一種加速器束流引出裝置的制造方法
【專利摘要】為解決現(xiàn)有煙氣脫硫脫硝的電子束輻照應(yīng)用中金屬隔膜的腐蝕與燒穿問題，以及高能高功率加速器束流引出薄膜的更換問題，本發(fā)明提供一種新的加速器束流引出裝置。本發(fā)明的技術(shù)方案包括加速器、氣體節(jié)流管道、氣體擴(kuò)散室、真空泵、束流聚束或擴(kuò)束元件、高速隔離氣流等。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了沒有真空隔離膜的加速器束流直接引出應(yīng)用。
【專利說明】
一種加速器束流引出裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種加速器技術(shù)，特別涉及一種用于脫硫脫硝的電子束輻照加速器。
【背景技術(shù)】
[0002]熱電廠燃煤產(chǎn)生的含硫含硝的煙氣是造成霧霾、酸雨等環(huán)境污染問題的主要因素之一。利用電子加速器輸出能量為IMeV左右的電子束輻照煙氣，就可以實(shí)現(xiàn)脫硫脫硝。目前，國內(nèi)外所采用的電子加速器一般為靜電高壓型的，電子束流功率可達(dá)數(shù)百千瓦。
[0003]由于電子束輻照煙氣的過程中有非常強(qiáng)的電離效應(yīng)，產(chǎn)生大量臭氧及各種正負(fù)離子，對于含硫含硝的煙氣，還會(huì)產(chǎn)生大量硫酸、硝酸等強(qiáng)酸，因此具有極強(qiáng)的腐蝕效應(yīng)。
[0004]電子加速器的工作原理是，首先由電子槍產(chǎn)生和引出電子束，電子束在加速管內(nèi)通過高壓電場或射頻電場獲得能量，電子束從加速管輸出后就可進(jìn)行各種應(yīng)用。其中，電子槍必須在真空環(huán)境才能有效工作并產(chǎn)生和引出電子束；加速管也必須工作于真空環(huán)境。然而電子束的很多應(yīng)用必須在大氣環(huán)境里，例如脫硫脫硝等。因此就需要將電子束的產(chǎn)生和加速的真空環(huán)境與其應(yīng)用環(huán)境隔離。目前通常的做法是采用薄金屬膜來實(shí)現(xiàn)隔離功能。
[0005]對于脫硫脫硝的電子束輻照應(yīng)用而言，由于電子束流功率很大，其金屬隔膜就不能做厚，否則電子束沉積到隔膜上的熱量就很大，難以冷卻而導(dǎo)致隔膜破損熔化。如果隔膜做得較薄，由于輻照后的煙氣具有極強(qiáng)的腐蝕性，會(huì)使隔膜很快腐蝕，從而導(dǎo)致加速器內(nèi)的真空被破壞。因此，如何解決脫硫脫硝加速器的真空隔離成為其推廣應(yīng)用成功的關(guān)鍵技術(shù)。
[0006]此外，對于高能高功率束流的引出應(yīng)用，在國際上也是一個(gè)難題。例如散裂中子源和加速器驅(qū)動(dòng)次臨界潔凈核能系統(tǒng)(ADS)等，其束流功率高達(dá)兆瓦量級(jí)，束流能量高達(dá)GeV量級(jí)。如果采用金屬薄膜隔離真空，需要經(jīng)常更換薄膜，以防薄膜的損壞而破壞加速器內(nèi)的真空。而薄膜的更換需要停止加速器的運(yùn)行，從而對加速器的應(yīng)用造成影響，特別是對用于能源生產(chǎn)的ADS影響巨大。因此，高能高功率加速器束流引出技術(shù)對其應(yīng)有具有重大影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的為解決現(xiàn)有煙氣脫硫脫硝的電子束輻照應(yīng)用中，金屬隔膜的腐蝕問題，以及高能高功率加速器束流引出薄膜的更換問題，提供一種新的加速器束流引出裝置，解決高功率束流的引出難題，提出了取消真空隔離的金屬隔膜，利用氣體擴(kuò)散限制裝置和真空栗獲得加速器正常運(yùn)行所需要的真空條件。
[0008]本發(fā)明的技術(shù)方案包括加速器、氣體擴(kuò)散限制裝置、真空栗、束流控制操作元件和高速隔離氣流等。
[0009]所述加速器包括靜電加速器、回旋加速器、直線加速器、同步加速器等類型，加速器所加速的粒子包括電子、質(zhì)子和重離子等；
[0010]所述的氣體擴(kuò)散限制裝置包括氣體節(jié)流管道、氣體擴(kuò)散室；
[0011]所述氣體節(jié)流管道的內(nèi)孔徑一般與加速器的束流傳輸管道相同，也可以比其稍小，管道截面形狀可為圓形、橢圓形、方形、長方形等形狀，其作用是限制進(jìn)入加速器真空室的氣體量，并使氣體節(jié)流管道的兩端形成壓強(qiáng)差；
[0012]所述氣體擴(kuò)散室的內(nèi)尺寸大于氣體節(jié)流管道內(nèi)尺寸，其形狀可以是任意的，其作用是使高氣壓端的氣體節(jié)流管道輸入的氣體在其室內(nèi)膨脹擴(kuò)散；氣體擴(kuò)散室連接一個(gè)大口徑高抽速的真空栗，氣體擴(kuò)散室內(nèi)的大部分氣體被真空栗抽走，少部分氣體進(jìn)入低氣壓端的氣體節(jié)流管道或加速器束流傳輸管道；
[0013]進(jìn)一步，一個(gè)氣體擴(kuò)散室可以連接一個(gè)或多個(gè)真空栗；氣體擴(kuò)散室可以不通過氣體節(jié)流管道而直接連接一個(gè)或多個(gè)氣體擴(kuò)散室；
[0014]再進(jìn)一步，連接相鄰兩個(gè)氣體擴(kuò)散室的氣體節(jié)流管道可以是I個(gè)，也可以是多個(gè)；
[0015]再進(jìn)一步，相鄰的兩個(gè)氣體擴(kuò)散室可以不通過氣體節(jié)流管道直接連接在一起，之間通過帶孔隔板隔開；
[0016]所述真空栗包括機(jī)械栗、分子栗、鈦栗、擴(kuò)散栗等，其作用是抽取氣體擴(kuò)散室加速器和氣體擴(kuò)散室內(nèi)的氣體，以獲得加速器正常運(yùn)行所需要的真空條件；
[0017]所述束流控制操作元件包括螺線管、四極磁鐵、六極磁鐵、八極磁鐵、二極磁鐵、掃描磁鐵、靜電四極透鏡、三圓筒透鏡、三膜片透鏡、靜電偏轉(zhuǎn)器、束流均勻化元件等，聚束元件的作用是約束束流包絡(luò)小于氣體節(jié)流管道的內(nèi)孔徑，避免其傳輸過程中的損失，擴(kuò)束元件的作用是擴(kuò)大束流包絡(luò)以實(shí)現(xiàn)各種束流的應(yīng)用，偏轉(zhuǎn)元件的作用是使束流運(yùn)動(dòng)軌跡彎轉(zhuǎn)。
[0018]所述高速隔離氣流產(chǎn)生方法很多，包括吹風(fēng)機(jī)、壓縮機(jī)、高壓氣罐等，根據(jù)不同應(yīng)用需求及其經(jīng)濟(jì)性考慮。隔離氣體可采用普通空氣、干燥空氣、氮?dú)獾?，隔離氣流的作用是將加速器外部的環(huán)境氣體加速器內(nèi)部的氣體隔離開來。隔離的效果有兩個(gè)，一是使得加速器內(nèi)部的氣體種類不同于環(huán)境氣體，二是使隔離區(qū)的氣體擴(kuò)散限制裝置的束流出口內(nèi)外形成一定的壓強(qiáng)差，實(shí)現(xiàn)一定的真空預(yù)抽功能，由于高速隔離氣流緊貼氣體擴(kuò)散限制裝置的束流出口，在氣體分子碰撞的作用下會(huì)帶走裝置內(nèi)的氣體，而裝置內(nèi)的氣體體積容積有限，從而使得管道內(nèi)的氣體壓強(qiáng)降低。所述的環(huán)境氣體是指加速器外部或束流應(yīng)用環(huán)境的氣體，其氣體壓強(qiáng)為普通的大氣壓強(qiáng)或高氣壓。隔離加速器內(nèi)外氣體的成分對脫硫脫硝的應(yīng)用非常有利，可以避免強(qiáng)酸對真空栗機(jī)組的腐蝕。高速隔離氣流可以垂直于束流運(yùn)動(dòng)的方向及其管道，也可以成其它角度；
[0019]進(jìn)一步，高速隔離氣流可以部分或全部電離，形成等離子體流。
[0020]所述的束流的運(yùn)動(dòng)軌跡可以是直線，也可以轉(zhuǎn)彎；可以是一條束流運(yùn)動(dòng)軌跡，也可以是多條。
[0021]所述的氣體節(jié)流管道可取消，相鄰氣體擴(kuò)散室之間通過帶孔隔板相連，束流控制操作元件置于氣體擴(kuò)散室之內(nèi)或之外。
[0022]所述的氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室之間可以沒有明顯的形狀突變，氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室是連續(xù)光滑連接的，可以是糖球葫蘆狀或橢球加速腔串等可以限制氣體向加速器擴(kuò)散的其它形狀。
[0023]所述的氣體擴(kuò)散室可取消，多個(gè)真空栗并排直接連接到等機(jī)械尺寸或機(jī)械尺寸漸變的束流傳輸管道上。
[0024]所述的高速隔離氣流可取消，特別是在不需要隔離環(huán)境氣體對整個(gè)設(shè)備的影響，
[0025]本發(fā)明的有益效果如下:解決了脫硫脫硝的電子束輻照過程中真空隔離膜的腐蝕難題，解決了高功率束流對真空隔離膜的燒穿問題，實(shí)現(xiàn)了沒有真空隔離膜的加速器束流直接引出應(yīng)用。
【附圖說明】
[0026]圖1本發(fā)明的具有氣體節(jié)流管道、氣體擴(kuò)散室和高速隔離氣流的加速器束流引出裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]圖2本發(fā)明的具有氣體節(jié)流管道和高速隔離氣流的加速器束流引出裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]圖3本發(fā)明的具有氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室漸變結(jié)構(gòu)的加速器束流引出裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]附圖標(biāo)記:1.加速器，2.氣體節(jié)流管道，3.氣體擴(kuò)散室，4.真空栗，5.束流控制操作元件，6.高速隔離氣流，7.束流偏轉(zhuǎn)元件，8.氣體擴(kuò)散限制裝置，9.束流引出口。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式做進(jìn)一步的說明。
[0031]實(shí)施例1
[0032]一種加速器束流引出裝置，如圖1所示，該加速器束流引出裝置包括加速器1、氣體節(jié)流管道2、氣體擴(kuò)散室3、真空栗4、束流控制操作元件5、高速隔離氣流6、束流引出P 9。
[0033]所述加速器I采用高壓靜電電子加速器，其輸出電子能量為0.8MeV，電子流強(qiáng)為
0.3A，用于燃煤電廠煙氣的脫硫脫硝；
[0034]所述氣體節(jié)流管道2采用圓柱形狀，內(nèi)孔徑50mm，長度200mm，共6個(gè)；
[0035]所述氣體擴(kuò)散室3采用圓柱形狀，其軸線垂直于束流運(yùn)動(dòng)方向，內(nèi)徑200mm，長度200mm,共 6 個(gè)。
[0036]所述真空栗4分別采用機(jī)械栗、分子栗和鈦栗，其中機(jī)械栗機(jī)組為4套，依次配置于圖1中的右側(cè)，其抽速為25001/s，還可以采用3套抽速為50001/s的機(jī)械栗；抽速為10001/s的分子栗置于圖1中從左側(cè)數(shù)的第二個(gè)；抽速為10001/s的鈦栗置于圖1中從左側(cè)數(shù)的第一個(gè)；
[0037]所述擴(kuò)束元件采用2個(gè)四極磁鐵，其長度為150mm，其最大磁場梯度為5T/m，置于圖1中從左側(cè)數(shù)的第一個(gè)和第二個(gè)；
[0038]所述束流聚束采用5個(gè)螺線管，其長度為150mm，其最大磁感應(yīng)強(qiáng)度為8000高斯；
[0039]所述高速隔離氣流采用干燥空氣，氣體流速5m/s，沿束流運(yùn)動(dòng)方向的長度為1cm0
[0040]裝置的工作過程為，4套抽速為50001/s的機(jī)械栗或3套抽速為50001/s的機(jī)械栗首先工作，將自右側(cè)數(shù)的第4或第3個(gè)氣體擴(kuò)散室的真空降低為50Pa左右，抽速為10001/s的分子栗作為機(jī)械栗的前級(jí)再工作，將真空進(jìn)一步抽取到10 4Pa,抽速為10001/s的鈦栗作為分子栗的前級(jí)最后工作，將真空進(jìn)一步抽取到10 7Pao真空度達(dá)到10 7Pa后，加速器開始工作并輸出束流，束流通過氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室沒有阻擋地引出到大氣環(huán)境進(jìn)行應(yīng)用，束流運(yùn)動(dòng)過程中不穿過真空隔離膜。
[0041]高速隔離氣流的工作過程為，高速隔離氣流緊貼束流引出口 9，被隔離的環(huán)境氣體接近高速隔離氣流時(shí)，被氣流帶走，不能進(jìn)入束流引出口 9，從而實(shí)現(xiàn)將環(huán)境氣體成分與加速器內(nèi)的氣體成分隔離的功能；束流引出口 9內(nèi)的氣體分子的運(yùn)動(dòng)方向是隨機(jī)的，其中向著高速隔離氣流運(yùn)動(dòng)的氣體分子進(jìn)入氣流內(nèi)時(shí)，大部分被帶走，少部分被碰撞反射回來，此外少部分的高速隔離氣流氣體分子也進(jìn)入束流引出口 9，但總的效果是高速隔離氣流降低束流引出口 9內(nèi)的氣體量，從而實(shí)現(xiàn)對束流引出口 9的真空預(yù)抽功能。
[0042]實(shí)施例2
[0043]一種加速器束流引出裝置，如圖2所示，該加速器束流引出裝置包括加速器1、氣體節(jié)流管道2、真空栗4、束流控制操作元件5、高速隔離氣流6、束流偏轉(zhuǎn)元件7、束流引出口 9。
[0044]所述加速器I采用質(zhì)子直線加速器，其輸出質(zhì)子能量為lGeV，質(zhì)子平均流強(qiáng)為ImA以上，用于散裂中子源或加速器驅(qū)動(dòng)次臨界潔凈核能裝置(ADS);
[0045]所述氣體節(jié)流管道2采用圓柱形狀，內(nèi)孔徑50mm，長度約50米，其中包括90度彎轉(zhuǎn)管道，將水平管道變?yōu)榇怪惫艿溃?br>[0046]所述真空栗4分別采用機(jī)械栗、分子栗和鈦栗，其中抽速為301/s的機(jī)械栗機(jī)組為200套，自右側(cè)的束流引出口 9依次向左配置，抽速為10001/s的分子栗作為機(jī)械栗的前級(jí)配置于圖2中從左側(cè)數(shù)的第二個(gè)，抽速為10001/s的鈦栗作為分子栗的前級(jí)配置于圖2中從左側(cè)數(shù)的第一個(gè)；
[0047]所述束流聚束與擴(kuò)束元件5采用多個(gè)四極磁鐵，四極磁鐵最大磁場梯度為ΙΟΤ/m ;
[0048]所述束流偏轉(zhuǎn)元件7采用90度偏轉(zhuǎn)磁鐵，將束流向下偏轉(zhuǎn)90度；
[0049]所述高速隔離氣流采用普通空氣，氣體流速5m/s，沿束流運(yùn)動(dòng)方向的長度為1cm0
[0050]其工作過程是，200套抽速為301/s的機(jī)械栗機(jī)組首先工作，將其左側(cè)的真空抽取到30Pa左右，抽速為10001/s的分子栗作為機(jī)械栗的前級(jí)配置再工作，將真空抽取到10 4Pa,抽速為10001/s的鈦栗作為分子栗的前級(jí)配置最后工作，將真空抽取到10 7Pa0真空度達(dá)到10 7Pa后，加速器開始工作并輸出束流，束流通過氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室沒有阻擋地引出到大氣環(huán)境進(jìn)行應(yīng)用，束流運(yùn)動(dòng)過程中不穿過真空隔離膜。高速隔離氣流的工作過程與實(shí)施例1的類似，但是沒有隔離環(huán)境氣體成分的需求。
[0051]實(shí)施例3
[0052]一種加速器束流引出裝置，如圖3所示，該加速器束流引出裝置包括加速器1、真空栗4、束流控制操作元件5、氣體擴(kuò)散限制裝置8、束流引出口 9。
[0053]所述加速器I采用大功率電子直線直線加速器，其輸出電子能量為lOMeV，電子平均流強(qiáng)為ImA以上，用于電子輻照；
[0054]所述氣體擴(kuò)散限制裝置8采用不規(guī)則形狀，其中真空栗安置在其橫向尺寸最大的區(qū)域，該區(qū)域相當(dāng)于實(shí)施例1的氣體擴(kuò)散室3，氣體擴(kuò)散限制裝置8中的橫向尺寸小的瓶頸區(qū)域相當(dāng)于實(shí)施例1的氣體節(jié)流管道2。
[0055]所述真空栗4分別采用機(jī)械栗、分子栗和鈦栗，其中抽速為5001/s的機(jī)械栗機(jī)組為15套，自右側(cè)的束流引出口 9依次向左配置；抽速為10001/s的分子栗作為機(jī)械栗的前級(jí)配置于圖1中從左側(cè)數(shù)的第二個(gè)a，抽速為10001/s的鈦栗作為分子栗的前級(jí)配置于圖1中從左側(cè)數(shù)的第一個(gè)；
[0056]所述束流聚束與擴(kuò)束元件采用14個(gè)四極磁鐵和一個(gè)掃描磁鐵，四極磁鐵最大磁場梯度為ΙΟΤ/m ;
[0057]其工作過程是，15套抽速為5001/s的機(jī)械栗機(jī)組首先工作，將其左側(cè)的真空抽取到30Pa左右，抽速為10001/s的分子栗作為機(jī)械栗的前級(jí)配置再工作，將真空抽取到10 4Pa,抽速為10001/s的鈦栗作為分子栗的前級(jí)配置最后工作，將真空抽取到10 7Pa0真空度達(dá)到10 7Pa后，加速器開始工作并輸出束流，束流通過氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室沒有阻擋地引出到大氣環(huán)境進(jìn)行應(yīng)用，束流運(yùn)動(dòng)過程中不穿過真空隔離膜。
[0058]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若對本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其同等技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種加速器束流引出裝置包括加速器、氣體擴(kuò)散限制裝置、真空栗、束流控制操作元件，其特征在于，加速器用于產(chǎn)生和加速帶電粒子束流，束流運(yùn)動(dòng)通過氣體擴(kuò)散限制裝置，束流控制操作元件對帶電粒子束的運(yùn)動(dòng)進(jìn)行控制操作，真空栗逐級(jí)抽取氣體擴(kuò)散限制裝置中的氣體，使得加速器獲得其運(yùn)行所需要的真空條件，氣體擴(kuò)散限制裝置限制加速器外部氣體進(jìn)入加速器內(nèi)部；加速器連接氣體擴(kuò)散限制裝置，真空栗連接氣體擴(kuò)散限制裝置，束流控制操作元件置于氣體擴(kuò)散限制裝置外部或內(nèi)部。從加速器產(chǎn)生和加速的帶電粒子束通過氣體擴(kuò)散限制裝置引出到帶電粒子束的應(yīng)用位置的過程中，不通過真空隔離的薄膜。帶電粒子束的應(yīng)用位置處于普通大氣壓環(huán)境或高氣壓環(huán)境。2.根據(jù)權(quán)利要求1的加速器束流引出裝置，其特征在于，加速器包括束流傳輸管道，束流傳輸管道位于加速器出口或用于不同加速結(jié)構(gòu)之間的連接，其作用是實(shí)現(xiàn)帶電粒子束的傳輸。3.根據(jù)權(quán)利要求1的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體擴(kuò)散限制裝置是一根很長的氣體節(jié)流管道，氣體節(jié)流管道的垂直于束流運(yùn)動(dòng)方向的橫截面尺寸等于或小于加速器的束流傳輸管道；氣體節(jié)流管道上依次開口通過或不通過氣體擴(kuò)散室連接多臺(tái)真空栗，越遠(yuǎn)離氣體節(jié)流管道出口的氣體節(jié)流管道內(nèi)的真空度越高，最高的真空度滿足加速器正常運(yùn)行所需要的。4.根據(jù)權(quán)利要求1的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體擴(kuò)散限制裝置包括多個(gè)較短的氣體節(jié)流管道和多個(gè)氣體擴(kuò)散室，氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室相互交替連接。5.根據(jù)權(quán)利要求3和權(quán)利要求5的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體節(jié)流管道用于限制進(jìn)入加速器的氣體量，并使氣體節(jié)流管道的兩端形成壓強(qiáng)差。6.根據(jù)權(quán)利要求5的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體擴(kuò)散室垂直于束流運(yùn)動(dòng)方向的內(nèi)尺寸大于束流傳輸管道的，一個(gè)氣體擴(kuò)散室連接一個(gè)或多個(gè)真空栗；氣體擴(kuò)散室通過或不通過氣體節(jié)流管道在不同于束流運(yùn)動(dòng)方向上直接連接一個(gè)或多個(gè)氣體擴(kuò)散室。7.根據(jù)權(quán)利要求5的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體擴(kuò)散室使高氣壓端的氣體節(jié)流管道輸入的氣體在其室內(nèi)膨脹擴(kuò)散；其室內(nèi)的大部分氣體被真空栗抽走或進(jìn)入其它的氣體擴(kuò)散室，少部分氣體進(jìn)入低氣壓端的氣體節(jié)流管道或加速器束流傳輸管道或其它的氣體擴(kuò)散室。8.根據(jù)權(quán)利要求5的加速器束流引出裝置，其特征在于，連接相鄰兩個(gè)氣體擴(kuò)散室的氣體節(jié)流管道為I個(gè)或多個(gè)。9.根據(jù)權(quán)利要求5的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體節(jié)流管道和氣體擴(kuò)散室之間沒有明顯的形狀突變，能夠限制氣體向加速器的擴(kuò)散。10.根據(jù)權(quán)利要求1和權(quán)利要求7的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體擴(kuò)散限制裝置由 多個(gè)氣體擴(kuò)散室沿束流運(yùn)動(dòng)方向依次連接組成，相鄰氣體擴(kuò)散室之間通過帶孔隔板隔開。11.根據(jù)權(quán)利要求3、權(quán)利要求5和權(quán)利要求11的加速器束流引出裝置，其特征在于，氣體擴(kuò)散限制裝置出口有高速隔離氣流，高速隔離氣流的運(yùn)動(dòng)方向垂直于帶電粒子束流運(yùn)動(dòng)方向或與其成其它角度。12.根據(jù)權(quán)利要求12的加速器束流引出裝置，其特征在于，高速隔離氣流將氣體擴(kuò)散限制裝置外部的環(huán)境氣體與加速器內(nèi)部的氣體隔離開來，使得加速器內(nèi)部的氣體種類不同于環(huán)境氣體，并且使隔離區(qū)的氣體擴(kuò)散限制裝置的束流出口內(nèi)外形成一定的壓強(qiáng)差，實(shí)現(xiàn)一定的真空預(yù)抽功能。13.根據(jù)權(quán)利要求12的加速器束流引出裝置，其特征在于，高速隔離氣流可以部分或全部電離，形成等離子體流。14.根據(jù)權(quán)利要求1的加速器束流引出裝置，其特征在于，真空栗用于抽取加速器和氣體擴(kuò)散限制裝置內(nèi)的氣體，以獲得加速器正常運(yùn)行所需要的真空條件。15.根據(jù)權(quán)利要求1的加速器束流引出裝置，其特征在于，束流控制操作元件包括聚束元件、擴(kuò)束元件、偏轉(zhuǎn)元件和束流均勾化元件。16.根據(jù)權(quán)利要求16的加速器束流引出裝置，其特征在于，聚束元件的作用是約束束流包絡(luò)小于氣體節(jié)流管道的內(nèi)孔徑，避免或減少束流在傳輸過程中的損失，擴(kuò)束元件的作用是擴(kuò)大束流包絡(luò)或束斑以實(shí)現(xiàn)各種束流的應(yīng)用，偏轉(zhuǎn)元件的作用是使束流運(yùn)動(dòng)軌跡彎轉(zhuǎn)，束流均勻化元件的作用是使束流分布均勻。17.根據(jù)權(quán)利要求1的加速器束流引出裝置，其特征在于，束流的運(yùn)動(dòng)軌跡是直線或曲線；束流運(yùn)動(dòng)軌跡是一條或多條。
【文檔編號(hào)】H05H7/10GK105992449SQ201510087946
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2015年2月26日
【發(fā)明人】李曉粉
【申請人】李曉粉