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永磁渦流傳動裝置的制造方法

文檔序號:10249307閱讀:448來源:國知局
永磁渦流傳動裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種電磁耦合器件,特別是柔性聯(lián)軸器,屬電機與拖動技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]永磁渦流傳動技術(shù),已在工業(yè)上得到了成功的應(yīng)用,由于其對電機與負(fù)載具有雙重保護功能,且節(jié)能效果明顯,已引起高度關(guān)注。目前市場銷售的永磁渦流傳動裝置,其電磁結(jié)構(gòu)均為面型,所謂面型結(jié)構(gòu)即渦流盤面與永磁盤的極面在軸向相對應(yīng)電磁耦合。這種裝置由于受到結(jié)構(gòu)的制約,其軸向相對應(yīng)耦合的組分,最多僅為兩組,為了獲得更大的傳輸功率,只能加大其渦流盤與永磁盤的直徑。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的在于,提供一種不同于上述電磁結(jié)構(gòu)的永磁渦流傳動裝置。
[0004]本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的,渦流環(huán)固定在外轉(zhuǎn)子組件上,永磁環(huán)固定在內(nèi)轉(zhuǎn)子組件上。
[0005]在本實用新型的技術(shù)解決方案中,渦流環(huán)與永磁環(huán)同軸且在徑向相對應(yīng)電磁耦合;
[0006]其中,所述渦流環(huán)由高電導(dǎo)率金屬材料制作;
[0007]其中,所述永磁環(huán)由N、S極交錯布置的永磁體組成。
[0008]本實用新型裝置的電磁結(jié)構(gòu)與面型不同,采用的是同軸型結(jié)構(gòu),因此能夠在軸向布置更多的耦合組分,在不增加裝置直徑并盡量減少轉(zhuǎn)動慣量的條件下,可實現(xiàn)更大的傳輸扭矩。
【附圖說明】
[0009]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步的說明。
[0010]圖I為本裝置主視剖面圖。
[0011]圖2為本裝置左視剖面圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明依據(jù)本實用新型提出的裝置的細(xì)節(jié)及工作原理。
[0013]對照圖I可以看出,渦流環(huán)I被固定在外轉(zhuǎn)子組件2上,永磁環(huán)3被固定在內(nèi)轉(zhuǎn)子組件4上,同時可以看出外轉(zhuǎn)子組件2與內(nèi)轉(zhuǎn)子組件4同在一條軸線上,還可以看出渦流環(huán)I與隔著空氣隙5的永磁環(huán)3在徑向相對應(yīng)。
[0014]對照圖2可以看出,永磁環(huán)3由按N、S極交錯布置的永磁體6組成。
[0015]本實用新型裝置由兩部分構(gòu)成,其中一部分內(nèi)轉(zhuǎn)子組件4與負(fù)載側(cè)連接,另一部分外轉(zhuǎn)子組件2與驅(qū)動側(cè)連接,這兩部分是非接觸的,各自可以自由地獨立旋轉(zhuǎn)。
[0016]本實用新型裝置的工作原理如下:當(dāng)外轉(zhuǎn)子組件2旋轉(zhuǎn)時,渦流環(huán)I與永磁環(huán)3發(fā)生相對運動即滑差,使得渦流環(huán)I產(chǎn)生渦流,同時,渦流的磁場與永磁環(huán)3相互作用,帶動內(nèi)轉(zhuǎn)子組件4沿著與外轉(zhuǎn)子組件2相同方向旋轉(zhuǎn),在負(fù)載側(cè)軸上輸出轉(zhuǎn)矩,從而帶動負(fù)載做旋轉(zhuǎn)運動。
[0017]除上述實施例外,本實用新型還可以有其它多種實施方式,采用等同替代或等效變換形式的技術(shù)方案,均在本發(fā)明要求保護的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種永磁渦流傳動裝置,其特征在于:渦流環(huán)(I)與永磁環(huán)(3)同軸且在徑向相對應(yīng)電磁耦合; 其中,所述渦流環(huán)(I)由高電導(dǎo)率金屬材料制作; 其中,所述永磁環(huán)(3)由N、S極交錯布置的永磁體(6)組成。
【專利摘要】本實用新型涉及一種永磁渦流傳動裝置,渦流環(huán)與永磁環(huán)同軸且在徑向相對應(yīng)電磁耦合。本實用新型裝置的電磁結(jié)構(gòu)與面型不同,采用的是同軸型結(jié)構(gòu),因此能夠在軸向布置更多的耦合組分,在不增加裝置直徑并盡量減少轉(zhuǎn)動慣量的條件下,可實現(xiàn)更大的傳輸扭矩。
【IPC分類】H02K49/04, H02K49/10
【公開號】CN205160340
【申請?zhí)枴緾N201521018454
【發(fā)明人】劉凱平, 陳士科, 郭大先
【申請人】劉凱平
【公開日】2016年4月13日
【申請日】2015年12月6日
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