大于所述中滅弧柵片的U型槽段的深度。
[0008]優(yōu)選地，上述的滅弧罩中，所述中滅弧柵片的U型槽段的深度大于所述下滅弧柵片的U型槽段的深度。
[0009]優(yōu)選地，上述的滅弧罩中，所述上滅弧柵片的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度大于所述中滅弧柵片的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度。
[0010]優(yōu)選地，上述的滅弧罩中，所述中滅弧柵片的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度等于所述下滅弧柵片的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度。
[0011]優(yōu)選地，上述的滅弧罩中，所述滅弧柵片的長(zhǎng)度均相等。
[0012]優(yōu)選地，上述的滅弧罩中，所述上滅弧柵片的個(gè)數(shù)為三個(gè)。
[0013]優(yōu)選地，上述的滅弧罩中，所述下滅弧柵片的個(gè)數(shù)為三個(gè)。
[0014]—種斷路器，包括滅弧罩，其中，所述滅弧罩如上述任一項(xiàng)所述的滅弧罩。
[0015]經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種滅弧罩，包括疊加布置的多個(gè)滅弧柵片，并且每個(gè)滅弧柵片均具有導(dǎo)流槽，為了便于區(qū)分，將滅弧柵片分為靠近上面的上滅弧柵片和靠近下面的下滅弧柵片以及位于上滅弧柵片和下滅弧柵片之間的中滅弧柵片，其中，上滅弧柵片的導(dǎo)流槽的深度大于中滅弧柵片的導(dǎo)流槽的深度。本申請(qǐng)中增大上滅弧柵片的導(dǎo)流槽的深度，一方面減小電弧運(yùn)動(dòng)的阻力，另一方面可通過(guò)增強(qiáng)氣流與磁場(chǎng)作用促進(jìn)電弧向柵片切割部分運(yùn)動(dòng)，從而減少電弧在柵片后方的停滯時(shí)間，降低背后擊穿發(fā)生概率，從而達(dá)到提高電弧電壓增大限流能力，降低電弧能量的目的。
【附圖說(shuō)明】
[0016]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的滅弧罩的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的滅弧罩的俯視圖；
[0019]圖3為圖2中AA方向視圖；
[0020]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的斷路器的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]本實(shí)用新型的核心是提供了一種滅弧罩，提高滅弧柵片利用率，進(jìn)而提升產(chǎn)品分?jǐn)嗄芰?。本?shí)用新型的另一核心是提供了一種具有上述滅弧罩的斷路器。
[0022]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0023]如圖1-圖4所示，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種滅弧罩，包括疊加布置的多個(gè)滅弧柵片，并且每個(gè)滅弧柵片均具有導(dǎo)流槽，為了便于區(qū)分，將滅弧柵片分為靠近上面的上滅弧柵片11和靠近下面的下滅弧柵片13以及位于上滅弧柵片11和下滅弧柵片13之間的中滅弧柵片12，其中，上滅弧柵片11的U型槽段的深度大于中滅弧柵片12的U型槽段的深度。本申請(qǐng)中增大上滅弧柵片11的U型槽段的深度，以減小U型槽段槽底的阻力，將電弧拉入導(dǎo)流槽靠近槽底的一端，減緩上滅弧柵片11前端燃燒嚴(yán)重的問(wèn)題。一方面減小電弧運(yùn)動(dòng)的阻力，另一方面可通過(guò)增強(qiáng)氣流與磁場(chǎng)作用促進(jìn)電弧向柵片切割部分運(yùn)動(dòng)，從而減少電弧在柵片后方的停滯時(shí)間，降低背后擊穿發(fā)生概率，從而達(dá)到提高電弧電壓增大限流能力，降低電弧能量的目的。
[0024]具體的實(shí)施例中，本申請(qǐng)中公開(kāi)的導(dǎo)流槽為包括U型槽段和V型結(jié)構(gòu)的漸擴(kuò)段結(jié)合的結(jié)構(gòu)，具體的，U型槽段設(shè)置在滅弧柵片的靠近中間的部分，而V型槽段則為由U型槽段的兩個(gè)側(cè)壁向外漸擴(kuò)形成開(kāi)口的部分。本申請(qǐng)中的導(dǎo)流槽的深度不同具體的為U型槽段的深度不同，而對(duì)于V型槽段的深度對(duì)于上滅弧柵片11、中滅弧柵片12和下滅弧柵片13均相等。
[0025]具體的，將中滅弧柵片12的U型槽段的深度設(shè)置為大于下滅弧柵片13的U型槽段的深度。由于靠近下面的下滅弧柵片13氣流大，阻力下，通氣更為順暢，并且在電弧的氣吹及磁吹的作用力下，使得下滅弧柵片13相對(duì)于其他滅弧柵片更容易將電弧引到前端，所以，減小滅弧柵片中的下滅弧柵片13U型槽段的尺寸，讓鐵片更早的與電弧接觸，更快的冷卻和切割電弧，能達(dá)到非常有效的限流作用，提高分?jǐn)嗄芰Α?br>[0026]進(jìn)一步的實(shí)施例中，將上滅弧柵片11的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度設(shè)置為大于中滅弧柵片12的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度。通過(guò)上述設(shè)置有效的拉大了靜跑弧道與柵片漸擴(kuò)段即V型槽邊緣間距，對(duì)限流起到了非常明顯和積極的作用。采用加深上滅弧柵片11的U型槽的尺寸，并配合V型開(kāi)口加大的效果，可以達(dá)到快速引弧和熄弧的效果，從而明顯提高產(chǎn)品的分?jǐn)嗄芰Α?br>[0027]而對(duì)于中滅弧柵片12的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度等于下滅弧柵片13的漸擴(kuò)段的開(kāi)口的寬度。對(duì)于中滅弧柵片12的漸擴(kuò)段和下滅弧柵片13的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度的具體尺寸可根據(jù)不同的需要進(jìn)行設(shè)定，其均在保護(hù)范圍內(nèi)。
[0028]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本申請(qǐng)中將滅弧柵片的長(zhǎng)度設(shè)置為均相等。對(duì)于滅弧柵片的長(zhǎng)度可根據(jù)不同的需要進(jìn)行設(shè)定，在實(shí)際中，也可將滅弧柵片的長(zhǎng)度設(shè)置為不同。
[0029]在實(shí)際中，將上滅弧柵片11和下滅弧柵片13的個(gè)數(shù)均設(shè)置為三個(gè)，此處只是提供了一種具體的數(shù)值，但是本申請(qǐng)中并不僅包括上述數(shù)值，操作者可根據(jù)不同的需要進(jìn)行限定，且均在保護(hù)范圍內(nèi)。
[0030]此外，本申請(qǐng)還公開(kāi)了一種斷路器，包括滅弧罩，其中，該滅弧罩為如上述實(shí)施例中公開(kāi)的滅弧罩，因此，具有該滅弧罩的斷路器也具有上述所有技術(shù)效果，在此不再一一贅述。
[0031]本說(shuō)明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見(jiàn)即可。
[0032]對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種滅弧罩，包括疊加布置的多個(gè)滅弧柵片，所述滅弧柵片均具有導(dǎo)流槽，所述導(dǎo)流槽包括U型槽段和漸擴(kuò)段，其特征在于，所述滅弧柵片包括靠近上面的上滅弧柵片(11)和靠近下面的下滅弧柵片(13)以及位于所述上滅弧柵片(11)和下滅弧柵片(13)之間的中滅弧柵片(12)，其中，所述上滅弧柵片(11)的U型槽段的深度大于所述中滅弧柵片(12)的U型槽段的深度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅弧罩，其特征在于，所述中滅弧柵片(12)的U型槽段的深度大于所述下滅弧柵片(13)的U型槽段的深度。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅弧罩，其特征在于，所述上滅弧柵片(11)的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度大于所述中滅弧柵片(12)的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的滅弧罩，其特征在于，所述中滅弧柵片(12)的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度等于所述下滅弧柵片(13)的漸擴(kuò)段的開(kāi)口寬度。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的滅弧罩，其特征在于，所述滅弧柵片的長(zhǎng)度均相等。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的滅弧罩，其特征在于，所述上滅弧柵片(11)的個(gè)數(shù)為三個(gè)。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的滅弧罩，其特征在于，所述下滅弧柵片(13)的個(gè)數(shù)為三個(gè)。8.—種斷路器，包括滅弧罩，其特征在于，所述滅弧罩如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的滅弧罩。
【文檔編號(hào)】H01H9/34GK205488007SQ201620111840
【公開(kāi)日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年2月3日
【發(fā)明人】黃燮云, 周文
【申請(qǐng)人】杭州泰姆電氣有限公司