一種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種冶金蒸餾用匯流盤，用于真空蒸餾冶金爐進(jìn)行合金分離，屬于有色金屬真空冶金技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]真空蒸餾冶金分離爐通常用來分離提純有色金屬。真空蒸餾冶金分離爐主要由爐底盤、水冷電極、發(fā)熱體、蒸發(fā)盤、冷凝罩、進(jìn)出料管、爐殼、爐蓋及真空栗等構(gòu)成。爐底盤、爐殼、進(jìn)出料管及水冷電極組成的體系在真空栗的作用下形成一個(gè)真空系統(tǒng)。分離爐工作時(shí)，液態(tài)合金物料通過進(jìn)料管送入分離爐后，依次進(jìn)入各級(jí)蒸發(fā)盤中，通過電極傳導(dǎo)低電壓高電流的交流電至發(fā)熱體產(chǎn)生的高熱量對(duì)蒸發(fā)盤內(nèi)的液態(tài)合金進(jìn)行蒸餾分離，根據(jù)金屬不同的沸點(diǎn)會(huì)產(chǎn)生多種產(chǎn)品。低沸點(diǎn)金屬變?yōu)闅鈶B(tài)揮發(fā)出來，在冷凝罩上冷凝為液態(tài)，根據(jù)冷凝罩?jǐn)?shù)量及安裝位置不同，可得到不同的揮發(fā)產(chǎn)品，未被蒸發(fā)的高沸點(diǎn)殘留金屬以液態(tài)形式流出。因此，有必要設(shè)計(jì)一種裝置將不同成分的揮發(fā)產(chǎn)品及殘留產(chǎn)品區(qū)別開來，將相似產(chǎn)品匯集在一起，并支撐蒸發(fā)盤及冷凝罩。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是為了解決上述問題，提供一種真空蒸餾冶金爐用匯流盤，將分離后的不同金屬產(chǎn)品區(qū)別開，將相似產(chǎn)品匯集在一起，并通過匯流盤支撐環(huán)來固定并支撐匯流盤上其它零部件。
[0004]本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0005]—種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，本實(shí)用新型特征在于:包括環(huán)形的盤體和設(shè)在盤體內(nèi)圈的支撐環(huán)臺(tái)，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)中心并同時(shí)位于盤體中心的發(fā)熱體穿入孔，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)及匯流槽上的物料流出孔，設(shè)在盤體上位于不同圓弧線上的匯流槽，設(shè)在匯流槽之間的支撐環(huán)，以及設(shè)在匯流槽上物料流出孔底部的滴嘴。
[0006]本實(shí)用新型匯流槽數(shù)量至少為2個(gè)。
[0007]本實(shí)用新型滴嘴設(shè)在盤體底部并環(huán)繞物料流出孔，滴嘴直徑大于物料流出孔直徑，滴嘴低于或者高于盤體的底面，即采用凹陷結(jié)構(gòu)或者是凸出結(jié)構(gòu)，滴嘴數(shù)量至少為I個(gè)。
[0008]本實(shí)用新型開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)上的物料流出孔直徑大于開設(shè)在匯流槽上物料流出孔的直徑。
[0009]與盤體不在同一平面的滴嘴可有效防止金屬液沿著匯流盤底部向四周擴(kuò)散，造成設(shè)備故障。
[0010]合金物料在分離過程中，低沸點(diǎn)金屬受熱后揮發(fā)出來在冷凝罩上冷凝為金屬液體，并順著冷凝罩流下在匯流槽中匯集后通過滴嘴流入出料管。未蒸發(fā)的金屬液體通過物料流出孔排出。
[0011]本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):通過物料流出孔和匯流槽將不同產(chǎn)品區(qū)別開，易蒸發(fā)金屬蒸發(fā)出來后在冷凝罩上冷凝為金屬液體，在匯流槽中收集后通過滴嘴流入出料管，未蒸發(fā)的金屬液體通過物料流出孔排出；匯流槽上設(shè)有支撐環(huán)，支撐環(huán)上可安裝冷凝罩，通過確定支撐環(huán)的位置可固定冷凝罩位置；滴嘴可有效防止金屬液沿著匯流盤底部向四周擴(kuò)散，造成設(shè)備故障。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實(shí)用新型的實(shí)施例一組成結(jié)構(gòu)圖；
[0013]圖2是本實(shí)用新型的實(shí)施例二組成結(jié)構(gòu)圖；
[0014]圖3是圖1中A-A剖面圖；
[0015]圖4為匯流盤與周圍零部件安裝示意圖。其中序號(hào)I為爐殼，2冷凝罩，3蒸發(fā)盤，4發(fā)熱體。5支承座，6爐底盤，7出料管，8電極，9真空栗，10匯流盤，11進(jìn)料管。
[0016]附圖標(biāo)記說明:1一盤體；2—發(fā)熱體穿入孔；3—物料流出孔；4一支撐環(huán)臺(tái)；5—匯流槽；6—支撐環(huán)；7—滴嘴。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例方式，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0018]實(shí)施例1
[0019]如圖1、圖3及圖4所示，一種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，本實(shí)用新型特征在于:包括圓環(huán)形的盤體I和設(shè)在盤體I內(nèi)圈的支撐環(huán)臺(tái)4，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)4中心并同時(shí)位于盤體I中心的發(fā)熱體穿入孔2，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)4及匯流槽5上的物料流出孔3，設(shè)在盤體I上位于不同圓弧線上的匯流槽5，設(shè)在匯流槽5之間的支撐環(huán)6，以及設(shè)在匯流槽5上物料流出孔3底部的滴嘴7。
[0020]本實(shí)用新型匯流槽5數(shù)量為4個(gè)。
[0021]本實(shí)用新型滴嘴7設(shè)在盤體I底部并環(huán)繞物料流出孔3，滴嘴7直徑大于物料流出孔3直徑，滴嘴7低于盤體I的底面，即采用凹陷結(jié)構(gòu)，滴嘴7數(shù)量為2個(gè)。
[0022]本實(shí)用新型開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)4上的物料流出孔3直徑大于開設(shè)在匯流槽5上物料流出孔3的直徑。
[0023]匯流盤穿過石墨發(fā)熱體，與爐底盤上支撐裝置相連，使匯流盤與爐底水平、與發(fā)熱體垂直，匯流盤上安裝蒸發(fā)盤疊層支撐座及蒸發(fā)盤疊層。分離時(shí)低沸點(diǎn)金屬揮發(fā)出來在冷凝罩上冷凝為液體，在匯流槽中匯集通過凹形滴嘴流入出料管，未蒸發(fā)的金屬液體則沿著物料流出孔排出。
[0024]實(shí)施例2
[0025]如圖2及圖4所示，一種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，本實(shí)用新型特征在于:包括矩形環(huán)形的盤體I和設(shè)在盤體I圓形內(nèi)圈的支撐環(huán)臺(tái)4，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)4中心并同時(shí)位于盤體I中心的發(fā)熱體穿入孔2，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)4及匯流槽5上的物料流出孔3，設(shè)在盤體I上位于不同圓弧線上的匯流槽5，設(shè)在匯流槽5之間的支撐環(huán)6，以及設(shè)在匯流槽5上物料流出孔3底部的滴嘴7。
[0026]本實(shí)用新型匯流槽5數(shù)量為3個(gè)。
[0027]本實(shí)用新型在支撐環(huán)6上安裝有冷凝罩。
[0028]本實(shí)用新型滴嘴7設(shè)在盤體I底部并環(huán)繞物料流出孔3，滴嘴7直徑大于物料流出孔3直徑，滴嘴7高于盤體I的底面，即采用凸出結(jié)構(gòu)，滴嘴7數(shù)量為I個(gè)。
[0029]本實(shí)用新型開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)4上的物料流出孔3直徑大于開設(shè)在匯流槽5上物料流出孔3的直徑。
[0030]匯流盤穿過石墨發(fā)熱體，與爐底盤上支撐裝置相連，使匯流盤與爐底水平、與發(fā)熱體垂直，匯流盤上安裝蒸發(fā)盤疊層支撐座及蒸發(fā)盤疊層。分離時(shí)低沸點(diǎn)金屬揮發(fā)出來在冷凝罩上冷凝為液體，在匯流槽中匯集通過凹形滴嘴流入出料管，未蒸發(fā)的金屬液體則沿著物料流出孔排出。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，其特征在于:包括環(huán)形的盤體(I)和設(shè)在盤體(O內(nèi)圈的支撐環(huán)臺(tái)(4)，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)(4)中心并同時(shí)位于盤體(I)中心的發(fā)熱體穿入孔(2 )，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)(4 )及匯流槽(5 )上的物料流出孔(3 )，設(shè)在盤體(I)上位于不同圓弧線上的匯流槽(5 )，設(shè)在匯流槽(5 )之間的支撐環(huán)(6 )，以及設(shè)在匯流槽(5 )上物料流出孔(3)底部的滴嘴(7)。2.—種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，其特征在于:匯流槽(5)數(shù)量至少為2個(gè)。3.—種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，其特征在于:滴嘴(7)設(shè)在盤體(I)底部并環(huán)繞物料流出孔(3)，滴嘴(7)直徑大于物料流出孔(3)直徑，滴嘴(7)低于或者高于盤體(I)的底面，即采用凹陷結(jié)構(gòu)或者是凸出結(jié)構(gòu)，滴嘴(7)數(shù)量至少為I個(gè)。4.一種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，其特征在于:開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)(4)上的物料流出孔(3 )直徑大于開設(shè)在匯流槽(5 )上物料流出孔(3 )的直徑。
【專利摘要】一種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤，包括環(huán)形的盤體(1)和設(shè)在盤體(1)內(nèi)圈的支撐環(huán)臺(tái)(4)，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)(4)中心并同時(shí)位于盤體(1)中心的發(fā)熱體穿入孔(2)，開設(shè)在支撐環(huán)臺(tái)(4)及匯流槽(5)上的物料流出孔(3)，設(shè)在盤體(1)上位于不同圓弧線上的匯流槽(5)，設(shè)在匯流槽(5)之間的支撐環(huán)(6)，以及設(shè)在匯流槽(5)上物料流出孔(3)底部的滴嘴(7)。本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)：可有效防止金屬液沿著匯流盤底部向四周擴(kuò)散，造成設(shè)備故障。
【IPC分類】C22B9/02
【公開號(hào)】CN204779747
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520521704
【發(fā)明人】湯文通, 速斌, 李紅, 戴衛(wèi)平, 簡(jiǎn)愛華, 黎文霖, 陳巍, 李敏, 樊則飛, 余勇, 邵雁斌
【申請(qǐng)人】昆明鼎邦科技有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請(qǐng)日】2015年7月17日