一種抗電磁波有基材ab膠膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及粘膠技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種抗電磁波有基材AB膠膜。
【背景技術(shù)】
[0002]目前市場上提供的應(yīng)用于鋼化玻璃的AB膠，其主要是以PET為基材，基材的一面是硅膠，基材的另一面是其他粘膠材料。
[0003]該AB膠生產(chǎn)工藝主要是:先在PET基材的一面上涂布粘膠材料后覆上鋼化玻璃膜，然后在PET基材的另一面涂布硅膠并與手機等移動終端貼合。手機等移動終端在使用的過程中常常存在電磁波，但是現(xiàn)有的AB膠普遍存在抗電磁波性能差的缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點和不足，本實用新型的目的在于提供一種抗電磁波有基材AB膠膜，其具有良好的抗電磁性能，且能夠自動排氣，貼合效果好。
[0005]本實用新型的目的通過下述技術(shù)方案實現(xiàn):一種抗電磁波有基材AB膠膜，包括基材層、設(shè)于基材層的上表面的粘著劑層、設(shè)于粘著劑層的上表面的離型膜層、設(shè)于基材層的下表面的硅膠層以及設(shè)于硅膠層的下表面的剝離層，所述基材層的內(nèi)部包含顆粒大小為納米級的金屬粉體。
[0006]其中，所述離型膜層的剝離力小于所述剝離層的剝離力。
[0007]其中，所述粘著劑層為丙烯酸類、有機硅類或聚氨酯類材料層。
[0008]其中，所述離型膜層為PET膜層，離型膜層的透光率大于86%。
[0009]其中，所述剝離層為PET、PE或0ΡΡ膜層，剝離層的透光率大于86%。
[0010]其中，所述基材層為PET聚酯薄膜基材層。
[0011]其中，所述離型膜層的厚度為30-60μπι，所述粘著劑層的厚度為35-50μπι。
[0012]其中，所述基材層的厚度為30-100μπι。
[0013]其中，所述硅膠層的厚度為35_50μπι。
[0014]其中，所述剝離層的厚度為20_70μπι。
[0015]其中，所述離型膜層和剝離層的邊角處均設(shè)有手撕部。
[0016]其中，所述金屬粉體的粒徑為20-100nm。
[0017]其中，所述剝離層的下表面設(shè)有十字標(biāo)識體。
[0018]本實用新型的有益效果在于:本實用新型的基材層的內(nèi)部包含顆粒大小為納米級的金屬粉體，抗電磁性能良好;在本實用新型的使用過程中，先將離型膜層撕開，在粘著劑層的表面貼合鋼化玻璃，利用粘著劑層的強粘接力，使粘著劑層與鋼化玻璃緊密貼合，然后將剝離層撕開，將硅膠層貼合于手機等移動終端產(chǎn)品上，硅膠層具有自動排氣的功能，內(nèi)部不會產(chǎn)生氣泡，貼合效果好，從而使手機等移動終端產(chǎn)品的表面可穩(wěn)定地覆蓋鋼化玻璃，保護移動終端產(chǎn)品的屏幕不被刮花，提高移動終端產(chǎn)品的表面抗沖擊性能。
【附圖說明】
[0019]圖1是本實用新型的示意圖。
[0020]圖2是本實用新型的仰視圖。
[0021]附圖標(biāo)記為:1一基材層、2—粘著劑層、3—離型膜層、4 一硅膠層、5—剝離層、6—手撕部、7—十字標(biāo)識體。
【具體實施方式】
[0022]為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解，下面結(jié)合實施例及附圖1對本實用新型作進一步的說明，實施方式提及的內(nèi)容并非對本實用新型的限定。
[0023]見圖1，一種抗電磁波有基材AB膠膜，包括基材層1、設(shè)于基材層1的上表面的粘著劑層2、設(shè)于粘著劑層2的上表面的離型膜層3、設(shè)于基材層1的下表面的硅膠層4以及設(shè)于硅膠層4的下表面的剝離層5，所述基材層1的內(nèi)部包含顆粒大小為納米級的金屬粉體。
[0024]本實用新型的基材層1的內(nèi)部包含顆粒大小為納米級的金屬粉體，抗電磁性能良好;在本實用新型的使用過程中，先將離型膜層3撕開，在粘著劑層2的表面貼合鋼化玻璃，利用粘著劑層2的強粘接力，使粘著劑層2與鋼化玻璃緊密貼合，然后將剝離層5撕開，將硅膠層4貼合于手機等移動終端產(chǎn)品上，硅膠層4具有自動排氣的功能，內(nèi)部不會產(chǎn)生氣泡，貼合效果好，從而使手機等移動終端產(chǎn)品的表面可穩(wěn)定地覆蓋鋼化玻璃，保護移動終端產(chǎn)品的屏幕不被刮花，提高移動終端產(chǎn)品的表面抗沖擊性能。
[0025]其中，所述離型膜層3的剝離力小于所述剝離層5的剝離力。這樣的設(shè)計更便于撕下離型膜層3，同時避免剝離層5與硅膠層4分離。
[0026]其中，所述粘著劑層2為丙烯酸類、有機硅類或聚氨酯類材料層。具體地，所述粘著劑層2為有機硅類材料層，其粘接性能好。
[0027]其中，所述離型膜層3為PET膜層，離型膜層的透光率大于86%JET膜的價格相對較為便宜，成本低。
[0028]其中，所述剝離層5為PET、PE或0ΡΡ膜層，剝離層5的透光率大于86%。具體地，所述剝離層5為PET膜層，PET膜的價格相對較為便宜，能夠有效降低產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。
[0029]其中，所述基材層1為PET聚酯薄膜基材層1。具體地，所述PET聚酯薄膜基材層1的透光率為90%，其經(jīng)過電暈處理增加了表面附著力，便于粘著劑層2和硅膠層4的附著粘連。
[0030]其中，所述離型膜層3的厚度為30-60μπι，所述粘著劑層2的厚度為35-50μπι。具體地，所述離型膜層3的厚度為35μπι，所述粘著劑層2的厚度為40μπι。離型膜層3和粘著劑層2的厚度適中，確保制得的ΑΒ膠膜的整體厚度較薄。
[0031]其中，所述基材層1的厚度為30-100μπι。具體地，所述基材層1的厚度為50μπι?；膶?的厚度適中，確保制得的ΑΒ膠膜的整體厚度較薄。
[0032]其中，所述硅膠層4的厚度為35_50μπι。具體地，所述硅膠層4的厚度為40μπι。和硅膠層4的厚度適中，確保制得的ΑΒ膠膜的整體厚度較薄。
[0033]其中，所述剝離層5的厚度為20_70μπι。具體地，所述剝離層5的厚度為35μπι。剝離層5的厚度適中，確保制得的ΑΒ膠膜的整體厚度較薄。
[0034]其中，所述離型膜層3和剝離層5的邊角處均設(shè)有手撕部6。手撕部6的設(shè)置便于使用者將離型膜層或者剝離層撕下，方便實用。
[0035]其中，所述金屬粉體的粒徑為20-100nm。金屬粉體的粒徑大小適中，粒徑過小則打磨成本高，粒徑過大則會降低基材層1的透光性，影響AB膠膜的透光率。
[0036]其中，所述剝離層5的下表面設(shè)有十字標(biāo)識體7。十字標(biāo)識體7便于使用者區(qū)分剝離層5和離型膜層3，避免反方向使用AB膠膜，同時，在AB膠膜與鋼化玻璃貼合時，十字標(biāo)識體7能起到一定的對位作用，便于貼合。
[0037]上述實施例為本實用新型較佳的實現(xiàn)方案，除此之外，本實用新型還可以其它方式實現(xiàn)，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下任何顯而易見的替換均在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:包括基材層、設(shè)于基材層的上表面的粘著劑層、設(shè)于粘著劑層的上表面的離型膜層、設(shè)于基材層的下表面的硅膠層以及設(shè)于硅膠層的下表面的剝離層，所述基材層的內(nèi)部包含顆粒大小為納米級的金屬粉體。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述離型膜層的剝離力小于所述剝離層的剝離力。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述粘著劑層為丙烯酸類、有機硅類或聚氨酯類材料層。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述離型膜層為PET膜層，離型膜層的透光率大于86%。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述剝離層為PET、PE或OPP膜層，剝離層的透光率大于86%。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述基材層為PET聚酯薄膜基材層。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材AB膠膜，其特征在于:所述離型膜層的厚度為30-60μπι，所述粘著劑層的厚度為35-50μπι。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材ΑΒ膠膜，其特征在于:所述基材層的厚度為 30-100μηι。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材ΑΒ膠膜，其特征在于:所述硅膠層的厚度為 35-50μηι。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種抗電磁波有基材ΑΒ膠膜，其特征在于:所述剝離層的厚度為 20-70μηι。
【專利摘要】本實用新型涉及粘膠技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種抗電磁波有基材AB膠膜，包括基材層、設(shè)于基材層的上表面的粘著劑層、設(shè)于粘著劑層的上表面的離型膜層、設(shè)于基材層的下表面的硅膠層以及設(shè)于硅膠層的下表面的剝離層，所述基材層的內(nèi)部包含顆粒大小為納米級的金屬粉體，其具有良好的抗電磁性能，且能夠自動排氣，貼合效果好。
【IPC分類】B32B7/06, B32B33/00, B32B15/02, B32B7/10, B32B27/06, B32B25/08, B32B3/08, B32B27/36, B32B27/04
【公開號】CN205130535
【申請?zhí)枴緾N201520842003
【發(fā)明人】林凱
【申請人】東莞市納利光學(xué)材料有限公司
【公開日】2016年4月6日
【申請日】2015年10月28日