專(zhuān)利名稱(chēng)：真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于光學(xué)精密儀器技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種真空內(nèi)高穩(wěn)定光學(xué)平臺(tái)的支撐裝置， 尤其是能隔離真空變形和機(jī)組振動(dòng)對(duì)光學(xué)平臺(tái)的影響。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的用于真空環(huán)境下光學(xué)平臺(tái)，由于直接支撐于真空殼體上，受到抽真空時(shí)殼體的抽 真空變形的影響，以及真空機(jī)組運(yùn)行時(shí)機(jī)組振動(dòng)的影響，使光學(xué)平臺(tái)出現(xiàn)漂移和晃動(dòng)；如果 此類(lèi)光學(xué)平臺(tái)對(duì)結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性有較高的要求， 一般采取的措施是1)將真空殼體(特別是支撐 光學(xué)平臺(tái)的部位)加厚，并設(shè)置防變形槽；2)在真空殼體與光學(xué)平臺(tái)支撐聯(lián)接部位設(shè)置阻尼 結(jié)構(gòu)，降低振動(dòng)的傳遞。以上方法的不足之處在于， 一是使真空殼體的厚度、重量增大，導(dǎo) 致加工成本增加，其二是無(wú)法從根本上隔斷真空殼體變形，以及真空機(jī)組運(yùn)行振動(dòng)對(duì)高穩(wěn)定 光學(xué)平臺(tái)的影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置。
本發(fā)明的真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置的真空殼體通過(guò)真空殼體支座直接固定于支撐平 臺(tái)上，光學(xué)平臺(tái)支座與光學(xué)平臺(tái)連接后穿過(guò)真空殼體固定于支撐平臺(tái)上；光學(xué)平臺(tái)支座與真 空殼體采用無(wú)剛性接觸；波紋管的上端法蘭與真空殼體密封連接，波紋管的下端法蘭與光學(xué) 平臺(tái)支座密封連接。
所述的波紋管采用不銹鋼焯接波紋管。
本發(fā)明中的真空環(huán)境下的光學(xué)平臺(tái)與真空殼體的支撐分別采用獨(dú)立的剛性支撐結(jié)構(gòu)，獨(dú) 立的剛性支撐裝置不直接接觸，使真空殼體變形和真空機(jī)組振動(dòng)不能直接傳遞到光學(xué)平臺(tái)； 光學(xué)平臺(tái)支座穿過(guò)真空殼體，并且沒(méi)有剛性接觸；真空殼體與光學(xué)平臺(tái)間由柔性金屬波紋管 聯(lián)接，既保證真空要求，又實(shí)現(xiàn)了剛性隔離，阻止了振動(dòng)的傳遞。
本發(fā)明的真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置使真空環(huán)境下的光學(xué)平臺(tái)不受真空變形和真空機(jī) 組振動(dòng)的影響，具有較高的穩(wěn)定性。


圖1是本發(fā)明的真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。 圖中， l.真空殼體 2.真空殼體支座 3.光學(xué)平臺(tái) 4.光學(xué)平臺(tái)支座 5.波 紋管 6.支撐平臺(tái)
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。
如圖1所示，本發(fā)明的真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置含有真空殼體1、真空殼體支座2、
光學(xué)平臺(tái)3、光學(xué)平臺(tái)支座4、波紋管5、支撐平臺(tái)6。真空殼體1通過(guò)真空殼體支座2直接 支撐于支撐平臺(tái)6上，光學(xué)平臺(tái)3與光學(xué)平臺(tái)支座4相聯(lián)后，穿過(guò)真空殼體l，支撐于支撐 平臺(tái)6上，圓柱狀的金屬波紋管5的上端法蘭與真空殼體1密封法蘭聯(lián)接，波紋管5的下端 法蘭與光學(xué)平臺(tái)支座4密封聯(lián)接；為保證隔振效果，光學(xué)平臺(tái)3、光學(xué)平臺(tái)支座4與真空殼 體1間沒(méi)有直接接觸，利用波紋管的柔性隔離真空殼體1變形和真空機(jī)組振動(dòng)對(duì)光學(xué)平臺(tái)3 的影響；波紋管5采用不銹鋼焊接波紋管。
權(quán)利要求
1.一種真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置，其特征在于所述的支撐裝置的真空殼體(1)通過(guò)真空殼體支座直接固定于支撐平臺(tái)(6)上，光學(xué)平臺(tái)支座(4)與光學(xué)平臺(tái)(3)連接后穿過(guò)真空殼體(1)固定于支撐平臺(tái)(6)上；光學(xué)平臺(tái)支座(4)與真空殼體(1)采用無(wú)剛性接觸；波紋管(5)的上端法蘭與真空殼體(1)密封連接，波紋管(5)的下端法蘭與光學(xué)平臺(tái)支座(4)密封連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置，其特征是所述的波紋管(5)采用 不銹鋼焊接波紋管。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置。本發(fā)明的真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置的真空殼體通過(guò)真空殼體支座直接固定于支撐平臺(tái)上，光學(xué)平臺(tái)支座與光學(xué)平臺(tái)連接后穿過(guò)真空殼體固定于支撐平臺(tái)上；光學(xué)平臺(tái)支座與真空殼體采用無(wú)剛性接觸；波紋管的上端法蘭與真空殼體密封連接，波紋管的下端法蘭與光學(xué)平臺(tái)支座密封連接。本發(fā)明的真空容器內(nèi)光學(xué)平臺(tái)支撐裝置使真空環(huán)境下的光學(xué)平臺(tái)不受真空變形和真空機(jī)組振動(dòng)的影響，具有較高的穩(wěn)定性。
文檔編號(hào)G12B9/00GK101604553SQ20091005929
公開(kāi)日2009年12月16日 申請(qǐng)日期2009年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月15日
發(fā)明者海 周, 峰 景, 朱啟華, 林東暉, 陳良明 申請(qǐng)人:中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心