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使用電磁輻射及離子植入進行光阻改質(zhì)的方法與系統(tǒng)的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2944360

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本發(fā)明的實施例涉及元件制造的領(lǐng)域。更具體地說,本發(fā)明涉及用來使基板圖案化及對基板進行以制造元件的方法,系統(tǒng)和結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)光學(xué)微影技術(shù)時常被使用于電子元件的制造。它是一個使基板圖案化的過程,使得電路可在基板上根據(jù)該圖案而形成。參照圖la-le,該圖簡述說明光學(xué)微影的過程。一般來說,基板112涂布有可光致硬化、可聚合化的光阻114(圖la)。之后,于基板114和光源之間(未顯示)放置具有所欲的開口圖案的光罩142。從光源發(fā)出的光線10經(jīng)由光罩142的開口照射...
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