技術(shù)編號：9647705
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷降低，半導(dǎo)體器件的特征尺寸不斷減小，光學(xué)臨近效應(yīng)(Optical Proximity Effect)導(dǎo)致娃片上的光刻圖形與掩模版上圖形的偏差問題越來越嚴(yán)重，因此光學(xué)臨近效應(yīng)校正(Optical Proximity Correct1n)在半導(dǎo)體制造中愈發(fā)顯得重要。光學(xué)臨近效應(yīng)校正主要作用是減小光學(xué)臨近效應(yīng)所造成的誤差和影響，使得轉(zhuǎn)移到硅片上的圖形與預(yù)期圖形基本符合。如圖3所示，現(xiàn)有技術(shù)針對光學(xué)臨近效應(yīng)校正后的多晶硅層版圖按照統(tǒng)一規(guī)格和標(biāo)準(zhǔn)來...
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