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晶圓生長控制裝置和方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:11252614

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本發(fā)明屬于半導(dǎo)體集成電路制作技術(shù)領(lǐng)域,具體地說,是涉及一種晶圓生長控制裝置和方法。背景技術(shù)晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能的IC產(chǎn)品。晶圓的外延生長是指,在低阻值襯底上生長一層薄的高阻外延層,能夠提高器件設(shè)計的靈活性和器件的性能。在外延的生長過程中,一直存在晶圓受熱不均而產(chǎn)生翹曲以及裂痕的問題,導(dǎo)致良品率低。現(xiàn)有技術(shù)中晶圓的外延生長,通常采用將晶圓放置在反應(yīng)室內(nèi)的基座上旋轉(zhuǎn),在反應(yīng)室外加熱的方式進(jìn)...
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