技術(shù)編號：39561284
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及直寫式曝光系統(tǒng)，尤其是涉及一種光學(xué)擴(kuò)展模組和具有其的光學(xué)系統(tǒng)。背景技術(shù)、相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)擴(kuò)展模組，通常僅僅支持單種倍率透鏡的使用，按照所需透鏡倍率和設(shè)備指標(biāo)，通常只能在某一種制程的產(chǎn)品使用，滿足高階設(shè)備的解析，就無法滿足中低階設(shè)備的產(chǎn)能；或者滿足中低階的產(chǎn)能，就無法兼顧高階產(chǎn)品的解析力。、但是，高中低階曝光設(shè)備同時(shí)購買，這樣會(huì)增加了客戶總擁有成本，也大大降低了利潤；如果僅僅購買高解析設(shè)備，雖然可以滿足中低階產(chǎn)品的解析能力，但無法獲得中低階曝光設(shè)備的產(chǎn)能，技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本發(fā)明旨在至...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。