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一種透明導電電極加工裝置的制造方法

文檔序號:10933496閱讀:555來源:國知局
一種透明導電電極加工裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種透明導電電極加工裝置,包括模板體,所述模板體上設置有密封環(huán)、接觸件和通氣孔,所述密封環(huán)和接觸件固定在模板體靠近透明導電材料的一側,所述接觸件位于密封環(huán)內,所述密封環(huán)和接觸件之間形成非接觸腔,所述通氣孔設置在模板體非接觸腔處,所述通氣孔為兩個以上。本實用新型中模板體可以與透明導電材料充分接觸,非接觸腔在透明導電材料表面形成反應區(qū)域,為反應氣體與導電層反應提供空間,通過反應使導電層中部分導電材料轉化為不導電材料,從而得到圖案化的電極,并且導電區(qū)域和非導電區(qū)域光學性能差異極低,能夠實現完全消影蝕刻,在實際應用中效果顯著,且采用本實用新型制備透明導電電極流程簡單,制備成本低。
【專利說明】
一種透明導電電極加工裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及透明導電電極領域,特別是,涉及一種透明導電電極加工裝置。
【背景技術】
[0002]目前,透明電極的材料主要包括透明導電氧化物薄膜、碳納米管、石墨烯、導電聚合物、金屬網格、金屬納米線等。ITO透明電極憑借其高透明度和高導電性占有了大部分的市場份額。但ITO電極需要使用真空氣相沉積的方法制備,且含有稀有元素銦,因而成本較高,且ITO具有脆性,無法在柔性器件中使用。因而人們開始尋找其他透明電極材料,金屬納米線由于其較低的成本、較高的性能、對柔性器件的良好適應性而倍受青睞。較厚的金屬膜雖然不透明,但若將其進行網格狀圖案化使之成為金屬網格,則將成為能與金屬納米線想媲美的透明導電電極。并且金屬導電材料配合石墨烯、碳納米管、導電高分子、金屬氧化物半導體材料都可以得到更好的適用性。
[0003]在液晶顯示、0LED(有機電致發(fā)光)、觸摸屏、太陽能電池等領域的實際應用中,常常需要圖案化的透明導電電極來完成各種功能。對于現有的透明導電材料,現有技術已有多種圖案化方法,包括激光燒蝕,黃光工藝的化學刻蝕方法,絲印蝕刻膏的化學蝕刻,噴墨印刷蝕刻液等方法。但現有方法都會導致蝕刻區(qū)和非蝕刻區(qū)存在較大光學性能差異,而且有對環(huán)境有較大污染,制備流程復雜,制備成本較高的缺點。
【實用新型內容】
[0004]為了克服現有技術的不足,本實用新型的目的在于提供一種透明導電電極加工裝置,本實用新型中模板體可以與透明導電材料充分接觸,非接觸腔在透明導電材料表面形成反應區(qū)域,為反應氣體與導電層反應提供空間,通過反應使導電層中部分導電材料轉化為不導電材料,從而得到圖案化的電極,并且導電區(qū)域和非導電區(qū)域光學性能差異極低,能夠實現完全消影蝕刻,在實際應用中效果顯著,且采用本實用新型制備透明導電電極流程簡單,制備成本低。
[0005]為解決上述問題,本實用新型所采用的技術方案如下:
[0006]—種透明導電電極加工裝置,包括模板體,所述模板體上設置有密封環(huán)、接觸件和通氣孔,所述密封環(huán)和接觸件固定在模板體靠近透明導電材料的一側,所述接觸件位于密封環(huán)內,所述密封環(huán)和接觸件之間形成非接觸腔,所述通氣孔設置在模板體非接觸腔處,所述通氣孔為兩個以上。
[0007]所述模板體為輥型。
[0008]還包括吸附平臺,所述模板體為平板型,所述模板體設置在吸附平臺上。
[0009]還包括用于將模板體壓緊在吸附平臺上的壓緊件。
[0010]所述吸附平臺內部設置有加熱模塊。
[0011]所述吸附平臺對應模板體的非接觸腔處設置有導氣孔。
[0012]還包括柔性保護膜,所述柔性保護膜設置在吸附平臺和模板體之間。
[0013]所述密封環(huán)和接觸件為硅橡膠、天然橡膠、丁腈橡膠、氟橡膠、丙烯酸酯橡膠或聚氨酯材質。
[0014]所述接觸件與透明導電材料接觸處內凹有壓力腔。
[0015]相比現有技術,本實用新型的有益效果在于:本實用新型中模板體可以與透明導電材料充分接觸,非接觸腔在透明導電材料表面形成反應區(qū)域,為反應氣體與導電層反應提供空間,通過反應使導電層中部分導電材料轉化為不導電材料,從而得到圖案化的電極,并且導電區(qū)域和非導電區(qū)域光學性能差異極低,能夠實現完全消影蝕刻,在實際應用中效果顯著,且采用本實用新型制備透明導電電極流程簡單,制備成本低。
【附圖說明】
[0016]圖1為實施例1中透明導電電極加工裝置使用狀態(tài)圖;
[0017]圖2為本實用新型中透明導電電極加工裝置結構示意圖;
[0018]圖3為圖2中A-A剖面圖;
[0019]圖4為實施例2中透明導電電極加工裝置使用狀態(tài)圖;
[0020]圖5為實施例3中透明導電電極加工裝置使用狀態(tài)圖;
[0021]圖6為實施例4中透明導電電極加工裝置使用狀態(tài)圖;
[0022]其中,I為模板體、11為密封環(huán)、12為接觸件、121為壓力腔、13為通氣孔、2為吸附平臺、21為導氣孔、3為壓緊件、4為柔性保護膜、5為透明導電材料。
【具體實施方式】
[0023]下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細說明。
[0024]實施例1
[0025]如圖1-3所示,透明導電電極加工裝置包括模板體1、吸附平臺2和用于將模板體I壓緊在吸附平臺2上的壓緊件3,模板體I為平板型,模板體I設置在吸附平臺2上,模板體I上設置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13,密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導電材料的一側,接觸件12位于密封環(huán)11內,密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔,通氣孔13設置在模板體I非接觸腔處,通氣孔13為兩個以上。
[0026]使用時,透明導電材料5吸附在吸附平臺2上,模板體I在壓緊件3作用下與透明導電材料5充分接觸,密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導電材料5上,非接觸腔在透明導電材料5表面形成反應區(qū)域,通過通氣孔13向反應區(qū)域導入反應氣體,反應結束后獲得透明導電電極。
[0027]吸附平臺2可以實現透明導電材料5的充分固定,壓緊件3作用于模板體I,實現模板體I在透明導電材料5上的壓緊,保證模板體I與透明導電材料5的充分接觸,非接觸腔在透明導電材料5表面形成反應區(qū)域,為反應氣體與導電層反應提供空間,保證了反應正常進行的同時,有效保護了導電層的非反應區(qū)域。
[0028]實施例2
[0029]如圖4所示,透明導電電極加工裝置包括模板體1、吸附平臺2和用于將模板體I壓緊在吸附平臺2上的壓緊件3,模板體I為平板型,模板體I設置在吸附平臺2上,模板體I上設置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13,密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導電材料的一側,接觸件12與透明導電材料5接觸處內凹有壓力腔121,接觸件12位于密封環(huán)11內,密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔,通氣孔13設置在模板體I非接觸腔處,通氣孔13為兩個以上。
[0030]使用時,透明導電材料5吸附在吸附平臺2上,模板體I在壓緊件3作用下與透明導電材料5充分接觸,密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導電材料5上,非接觸腔在透明導電材料5表面形成反應區(qū)域,通過通氣孔13向反應區(qū)域導入反應氣體,反應結束后獲得透明導電電極。
[0031]吸附平臺2可以實現透明導電材料5的充分固定,壓緊件3作用于模板體I,實現模板體I在透明導電材料5上的壓緊,保證模板體I與透明導電材料5的充分接觸,非接觸腔在透明導電材料5表面形成反應區(qū)域,為反應氣體與導電層反應提供空間,保證了反應正常進行;壓力腔121可以保證導電層的非反應區(qū)域內壓力恒定,從而有效保護了導電層的非反應區(qū)域不受反應氣體影響。
[0032]實施例3
[0033]如圖5所示,透明導電電極加工裝置包括模板體1、吸附平臺2、用于將模板體I壓緊在吸附平臺2上的壓緊件3和柔性保護膜4,模板體I為平板型,模板體I設置在吸附平臺2上,模板體I上設置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13,密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導電材料的一側,接觸件12與透明導電材料5接觸處內凹有壓力腔121,接觸件12位于密封環(huán)11內,密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔,通氣孔13設置在模板體I非接觸腔處,通氣孔13為兩個以上;吸附平臺2對應模板體I的非接觸腔處設置有導氣孔21,柔性保護膜4設置在吸附平臺2和模板體I之間。
[0034]使用時,透明導電材料5吸附在吸附平臺2上,透明導電材料5對應導氣孔21處設置有通孔,柔性保護膜4覆蓋在透明導電材料5上,模板體I在壓緊件3作用下與柔性保護膜4充分接觸,密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在柔性保護膜4上,柔性保護膜4與透明導電材料5在非接觸腔處形成反應區(qū)域,通過導氣孔21向反應區(qū)域導入反應氣體,柔性保護膜4在反應區(qū)域形成鼓泡,反應結束后獲得透明導電電極。
[0035]吸附平臺2可以實現透明導電材料5的充分固定,壓緊件3作用于模板體I,實現模板體I在柔性保護膜4上的壓緊,保證模板體I與柔性保護膜4的充分接觸,柔性保護膜4與透明導電材料5在非接觸腔處形成反應區(qū)域,通氣后,鼓泡內為反應氣體與導電層反應提供空間,保證了反應正常進行;密封環(huán)11和接觸件12抵持在柔性保護膜4處由于壓緊無法進入反應氣體,從而有效保護了導電層的非反應區(qū)域的導電性。
[0036]實施例4
[0037]如圖6所示,本實用新型中透明導電電極加工裝置包括模板體I,模板體I為輥型,模板體I上設置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13,密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導電材料的一側,接觸件12位于密封環(huán)11內,密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔,通氣孔13設置在模板體I非接觸腔處,通氣孔13為兩個以上。
[0038]使用時,通過外力牽引,模板體I可以與透明導電材料5充分接觸,密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導電材料5上,非接觸腔在透明導電材料5表面形成反應區(qū)域,通過通氣孔13向反應區(qū)域導入反應氣體,反應結束后獲得透明導電電極。反應區(qū)域為反應氣體與導電層反應提供空間,保證了反應正常進行的同時,密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導電材料5上,有效保護了導電層非反應區(qū)域的導電性。
[0039]上述實施例1-3中,吸附平臺2內部可以設置有加熱模塊,實現反應時溫度的有效控制。
[0040]上述實施例4中,模板體I內部可以設置有加熱模塊,也可以在導電材料背面處設置輔助加熱裝置,實現反應時溫度的有效控制。
[0041]上述實施例1-4中,密封環(huán)11和接觸件12可以為硅橡膠、天然橡膠、丁腈橡膠、氟橡膠、丙烯酸酯橡膠或聚氨酯材質,均能實現相應的保護導電層的效果。
[0042]本實用新型中模板體可以與透明導電材料充分接觸,非接觸腔在透明導電材料表面形成反應區(qū)域,為反應氣體與導電層反應提供空間,通過反應使導電層中部分導電材料轉化為不導電材料,從而得到圖案化的電極,并且導電區(qū)域和非導電區(qū)域光學性能差異極低,能夠實現完全消影蝕刻,在實際應用中效果顯著,且采用本實用新型制備透明導電電極流程簡單,制備成本低。
[0043]對本領域的技術人員來說,可根據以上描述的技術方案以及構思,做出其它各種相應的改變以及形變,而所有的這些改變以及形變都應該屬于本實用新型權利要求的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種透明導電電極加工裝置,其特征在于,包括模板體,所述模板體上設置有密封環(huán)、接觸件和通氣孔,所述密封環(huán)和接觸件固定在模板體靠近透明導電材料的一側,所述接觸件位于密封環(huán)內,所述密封環(huán)和接觸件之間形成非接觸腔,所述通氣孔設置在模板體非接觸腔處,所述通氣孔為兩個以上。2.如權利要求1所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,所述模板體為輥型。3.如權利要求1所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,還包括吸附平臺,所述模板體為平板型,所述模板體設置在吸附平臺上。4.如權利要求3所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,還包括用于將模板體壓緊在吸附平臺上的壓緊件。5.如權利要求3所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,所述吸附平臺內部設置有加熱模塊。6.如權利要求5所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,所述吸附平臺對應模板體的非接觸腔處設置有導氣孔。7.如權利要求6所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,還包括柔性保護膜,所述柔性保護膜設置在吸附平臺和模板體之間。8.如權利要求1-7任一項所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,所述密封環(huán)和接觸件為硅橡膠、天然橡膠、丁腈橡膠、氟橡膠、丙烯酸酯橡膠或聚氨酯材質。9.如權利要求1-7任一項所述的透明導電電極加工裝置,其特征在于,所述接觸件與透明導電材料接觸處內凹有壓力腔。
【文檔編號】H01B13/00GK205621518SQ201620348645
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2016年4月22日
【發(fā)明人】陳初群
【申請人】陳初群
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