本發(fā)明涉及測(cè)試圖以及照相機(jī)制造裝置。

背景技術(shù)：

1、已知使用具有既定圖案的圖來調(diào)整光學(xué)系與拍攝元件的位置由此制造照相機(jī)的裝置(例如，專利文獻(xiàn)1)。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2000-165623號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、本發(fā)明的目的在于抑制對(duì)焦點(diǎn)位置的檢測(cè)精度的降低。

3、用于解決問題的方案

4、根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種測(cè)試圖，其用于調(diào)整照相機(jī)，所述測(cè)試圖具備：

5、第一斜面，其具有放射光的圖案；

6、第二斜面，其具有放射光的圖案，并與所述第一斜面相鄰地配置；以及

7、遮光部，其設(shè)置于所述第一斜面與所述第二斜面之間，至少遮斷從所述第一斜面的所述圖案朝向所述第二斜面的光。

8、根據(jù)本發(fā)明的其它方面，提供一種測(cè)試圖，其用于調(diào)整照相機(jī)，所述測(cè)試圖具備：

9、三維塊，其具有斜面；

10、二維塊，其配置為與所述照相機(jī)的光軸正交，并具有放射光的二維圖案；以及

11、輔助遮光部，其設(shè)置于所述三維塊與所述二維塊之間，至少遮斷從所述二維圖案朝向所述三維塊的所述斜面的光。

12、根據(jù)本發(fā)明的其它方面，提供一種測(cè)試圖，其用于調(diào)整照相機(jī)，所述測(cè)試圖具備：

13、外側(cè)塊，其配置于與所述照相機(jī)的視野的中央遠(yuǎn)離的位置；

14、近鄰塊，其與所述外側(cè)塊相鄰；以及

15、遮光部，其在所述外側(cè)塊與所述近鄰塊之間遮斷光，

16、所述外側(cè)塊具有：

17、頂點(diǎn)，其在偏靠所述中央側(cè)的位置被設(shè)置于既定的高度；以及

18、第一斜面，其至少從所述頂點(diǎn)起傾斜，并具有放射光的圖案，

19、所述外側(cè)塊配置為在所述照相機(jī)拍攝時(shí)所述頂點(diǎn)位于所述外側(cè)塊的中心，

20、所述近鄰塊至少具有第二斜面，所述第二斜面具有放射光的圖案并與所述第一斜面相鄰地配置，

21、所述遮光部設(shè)置于所述第一斜面與所述第二斜面之間，并設(shè)置為至少遮斷從所述外側(cè)塊的所述第一斜面朝向所述近鄰塊的所述第二斜面的光。

22、根據(jù)本發(fā)明的其它方面，提供一種照相機(jī)制造裝置，具有：

23、圖支承部，其支承既定的測(cè)試圖；

24、照相機(jī)支承部，其將具有光學(xué)系和拍攝元件的照相機(jī)的至少一部分支承于能夠拍攝所述測(cè)試圖的位置；

25、圖像分析部，其對(duì)拍攝所述測(cè)試圖而成的圖像進(jìn)行分析，來檢測(cè)所述照相機(jī)的焦點(diǎn)位置；以及

26、照相機(jī)調(diào)整機(jī)構(gòu)，其基于所述照相機(jī)的所述焦點(diǎn)位置，來調(diào)整所述光學(xué)系與所述拍攝元件的相對(duì)位置，

27、所述測(cè)試圖具備：

28、第一斜面，其具有放射光的圖案；

29、第二斜面，其具有放射光的圖案，并與所述第一斜面相鄰地配置；以及

30、遮光部，其設(shè)置于所述第一斜面與所述第二斜面之間，至少遮斷從所述第一斜面的所述圖案朝向所述第二斜面的光。

31、根據(jù)本發(fā)明的其它方面，提供一種照相機(jī)制造裝置，具有：

32、圖支承部，其支承既定的測(cè)試圖；

33、照相機(jī)支承部，其將具有光學(xué)系和拍攝元件的照相機(jī)的至少一部分支承于能夠拍攝所述測(cè)試圖的位置；

34、圖像分析部，其對(duì)拍攝所述測(cè)試圖而成的圖像進(jìn)行分析，來檢測(cè)所述照相機(jī)的焦點(diǎn)位置；以及

35、照相機(jī)調(diào)整機(jī)構(gòu)，其基于所述照相機(jī)的所述焦點(diǎn)位置，來調(diào)整所述光學(xué)系與所述拍攝元件的相對(duì)位置，

36、所述測(cè)試圖具備：

37、三維塊，其具有斜面；

38、二維塊，其配置為與所述照相機(jī)的光軸正交，并具有放射光的二維圖案；以及

39、輔助遮光部，其設(shè)置于所述三維塊與所述二維塊之間，至少遮斷從所述二維圖案朝向所述三維塊的所述斜面的光。

40、根據(jù)本發(fā)明的其它方面，提供一種照相機(jī)制造裝置，具有：

41、圖支承部，其支承既定的測(cè)試圖；

42、照相機(jī)支承部，其將具有光學(xué)系和拍攝元件的照相機(jī)的至少一部分支承于能夠拍攝所述測(cè)試圖的位置；

43、圖像分析部，其對(duì)拍攝所述測(cè)試圖而成的圖像進(jìn)行分析，來檢測(cè)所述照相機(jī)的焦點(diǎn)位置；以及

44、照相機(jī)調(diào)整機(jī)構(gòu)，其基于所述照相機(jī)的所述焦點(diǎn)位置，來調(diào)整所述光學(xué)系與所述拍攝元件的相對(duì)位置，

45、所述測(cè)試圖具備：

46、外側(cè)塊，其配置在與所述照相機(jī)的視野的中央遠(yuǎn)離的位置；

47、近鄰塊，其與所述外側(cè)塊相鄰；以及

48、遮光部，其在所述外側(cè)塊與所述近鄰塊之間遮斷光，

49、所述外側(cè)塊具有：

50、頂點(diǎn)，其在偏靠所述中央側(cè)的位置被設(shè)置于既定的高度；以及

51、第一斜面，其至少從所述頂點(diǎn)起傾斜，并具有放射光的圖案，

52、所述外側(cè)塊配置為在所述照相機(jī)拍攝時(shí)所述頂點(diǎn)位于所述外側(cè)塊的中心，

53、所述近鄰塊至少具有第二斜面，所述第二斜面具有放射光的圖案，并與所述第一斜面相鄰地配置，

54、所述遮光部設(shè)置于所述第一斜面與所述第二斜面之間，并設(shè)置為至少遮斷從所述外側(cè)塊的所述第一斜面朝向所述近鄰塊的所述第二斜面的光。

55、發(fā)明的效果

56、根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制對(duì)焦點(diǎn)位置的檢測(cè)精度的降低。

技術(shù)特征：

1.一種測(cè)試圖，其用于調(diào)整照相機(jī)，所述測(cè)試圖具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試圖，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測(cè)試圖，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的測(cè)試圖，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的測(cè)試圖，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的測(cè)試圖，其特征在于，具備：

7.一種測(cè)試圖，其用于調(diào)整照相機(jī)，所述測(cè)試圖具備：

8.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的測(cè)試圖，其特征在于，具備：

9.一種測(cè)試圖，其用于調(diào)整照相機(jī)，所述測(cè)試圖具備：

10.一種照相機(jī)制造裝置，具有：

11.一種照相機(jī)制造裝置，具有：

12.一種照相機(jī)制造裝置，具有：

技術(shù)總結(jié)
抑制對(duì)焦點(diǎn)位置的檢測(cè)精度的降低。測(cè)試圖用于調(diào)整照相機(jī)，測(cè)試圖具備：第一斜面，其具有放射光的圖案；第二斜面，其具有放射光的圖案，并與第一斜面相鄰地配置；以及遮光部，其設(shè)置于第一斜面與第二斜面之間，至少遮斷從第一斜面的圖案朝向第二斜面的光。

技術(shù)研發(fā)人員：根岸真人
受保護(hù)的技術(shù)使用者：長川日本株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21