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絲網(wǎng)印刷機(jī)和清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法

文檔序號(hào):8042097閱讀:343來源:國(guó)知局
專利名稱:絲網(wǎng)印刷機(jī)和清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種絲網(wǎng)印刷機(jī),用于對(duì)具有形成在基板上表面上的電極圖案和在形成于基板上表面的一部分中的各開口的底表面上形成的其它電極圖案的所謂空穴基板進(jìn)行絲網(wǎng)印刷,還涉及一種清潔該絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法。
背景技術(shù)
到目前為止,在各種裝置中已經(jīng)使用一種已知的所謂空穴基板作為輕質(zhì)高密度基板,該空穴基板具有形成在基板上表面上的電極圖案和位于形成在基板上表面的一部分中的各開口(空穴)的底表面上的其它電極圖案(專利文獻(xiàn)1)。在通過絲網(wǎng)印刷將膏劑例如焊膏施加到這種空穴基板的電極圖案的絲網(wǎng)印刷機(jī)中,使用三維掩模構(gòu)件,該三維掩模構(gòu)件包括與基板的上表面接觸的平部分和形成為從平部分突出并嵌入到空穴中的嵌合部。該掩模構(gòu)件具有形成在各平部分上且與布置在基板上表面上的電極圖案(平部分電極圖案)對(duì)應(yīng)的掩模圖案和形成在嵌合部底表面上且與布置在各空穴的底表面上的電極圖案(空穴部電極圖案)對(duì)應(yīng)的其它掩模圖案。因此,能夠在使基板和掩模構(gòu)件保持彼此接觸的同時(shí)對(duì)基板和掩模構(gòu)件進(jìn)行絲網(wǎng)印刷,從而膏劑可以同時(shí)印刷在(轉(zhuǎn)印到)平部分電極圖案和空穴部電極圖案上。相關(guān)技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 JP-A-2008-235761

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的問題然而,當(dāng)執(zhí)行清潔操作以使清潔單元從下方與掩模構(gòu)件接觸、從而去除粘附到掩模構(gòu)件下表面的膏劑殘?jiān)鼤r(shí),可以適當(dāng)?shù)厍鍧崒?duì)應(yīng)于空穴部電極圖案的嵌合部的下表面。 然而,遇到了嵌合部妨礙清潔對(duì)應(yīng)于平部分電極圖案的平部分的下表面的問題,使得平部分不能得到適當(dāng)?shù)厍鍧崱R虼?,本發(fā)明旨在提供一種能夠適當(dāng)?shù)厍鍧嵱糜诳昭ɑ宓娜S掩模構(gòu)件的絲網(wǎng)印刷機(jī),并提供一種用于清潔該絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法。解決問題的手段本發(fā)明的第一模式的絲網(wǎng)印刷機(jī)對(duì)應(yīng)于這樣一種絲網(wǎng)印刷機(jī),該絲網(wǎng)印刷機(jī)使形成在基板上表面上的第一電極圖案和形成在設(shè)置于基板上表面的一部分上的開口的底表面上的第二電極圖案經(jīng)受絲網(wǎng)印刷,該印刷機(jī)包括掩模構(gòu)件,具有分別作為不同區(qū)域的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域和第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,在第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中,對(duì)應(yīng)于第二電極圖案的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在將要嵌合到基板的開口中的嵌合部的底表面上,對(duì)應(yīng)于第一電極圖案的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中;和清潔單元,與掩模構(gòu)件的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中的各嵌合部的下表面接觸,從而清潔第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,并且與掩模構(gòu)件的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的下表面接觸,從而清潔第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域。本發(fā)明的第二模式的絲網(wǎng)印刷機(jī)對(duì)應(yīng)于第一模式的絲網(wǎng)印刷機(jī),其中,第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成;并且第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的所述兩個(gè)區(qū)域中的剩下的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成。本發(fā)明的第三模式的用于清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法對(duì)應(yīng)于這樣一種用于清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法,該絲網(wǎng)印刷機(jī)通過利用掩模構(gòu)件使形成在基板上表面上的第一電極圖案和形成在設(shè)置于基板上表面的一部分上的開口的底表面上的第二電極圖案經(jīng)受絲網(wǎng)印刷,該掩模構(gòu)件具有分別作為不同區(qū)域的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域和第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,在第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中,對(duì)應(yīng)于第二電極圖案的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在將要嵌合到基板的開口的嵌合部的底表面上,對(duì)應(yīng)于第一電極圖案的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中,該清潔方法包括使清潔單元與掩模構(gòu)件的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中的各嵌合部的下表面接觸、從而清潔第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的步驟;和使清潔單元與掩模構(gòu)件的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的下表面接觸、從而清潔第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的步驟。本發(fā)明的第四模式的用于清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法對(duì)應(yīng)于第三模式的用于清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法,其中,第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成;并且第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的所述兩個(gè)區(qū)域中的剩下的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在本發(fā)明中,掩模構(gòu)件具有分別作為不同區(qū)域的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域和第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,在第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中,對(duì)應(yīng)于第二電極圖案的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在將要嵌合到基板的開口(空穴部)中的嵌合部的底表面上, 對(duì)應(yīng)于第一電極圖案的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中。 清潔掩模構(gòu)件的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域和清潔第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域是彼此獨(dú)立地執(zhí)行的。因此,可以在不受第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中的嵌合部妨礙的條件下清潔第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,從而用于空穴基板的三維掩模構(gòu)件能夠被適當(dāng)清潔。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的部分平面圖。圖2(a)是作為本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的印刷對(duì)象的空穴基板的平面圖,(b) 是其側(cè)截面圖。圖3是設(shè)置在本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)中的印刷執(zhí)行部的正視圖。圖4(a)是設(shè)置在本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)中的掩模構(gòu)件的平面圖,(b)是其側(cè)截面圖。圖5是示出本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的控制系統(tǒng)的框圖。
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圖6(a)、(b)、(C)和(d)是設(shè)置在本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)中的掩模構(gòu)件和空穴基板的側(cè)視圖。圖7(a)、(b)、(C)和(d)是設(shè)置在本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)中的掩模構(gòu)件和空穴基板的側(cè)視圖。圖8是示出由本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)執(zhí)行的絲網(wǎng)印刷操作的流程圖。圖9(a)和(b)是用于說明本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的操作的視圖。圖10(a)和(b)是用于說明本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的操作的視圖。圖11(a)和(b)是用于說明本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的操作的視圖。圖12(a)和(b)是用于說明本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的操作的視圖。圖13(a)和(b)是用于說明屬于本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的清潔單元的操作的視圖。
具體實(shí)施例方式下面參照附圖描述實(shí)施本發(fā)明的模式。圖1是本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的部分平面圖;圖2(a)是作為本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的印刷對(duì)象的空穴基板的平面圖,圖 2(b)是該空穴基板的側(cè)截面圖;圖3是設(shè)置在本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)中的印刷執(zhí)行部的正視圖;圖4(a)是設(shè)置在本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)中的掩模構(gòu)件的平面圖,圖4(b) 是該掩模構(gòu)件的側(cè)截面圖;圖5是示出本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的控制系統(tǒng)的框圖;圖 6 (a)、6 (b)、6 (c)、6 (d)和7 (a)、7 (b)、7 (c)、7 (d)是設(shè)置在本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)中的掩模構(gòu)件和空穴基板的側(cè)視圖;圖8是示出由本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)執(zhí)行的絲網(wǎng)印刷操作的流程圖;圖9(a)、9(b)、10(a)、10(b)、ll(a)、ll(b)、12(a)和12(b)是用于說明本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的操作的視圖;以及圖13(a)和13(b)是用于說明屬于本發(fā)明實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)的清潔單元的操作的視圖。在圖1中,本實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)1由以下部分構(gòu)造出基臺(tái)2 ;基板傳送路徑3, 布置在基臺(tái)2上,傳送并定位作為印刷對(duì)象的基板PB ;和印刷執(zhí)行部4,用于對(duì)由基板傳送路徑3定位的基板PB執(zhí)行絲網(wǎng)印刷?;錚B在絲網(wǎng)印刷機(jī)1中的傳送方向被視為X軸方向,在水平面中與X軸方向垂直的方向被視為Y軸方向。垂直方向被視為Z軸方向。在圖2(a)和2(b)中,通過將上層側(cè)基板構(gòu)件12連結(jié)到下層側(cè)基板構(gòu)件11的上表面而形成基板PB。多個(gè)平部分電極12d設(shè)置在上層側(cè)基板構(gòu)件12的上表面上。平部分電極圖案12dp由所述多個(gè)平部分電極12d形成在上層側(cè)基板構(gòu)件12的上表面上。多個(gè)空穴部電極Ild設(shè)置在各空穴CV的底表面(即,下層側(cè)基板構(gòu)件11的上表面)中,空穴CV 是設(shè)置在上層側(cè)基板構(gòu)件12的上表面的一部分中的開口。所述多個(gè)空穴部電極Ild構(gòu)成位于各空穴CV的底表面上的空穴部電極圖案lldp?;錚B是具有形成在上表面(上層側(cè)基板構(gòu)件12的上表面)上的平部分電極圖案12dp(第一電極圖案)和形成在設(shè)置于該上表面的一部分中的開口(空穴部CV)的底表面(下層側(cè)基板構(gòu)件11的上表面)中的空穴部電極圖案Ildp (第二電極圖案)的空穴基板。在圖1中,基板傳送路徑3包括在X軸方向上排成一行的運(yùn)入傳送帶21、定位傳送帶22和運(yùn)出傳送帶23。運(yùn)入傳送帶21將從絲網(wǎng)印刷機(jī)1的外部(圖1紙面的左側(cè))裝入的基板PB傳送到絲網(wǎng)印刷機(jī)1的內(nèi)部,并將基板傳遞到定位傳送帶22。定位傳送帶22將
5從運(yùn)入傳送帶21接收的基板PB在位置上對(duì)準(zhǔn)到預(yù)定位置,并在基板PB已經(jīng)完成絲網(wǎng)印刷之后將基板PB傳遞到運(yùn)出傳送帶23。運(yùn)出傳送帶23將從定位傳送帶22接收到的基板PB 傳送到絲網(wǎng)印刷機(jī)1的外部。在圖3中,印刷執(zhí)行部4包括基板移送單元31,夾緊被保持在定位傳送帶22上的基板PB并使其在水平面內(nèi)的方向上(X軸方向和Y軸方向上)和垂直方向上(Z軸方向上) 移動(dòng);一對(duì)支撐軌32,設(shè)置成沿水平方向(S卩,Y軸方向)在基板移送單元31的上方延伸; 和板狀的掩模構(gòu)件33,由支撐軌32支撐。印刷執(zhí)行部4還包括膏劑供給頭34,設(shè)置成沿水平面內(nèi)的方向在掩模構(gòu)件33的上方移動(dòng)并自由地上升或下降;照相機(jī)單元36,設(shè)置成能夠借助設(shè)置在基臺(tái)2上的XY機(jī)器人35(圖1)沿著水平面內(nèi)的方向在基板移送單元31與掩模構(gòu)件33之間的空間中移動(dòng);和清潔單元37,設(shè)置成能夠沿垂直方向和水平面內(nèi)的方向在支撐軌32的下方移動(dòng),并從下方與掩模構(gòu)件33的下表面接觸,從而在執(zhí)行絲網(wǎng)印刷操作之后清潔掩模構(gòu)件33的下表面上的殘余膏劑。在圖3中,印刷執(zhí)行部4的基板移送單元31包括Y工作臺(tái)31a,相對(duì)于基臺(tái)2在 Y軸方向上相對(duì)移動(dòng);X工作臺(tái)31b,相對(duì)于Y工作臺(tái)3Ia在X軸方向上相對(duì)移動(dòng);Θ工作臺(tái) 31c,相對(duì)于X工作臺(tái)31b圍繞Z軸相對(duì)旋轉(zhuǎn);基臺(tái)板31d,固定到θ工作臺(tái)31c;第一升降板31e,相對(duì)于基臺(tái)板31d相對(duì)地上升或下降;第二升降板31f,相對(duì)于第一升降板31e相對(duì)地上升或下降;支撐單元31g,固定到第二升降板31f ;和一對(duì)夾具31h,在構(gòu)成基板傳送路徑3的定位傳送帶22的上方在Y軸方向上執(zhí)行打開和閉合操作。在圖1以及圖4(a)和4 (b)中,掩模構(gòu)件33的四邊由框架構(gòu)件33w支撐,該框架構(gòu)件33w在從上方觀察時(shí)呈矩形的幾何形狀。作為互不相同區(qū)域的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC 和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF設(shè)置在由框架構(gòu)件33w包圍的矩形區(qū)域內(nèi)。將要嵌入到基板PB 的作為互不相同區(qū)域的相應(yīng)空穴部CV中的多個(gè)向下突出的嵌合部33a形成在空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中。在各嵌合部33a中開有與設(shè)置在下層側(cè)基板構(gòu)件11的上表面(即,空穴部CV的各底表面)上的多個(gè)相應(yīng)空穴部電極Ild對(duì)應(yīng)的多個(gè)圖案孔hl,從而形成空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC。此外,在平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF中開有與設(shè)置在上層側(cè)基板構(gòu)件12的上表面上的多個(gè)平部分電極12d對(duì)應(yīng)的多個(gè)圖案孔h2,從而形成平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF。簡(jiǎn)言之,掩模構(gòu)件33具有作為互不相同區(qū)域的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF。在空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中,與空穴部電極圖案Ildp對(duì)應(yīng)的空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC形成在嵌入到基板PB的各空穴部CV (上層側(cè)基板構(gòu)件12的開口)中的嵌合部33a的各底表面上。與平部分電極圖案12dp對(duì)應(yīng)的平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF形成在平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF中。正如從圖1中看出的,平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF由并排設(shè)置以使平行于基板PB的傳送方向(X軸方向)的掩模構(gòu)件33的中心線CL置于其間的兩個(gè)掩模構(gòu)件33中的一個(gè)構(gòu)成??昭ú繉?duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC由所述并排設(shè)置以使平行于基板PB 的傳送方向的掩模構(gòu)件33的中心線CL置于其間的兩個(gè)掩模構(gòu)件33中的另一個(gè)構(gòu)成。在圖2 (a)和2 (b)中,一對(duì)空穴部側(cè)定位標(biāo)記Ilm設(shè)置在下層側(cè)基板構(gòu)件11的對(duì)角位置。一對(duì)平部分側(cè)定位標(biāo)記iaii設(shè)置在上層側(cè)基板構(gòu)件12的對(duì)角位置。同時(shí),在圖1和圖4(a)中,用于將空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板 PB的空穴部電極圖案Ildp的一對(duì)空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKC對(duì)應(yīng)于空穴部側(cè)定位標(biāo)記Ilm設(shè)置在形成有掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC的對(duì)角位置。用于將平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的平部分電極圖案12dp的一對(duì)平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKF對(duì)應(yīng)于平部分側(cè)定位標(biāo)記Urn設(shè)置在形成有掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的對(duì)角位置。
在圖3中,膏劑供給頭34設(shè)置成能夠相對(duì)于基板移送單元31且在Y軸方向上在支撐軌32的上方移動(dòng)。膏劑供給頭34包括頭主體3 和設(shè)置在頭主體3 的下部且沿著 Y軸方向彼此相對(duì)的兩個(gè)引導(dǎo)構(gòu)件;Mg。每個(gè)引導(dǎo)構(gòu)件34g是抹刀形構(gòu)件,其在X軸方向上延伸,并引導(dǎo)從構(gòu)建在頭主體;Ma中的膏劑盒(未示出)沿向下方向壓送的諸如焊膏和導(dǎo)電膏劑的膏劑,使得膏劑集中地供給到掩模構(gòu)件33的目標(biāo)位置。 在圖1中,XY機(jī)器人35包括Y軸臺(tái)架35a,在Y軸方向上在基臺(tái)2的上方延伸,并設(shè)置成相對(duì)于基臺(tái)2固定;X軸臺(tái)架35b,在X軸方向上延伸,并設(shè)置成能夠沿Y軸方向在Y 軸臺(tái)架3 上方移動(dòng);和致動(dòng)板35c,設(shè)置成能夠沿X軸方向在X軸臺(tái)架3 上方移動(dòng)。在圖3中,照相機(jī)單元36這樣來構(gòu)造將成像面向下指向的第一照相機(jī)36a和成像面向上指向的第二照相機(jī)36b附接到XY機(jī)器人35的致動(dòng)板35c。在圖3中,清潔單元37借助水平拉伸的清潔紙37a從下方與掩模構(gòu)件33的下表面接觸,并且借助一對(duì)輥37b水平地供給清潔紙37a,由此掩模構(gòu)件33的下表面可以得到清潔。由構(gòu)成基板傳送路徑3的運(yùn)入傳送帶21、定位傳送帶22和運(yùn)出傳送帶23執(zhí)行的傳送并定位基板PB的操作借助絲網(wǎng)印刷機(jī)1的控制器40(圖幻來完成,該控制器40控制由未示出的致動(dòng)器構(gòu)成的基板傳送路徑致動(dòng)機(jī)構(gòu)41(圖5)的操作。借助控制器40控制由諸如Y工作臺(tái)致動(dòng)電機(jī)My和X工作臺(tái)致動(dòng)電機(jī)Mx (圖3)的致動(dòng)器構(gòu)成的基板移送單元致動(dòng)機(jī)構(gòu)42 (圖5)的操作,來執(zhí)行操作例如,使Y工作臺(tái)3) a 相對(duì)于基臺(tái)2在Y軸方向上移動(dòng)的操作、使X工作臺(tái)31b相對(duì)于Y工作臺(tái)31a在X軸方向上移動(dòng)的操作、使θ工作臺(tái)31c相對(duì)于X工作臺(tái)31b圍繞Z軸旋轉(zhuǎn)的操作、使第一升降板 31e相對(duì)于基臺(tái)板31d(即,θ工作臺(tái)31c)上升或下降的操作、使第二升降板31f ( S卩,支撐單元31g)相對(duì)于第一升降板31e上升或下降的操作、以及使夾具31h打開和閉合的操作。借助控制器40控制由未示出的致動(dòng)器等構(gòu)成的膏劑供給頭水平致動(dòng)機(jī)構(gòu)43(圖 5)的操作,來執(zhí)行使膏劑供給頭34在水平面內(nèi)的方向上移動(dòng)的操作。借助控制器40控制由未示出的致動(dòng)器等構(gòu)成的膏劑供給頭升降機(jī)構(gòu)44(圖5)的操作,來執(zhí)行使膏劑供給頭 34上升或下降的操作。此外,借助控制器40控制由未示出的致動(dòng)器等構(gòu)成的膏劑供給機(jī)構(gòu) 45(圖幻的操作,來執(zhí)行從膏劑供給頭34供給膏劑的操作。借助控制器40控制由未示出的致動(dòng)器等構(gòu)成的XY機(jī)器人致動(dòng)機(jī)構(gòu)46(圖5)的操作,來執(zhí)行使構(gòu)成XY機(jī)器人35的X軸臺(tái)架3 在Y軸方向上移動(dòng)的操作和使致動(dòng)板35c 在X軸方向上移動(dòng)的操作。在控制器40的控制下,第一照相機(jī)36a捕獲設(shè)置在基板PB的下層側(cè)基板構(gòu)件11 上的空穴部側(cè)定位標(biāo)記Ilm的圖像和設(shè)置在上層側(cè)基板構(gòu)件12上的平部分側(cè)定位標(biāo)記Urn 的圖像。在控制器40的控制下,第二照相機(jī)36b捕獲空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKC 和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKF的圖像。通過第一照相機(jī)36a的圖像捕獲操作獲取的圖像數(shù)據(jù)和通過第二照相機(jī)36b的圖像捕獲操作獲取的圖像數(shù)據(jù)被輸入到控制器40中 (圖 5)。
借助控制器40控制由未示出的致動(dòng)器等構(gòu)成的清潔單元水平致動(dòng)機(jī)構(gòu)47 (圖5) 的操作,來執(zhí)行使清潔單元37在水平面內(nèi)的方向上移動(dòng)的操作。借助控制器40控制由未示出的致動(dòng)器等構(gòu)成的清潔單元升降機(jī)構(gòu)48的操作,來執(zhí)行使清潔單元37上升或下降的操作。此外,借助控制器40控制由未示出的致動(dòng)器等構(gòu)成的清潔操作機(jī)構(gòu)49(圖5)的操作,來執(zhí)行清潔單元37的清潔操作(由一對(duì)輥37b執(zhí)行的供給清潔紙37a的操作)。在利用掩模構(gòu)件33使空穴部電極圖案Ildp經(jīng)受絲網(wǎng)印刷的操作期間,控制器40 首先使基板PB和掩模構(gòu)件33在垂直方向上彼此相對(duì)接近(如圖6 (a)所示的箭頭Al所指示的),同時(shí)使設(shè)置在基板PB的下層側(cè)基板構(gòu)件11上的空穴部側(cè)定位標(biāo)記Ilm和設(shè)置在掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC上的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKC在垂直方向上彼此重合(圖6(a))。然后,控制器40使掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中的嵌合部33a從上方嵌合到基板PB的相應(yīng)的空穴部CV (圖6 (b))。從而,掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC和基板PB的空穴部電極圖案Ildp被定位。接下來,膏劑供給頭34從上方將膏劑PT壓送到空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中的各嵌合部33a。從而,膏劑PT借助構(gòu)成空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC的各圖案孔hi供給到構(gòu)成空穴部電極圖案Ildp的各空穴部電極 Ild(圖6(c))。只要基板PB和掩模構(gòu)件33在垂直方向上彼此相對(duì)分離開(如圖6(d)中的箭頭A2所指示的),膏劑PT就印刷在(轉(zhuǎn)印到)各空穴部電極Ild上(圖6(d))。同時(shí),在利用掩模構(gòu)件33使平部分電極圖案12dp經(jīng)受絲網(wǎng)印刷的操作期間,控制器40首先使基板PB和掩模構(gòu)件33在垂直方向上彼此相對(duì)接近(如圖7(a)所示的箭頭Bl 所指示的),同時(shí)使設(shè)置在基板PB的上層側(cè)基板構(gòu)件12上的平部分側(cè)定位標(biāo)記Urn和設(shè)置在掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF上的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKF在垂直方向上彼此重合(圖7(a))??刂破?0使基板PB與掩模構(gòu)件33接觸(圖7(b))。從而,掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF和基板PB的平部分電極圖案12dp被定位。接下來,膏劑供給頭;34從上方將膏劑PT壓送到平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF。從而,膏劑PT借助構(gòu)成平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF的各圖案孔h2供給到構(gòu)成平部分電極圖案12dp的各平部分電極12d(圖7(c))。只要基板PB和掩模構(gòu)件33在垂直方向上彼此相對(duì)分離開(如圖 7 (d)中的箭頭B2所指示的),膏劑PT就印刷在各平部分電極12d上(圖7 (d))。由于掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF呈平面形狀,因此,即使當(dāng)在膏劑PT 保持印刷在各空穴部電極Ild上的狀態(tài)下掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF與基板 PB的上表面接觸時(shí),空穴部電極Ild上的膏劑PT也不會(huì)妨礙掩模構(gòu)件33。為此,可以在膏劑PT保持印刷在各空穴部電極Ild上的同時(shí),利用掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF 將膏劑PT印刷到平部分電極圖案12dp(參見圖7)。因此,只要膏劑PT印刷到空穴部電極圖案Ildp在膏劑PT印刷到平部分電極圖案12dp之前執(zhí)行,就可以執(zhí)行膏劑PT印刷到空穴部電極圖案Ildp和膏劑PT印刷到平部分電極圖案12dp?,F(xiàn)在利用圖8的流程圖和圖9-12的說明性操作圖描述絲網(wǎng)印刷機(jī)1執(zhí)行絲網(wǎng)印刷的過程。當(dāng)檢測(cè)裝置(未示出)檢測(cè)到操作者(或相對(duì)于絲網(wǎng)印刷機(jī)1安裝在上游位置的未示出的另一設(shè)備)已經(jīng)將基板PB裝入基板傳送路徑3中時(shí),控制器40同步地致動(dòng)運(yùn)入傳送帶21和定位傳送帶22,從而將基板PB傳送到絲網(wǎng)印刷機(jī)1中(圖8所示的步驟 STl)。當(dāng)基板PB被傳送到印刷機(jī)中時(shí),控制器40將基板PB固定到基板移送單元31 (圖
88所示的步驟ST2)。首先,使基板移送單元31的第二升降板31f相對(duì)于第一升降板31e相對(duì)提升(如圖9(a)所示的箭頭Cl所指示的),并使支撐單元31g的上表面與基板PB的下表面接觸,從而使支撐單元31g支撐基板PB (圖9 (a))。在支撐單元31g已經(jīng)支撐基板PB 之后,夾具31h夾緊基板PB,并使第二升降板31f進(jìn)一步提升(如圖9 (b)所示的箭頭C2 所指示的)。從而,支撐單元31g上推基板PB。然后,基板PB上升,同時(shí)其兩端相對(duì)于夾具 3 Ih做可滑動(dòng)運(yùn)動(dòng),從而沿向上方向離開定位傳送帶22。然后,基板PB在基板PB的上表面保持與兩個(gè)夾具31h的上表面同高的同時(shí)固定到基板移送單元31 (圖9(b))。在已經(jīng)完成基板PB的固定之后,控制器40將掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域 MRC在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的空穴部電極圖案Ildp (圖8所示的步驟ST3)。在定位操作期間,控制器40首先控制照相機(jī)單元36的移動(dòng)和第一照相機(jī)36a的圖像捕獲操作,從而獲取與設(shè)置在下層側(cè)基板構(gòu)件11上的空穴部側(cè)定位標(biāo)記Ilm有關(guān)的圖像數(shù)據(jù)并確定空穴部電極圖案Ildp的位置。此外,控制器40控制照相機(jī)單元36的移動(dòng)和第二照相機(jī)36b的圖像捕獲操作,從而獲取與設(shè)置在掩模構(gòu)件33上的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKC有關(guān)的圖像數(shù)據(jù)并確定空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC的位置。在已經(jīng)確定空穴部電極圖案Ildp的位置和空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC的位置之后, 控制器40執(zhí)行使基板移送單元31在水平面內(nèi)的方向上移動(dòng)基板PB的操作,從而將基板PB 放置在掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC正下方的位置。此外,使基板移送單元31 執(zhí)行用于使基板PB在垂直方向上移動(dòng)(即,第一升降板31e的提升)的操作,從而使基板 PB從下方與掩模構(gòu)件33接觸(圖10(a)所示的箭頭C3所指示的)。掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC和基板PB的空穴部電極圖案Ildp在位置上彼此對(duì)準(zhǔn)(圖10 (a))。在已經(jīng)完成使掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的空穴部電極圖案Ildp之后,控制器40執(zhí)行對(duì)空穴部電極圖案Ildp的絲網(wǎng)印刷(圖8所示的步驟ST4)。在用于使空穴部電極圖案Ildp經(jīng)受絲網(wǎng)印刷的操作期間,控制器40首先使膏劑供給頭34移動(dòng)到空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC上方的位置,并將膏劑PT從膏劑供給頭34通過引導(dǎo)構(gòu)件34g之間的空間供給到掩模構(gòu)件33的上表面上(空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC的內(nèi)部),從而使空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC的圖案孔hi填充有膏劑PT (圖10 (b))。在已經(jīng)使空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC的圖案hi填充有膏劑PT之后,控制器40使第一升降板31e下降(如圖11 (a)所示的箭頭C4所指示的)。基板PB和掩模構(gòu)件33彼此分離(圖8所示的步驟ST5)。從而完成了基板與掩模構(gòu)件的分離,由此填充在空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC的各圖案孔hi中的膏劑PT被印刷在空穴部電極圖案Ildp上(圖11(a))。從而完成了與空穴部電極圖案Ildp的絲網(wǎng)印刷工序(第一絲網(wǎng)印刷工序;步驟 ST3至SI^)有關(guān)的處理。然后,執(zhí)行與平部分電極圖案12dp的絲網(wǎng)印刷工序(第二絲網(wǎng)印刷工序;步驟ST6至ST9)有關(guān)的處理。在平部分電極圖案12dp的絲網(wǎng)印刷工序期間,控制器40首先使掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的平部分電極圖案12dp(圖8中所示的步驟 ST6)。在定位操作期間,控制器40首先控制照相機(jī)單元36的移動(dòng)和第一照相機(jī)36a的圖像捕獲操作,從而獲取與設(shè)置在上層側(cè)基板構(gòu)件12上的平部分側(cè)定位標(biāo)記iaii有關(guān)的圖像數(shù)據(jù)并確定平部分電極圖案12dp的位置。此外,控制器40控制照相機(jī)單元36的移動(dòng)和第二照相機(jī)36b的圖像捕獲操作,從而獲取與設(shè)置在掩模構(gòu)件33上的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKF有關(guān)的圖像數(shù)據(jù)并確定平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的位置。在已經(jīng)確定平部分電極圖案12dp的位置和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的位置之后, 控制器40執(zhí)行使基板移送單元31在水平面內(nèi)的方向上移動(dòng)基板PB的操作(如圖11(b)所示的箭頭C5所指示的),從而將基板PB放置在掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF正下方的位置(圖11(b))。此外,使基板移送單元31執(zhí)行在垂直方向上移動(dòng)基板PB(即,第一升降板31e的提升)的操作,從而使基板PB從下方與掩模構(gòu)件33的下表面接觸(如圖 12 (a)所示的箭頭C6所指示的)。掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF和基板PB的平部分電極圖案12dp在位置上彼此對(duì)準(zhǔn)(圖12(a))。正如上面提到的,本實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)1構(gòu)造成,利用設(shè)置在掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的上表面上和上層側(cè)基板構(gòu)件12的上表面上以使掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的平部分電極圖案12dp的第一標(biāo)記(S卩,平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKF和平部分側(cè)定位標(biāo)記12m),使平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF 在位置上對(duì)準(zhǔn)到平部分電極圖案12dp。此外,本實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)1還構(gòu)造成,利用設(shè)置在掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC的上表面上和對(duì)應(yīng)于上層側(cè)基板構(gòu)件12的開口 (空穴部CV)的底表面的下層側(cè)基板構(gòu)件11的上表面上以使掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的空穴部電極圖案Ildp的第二標(biāo)記(即,空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域側(cè)定位標(biāo)記MKC和空穴部側(cè)定位標(biāo)記Ilm),使空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC在位置上對(duì)準(zhǔn)到空穴部電極圖案lldp。簡(jiǎn)言之,采用不同的標(biāo)記使平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF對(duì)準(zhǔn)到平部分電極圖案12dp 以及使空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC對(duì)準(zhǔn)到空穴部電極圖案lldp。在已經(jīng)完成使掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的平部分電極圖案12dp之后,控制器40執(zhí)行使平部分電極圖案12dp經(jīng)受絲網(wǎng)印刷(圖8所示的步驟ST7)。在使平部分電極圖案12dp經(jīng)受絲網(wǎng)印刷的操作期間,控制器40首先使膏劑供給頭34移動(dòng)到平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF上方的位置,并將膏劑PT通過引導(dǎo)構(gòu)件34g之間的空間從膏劑供給頭34供給到掩模構(gòu)件33的上表面上(平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的內(nèi)部), 從而使平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF的圖案孔h2填充有膏劑PT (圖12 (b))。在已經(jīng)使平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF的圖案孔h2填充有膏劑PT之后,控制器40使第一升降板31e下降,從而使基板PB與掩模構(gòu)件33彼此分離(圖8所示的步驟ST8)。從而完成了基板和掩模構(gòu)件的分離,由此填充在平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF中的各圖案孔h2中的膏劑PT印刷在平部分電極圖案12dp上。從而完成了與用于平部分電極圖案12dp的第二絲網(wǎng)印刷工序有關(guān)的處理。在已經(jīng)完成與用于平部分電極圖案12dp的絲網(wǎng)印刷工序有關(guān)的處理之后,控制器40使夾具31h打開,從而使基板PB從基板移送單元31所提供的固定狀態(tài)釋放(圖8所示的步驟ST9)。使第二升降板31f下降,從而將基板PB放置到定位傳送帶22上。然后致動(dòng)基板移送單元31,從而相對(duì)于運(yùn)出傳送帶23調(diào)節(jié)定位傳送帶22的位置。在相對(duì)于運(yùn)出傳送帶23調(diào)節(jié)定位傳送帶22的位置已經(jīng)完成之后,控制器40同步地致動(dòng)定位傳送帶22和運(yùn)出傳送帶23,從而將基板PB運(yùn)出絲網(wǎng)印刷機(jī)1 (圖8所示的步驟ST10)。在基板PB已經(jīng)運(yùn)出之后,控制器40判斷是否有另一基板PB要經(jīng)受絲網(wǎng)印刷(圖 8所示的ST11)。結(jié)果,當(dāng)有另一基板PB要經(jīng)受絲網(wǎng)印刷時(shí),處理返回到步驟ST1,然后該基板PB被運(yùn)入絲網(wǎng)印刷機(jī)中。相反,當(dāng)沒有基板PB要經(jīng)受絲網(wǎng)印刷時(shí),與一系列絲網(wǎng)印刷工序有關(guān)的處理就完成了。如果控制器40已經(jīng)先對(duì)平部分電極圖案12dp執(zhí)行了絲網(wǎng)印刷,則在后面要執(zhí)行的使用于空穴部電極圖案Ildp的掩模構(gòu)件33 (空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC)與基板PB接觸的操作中將出現(xiàn)之前印刷到平部分電極圖案12dp的膏劑PT粘附到掩模構(gòu)件33的下表面的問題。相反,在本實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)1中,控制器40使掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的空穴部電極圖案lldp,隨后執(zhí)行與對(duì)空穴部電極圖案 Ildp執(zhí)行絲網(wǎng)印刷的工序(第一絲網(wǎng)印刷工序)有關(guān)的處理。然后,控制器使掩模構(gòu)件33 的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF在位置上對(duì)準(zhǔn)到基板PB的平部分電極圖案12dp,隨后執(zhí)行與對(duì)平部分電極圖案12dp執(zhí)行絲網(wǎng)印刷的工序(第二絲網(wǎng)印刷工序)有關(guān)的處理。因此,可以防止出現(xiàn)例如上面提到的問題。在控制器40已經(jīng)完成了與一系列絲網(wǎng)印刷工序有關(guān)的處理之后,清潔單元37清潔掩模構(gòu)件33的下表面。在掩模構(gòu)件33的下表面的清潔期間,清潔空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域 MRC和清潔平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF是彼此獨(dú)立執(zhí)行的。如圖13 (a)所示,掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC是這樣來清潔的使清潔構(gòu)件37的清潔紙37a與空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中的嵌合部33a的底表面的下表面接觸,在清潔單元37沿著水平面內(nèi)的任意方向移動(dòng)(如圖13(a)中的箭頭Dl所指示的)的同時(shí)利用一對(duì)輥37b饋送清潔紙37a,并去除粘附到空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC的下表面的殘余膏劑PT(第一清潔工序)。此外,如圖13(b)所示,掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域 MRF是這樣來清潔的使清潔單元37的清潔紙37a與平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的下表面接觸,在清潔單元37沿著水平面內(nèi)的任意方向移動(dòng)(如圖13(b)中的箭頭D2所指示的)的同時(shí)利用一對(duì)輥37b饋送清潔紙37a,并去除粘附到平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的下表面的殘余膏劑PT(第二清潔工序)。如上所述,本實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)1系用于對(duì)形成在基板PB的上表面上的平部分電極圖案12dp(第一電極圖案)和形成在空穴部CV的各底表面上的空穴部電極圖案 Ildp (第二電極圖案)執(zhí)行絲網(wǎng)印刷,其中空穴部CV是形成在基板PB的上表面的一部分中的開口。絲網(wǎng)印刷機(jī)具有掩模構(gòu)件33和清潔單元37。掩模構(gòu)件33包括作為單獨(dú)區(qū)域的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC (第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域)和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF (第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域),在空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中,對(duì)應(yīng)于空穴部電極圖案Ildp的空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC(第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案)形成在將要嵌入到空穴部CV中的嵌合部33a的底表面上,對(duì)應(yīng)于平部分電極圖案12dp的平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF(第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案)形成在平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF中。清潔單元37與掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC內(nèi)的嵌合部33a的下表面(底表面)接觸,從而清潔空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC。清潔單元37還與掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的下表面接觸,從而清潔平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF。本實(shí)施例的清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)1的方法是一種用于絲網(wǎng)印刷機(jī)1的清潔方法,該絲
11網(wǎng)印刷機(jī)1利用掩模構(gòu)件33對(duì)形成在基板PB的上表面上的平部分電極圖案12dp(第一電極圖案)和形成在空穴部CV的各底表面上的空穴部電極圖案Ildp(第二電極圖案)執(zhí)行絲網(wǎng)印刷,其中空穴部CV是設(shè)置在基板PB的上表面的一部分中的開口。掩模構(gòu)件33包括作為單獨(dú)區(qū)域的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC(第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域)和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF (第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域),在空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中,對(duì)應(yīng)于空穴部電極圖案Ildp的空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC(第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案)形成在將要嵌入到空穴部CV中的嵌合部33a的底表面上,對(duì)應(yīng)于平部分電極圖案12dp的平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF(第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案)形成在平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF中。該清潔方法包括使清潔單元37與掩模構(gòu)件33的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中的各嵌合部33a的下表面 (底表面)接觸,從而清潔空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC的步驟(第一清潔步驟);以及使清潔單元37與掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的下表面接觸,從而清潔平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF的清潔步驟(第二清潔步驟)。在本實(shí)施例的絲網(wǎng)印刷機(jī)1和清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)1的方法中,掩模構(gòu)件33包括作為單獨(dú)區(qū)域的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF,在空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域 MRC中,對(duì)應(yīng)于空穴部電極圖案Ildp的空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案MPC形成在將要嵌入到基板PB 的開口(空穴部CV)中的嵌合部33a的底表面上,平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF中形成有對(duì)應(yīng)于平部分電極圖案12dp的平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案MPF。清潔掩模構(gòu)件33的平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF和清潔空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC是彼此獨(dú)立地執(zhí)行的。因此,可以在不受空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRC中的嵌合部33a妨礙的條件下清潔平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域MRF,從而用于空穴基板的三維掩模構(gòu)件33能夠被適當(dāng)清潔。雖然已經(jīng)描述了本發(fā)明的實(shí)施例,但是本發(fā)明不限于前面的實(shí)施例。例如,本實(shí)施例示出基板PB是通過將兩個(gè)基板構(gòu)件(下層側(cè)基板構(gòu)件11和上層側(cè)基板構(gòu)件12)結(jié)合在一起而制成的空穴基板。然而,作為本發(fā)明的對(duì)象的基板PB不局限于任何特定的結(jié)構(gòu),而是對(duì)基板PB的必要要求是該基板要具有形成在空穴部CV的各底表面上的空穴部電極圖案 Ildp和形成在基板上表面上的平部分電極圖案12dp,其中空穴部CV設(shè)置為位于基板PB的上表面上的開口。膏劑供給方式也可以是通過一開放刮板來供給膏劑的方式,而不限于膏劑盒。本專利申請(qǐng)基于2009年3月16日提交的日本專利申請(qǐng)(JP-2009-062316),這里將其全部公開內(nèi)容引入作為參考。工業(yè)實(shí)用性提供了一種能夠適當(dāng)?shù)厍鍧嵱糜诳昭ɑ宓娜S掩模構(gòu)件的絲網(wǎng)印刷機(jī)和一種清潔該絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法。附圖標(biāo)記和符號(hào)說明1絲網(wǎng)印刷機(jī)Ildp空穴部電極圖案(第二電極圖案)12dp平部分電極圖案(第一電極圖案)33掩模構(gòu)件33a嵌合部37清潔單元
MPC空穴部對(duì)應(yīng)掩模圖案(第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案)MPF平部分對(duì)應(yīng)掩模圖案(第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案)MRC空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域)MRF平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域)PB 基板CV空穴部(開口)CL掩模構(gòu)件的中心線
權(quán)利要求
1.一種絲網(wǎng)印刷機(jī),使形成在基板的上表面上的第一電極圖案和形成在設(shè)置于基板的上表面的一部分上的開口的底表面上的第二電極圖案經(jīng)受絲網(wǎng)印刷,該印刷機(jī)包括掩模構(gòu)件,具有分別作為不同區(qū)域的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域和第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,在第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中,對(duì)應(yīng)于第二電極圖案的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在將要嵌合到基板的開口的嵌合部的底表面上,對(duì)應(yīng)于第一電極圖案的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中;和清潔單元,與掩模構(gòu)件的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中的各嵌合部的下表面接觸,從而清潔第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,并且與掩模構(gòu)件的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的下表面接觸,從而清潔第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的絲網(wǎng)印刷機(jī),其中,第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成;并且第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的所述兩個(gè)區(qū)域中的剩下的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成。
3.一種用于清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法,該絲網(wǎng)印刷機(jī)通過利用掩模構(gòu)件使形成在基板的上表面上的第一電極圖案和形成在設(shè)置于基板的上表面的一部分上的開口的底表面上的第二電極圖案經(jīng)受絲網(wǎng)印刷,該掩模構(gòu)件具有分別作為不同區(qū)域的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域和第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域,在第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中,對(duì)應(yīng)于第二電極圖案的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在將要嵌合到基板的開口的嵌合部的底表面上,對(duì)應(yīng)于第一電極圖案的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模圖案形成在第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中,該清潔方法包括使清潔單元與掩模構(gòu)件的第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域中的各嵌合部的下表面接觸、從而清潔第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的步驟;和使清潔單元與掩模構(gòu)件的第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的下表面接觸、從而清潔第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域的步驟。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的用于清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法,其中,第一電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成;并且第二電極圖案對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域由掩模構(gòu)件的并排設(shè)置以使平行于基板傳送方向的掩模構(gòu)件的中心線置于其間的所述兩個(gè)區(qū)域中的剩下的一個(gè)區(qū)域構(gòu)成。
全文摘要
提供了一種能夠成功地清潔針對(duì)空穴基板的立體掩模構(gòu)件的絲網(wǎng)印刷機(jī)和一種清潔絲網(wǎng)印刷機(jī)的方法。掩模構(gòu)件(33)設(shè)置有作為單獨(dú)區(qū)域的空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRC)和平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRF),在空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRC)中,對(duì)應(yīng)于空穴部電極圖案(11dp)的掩模圖案(MPC)形成在嵌合到空穴部(CV)中的嵌合部(33a)的底表面上,對(duì)應(yīng)于平部分電極圖案(12dp)的掩模圖案(MPF)形成在平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRF)中。清潔裝置(37)與空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRC)內(nèi)的嵌合部(33a)的下表面接觸以清潔空穴部對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRC),并與平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRF)的下表面接觸以清潔平部分對(duì)應(yīng)掩模區(qū)域(MRF)。
文檔編號(hào)H05K3/34GK102202891SQ20108000312
公開日2011年9月28日 申請(qǐng)日期2010年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月16日
發(fā)明者田中哲矢, 阿部成孝 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社
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