放射攝影成像系統(tǒng)的輻射源組件的一部分的設(shè)計(jì)排列的透視圖。如在圖1A-1H中示出，根據(jù)本申請的實(shí)施方案，用于放射攝影成像系統(tǒng)和/或方法的輻射源組件可實(shí)施投影和形貌成像二者。圖2-4說明各自也具有能夠在至少兩個(gè)位置的示例性準(zhǔn)直器的示例性環(huán)形結(jié)構(gòu)。對于某些示例性實(shí)施方案，在一個(gè)位置中，準(zhǔn)直器可將多個(gè)或所有排列的源(例如，低功率分布源或斷層融合源)的X射線場準(zhǔn)直到一個(gè)區(qū)域，并且在另一個(gè)位置中，準(zhǔn)直器可將所有源的場準(zhǔn)直到不同的區(qū)域。圖2是示出可選擇的準(zhǔn)直器的實(shí)施方案的視圖。圖3是示出可選擇的準(zhǔn)直器實(shí)施方案(例如，3D形狀的準(zhǔn)直單元的)的旋轉(zhuǎn)到適當(dāng)位置的兩個(gè)可選擇的位置的視圖。圖4是具有在(例如，距離檢測器)不同高度處平面的準(zhǔn)直場的交叉點(diǎn)的視圖。圖4示出定向X射線場的3維性質(zhì)。圖5是示出來自每個(gè)源位置的示例性投影X射線的模擬的視圖。圖6是來自示例性投影X射線的示例性重構(gòu)的模擬的視圖。
[0033]如在圖1A-1H中示出，根據(jù)本申請的實(shí)施方案，用于放射攝影成像系統(tǒng)和/或方法的輻射源組件100可實(shí)施投影和形貌成像二者。輻射源組件100可包括具有規(guī)定形狀的分布源120(例如，CNT X射線源)的陣列，其中分布源120s中的至少一個(gè)可輸出足夠用于標(biāo)準(zhǔn)的投影放射攝影的波束。輻射源組件100可包括斷層融合成像源，其可以是可具有規(guī)定形狀的分布源的陣列120的子集120t。輻射源組件100可輸出X射線波束以撞擊數(shù)字放射攝影檢測器140。在一個(gè)實(shí)施方案中，用于分布源120s的準(zhǔn)直器112可被充分調(diào)節(jié)。在一個(gè)實(shí)施方案中，用于分布源120t的一個(gè)或多個(gè)準(zhǔn)直器122可在兩個(gè)或更多個(gè)位置之間被選擇性地調(diào)節(jié)。在一個(gè)示例性實(shí)施方案中，輻射源組件100可包括用于分布源120t的共享陽極130，其可進(jìn)一步以圓形方式四處旋轉(zhuǎn)，以降低對X射線焦點(diǎn)處的共享陽極的潛在損害。
[0034]圖2是示出用于可實(shí)施投影和形貌成像二者的放射攝影成像系統(tǒng)和/或方法的輻射源組件的示例性環(huán)形結(jié)構(gòu)的視圖，所述示例性環(huán)形結(jié)構(gòu)還具有能夠在至少兩個(gè)位置的示例性準(zhǔn)直器。如在圖2中示出，輻射源組件200可包括具有規(guī)定形狀和用于標(biāo)準(zhǔn)的投影放射攝影的至少一個(gè)源210的分布源的陣列220 (例如，CNT X射線源)。輻射源組件200可包括斷層融合成像源，其可以是可具有規(guī)定形狀的分布源的陣列220的子集220t。如在圖2中示出，在一個(gè)位置中，一個(gè)或多個(gè)準(zhǔn)直器222可將分布源的子集220t的X射線場準(zhǔn)直到一個(gè)區(qū)域，并且在另一個(gè)位置中，準(zhǔn)直器222可將分布源的子集220t的場準(zhǔn)直到不同的區(qū)域。圖2是示出可選擇的準(zhǔn)直器222的示例性實(shí)施方案的視圖。
[0035]在一個(gè)實(shí)施方案中，排列的或分布式的低功率源可以是碳納米管X射線源的陣列。在一個(gè)實(shí)施方案中，將由被排列成圓形的碳納米管源發(fā)射的多個(gè)或全部電子束指向單個(gè)共享陽極。該陽極實(shí)施方案可以是中心具有孔的圓盤。例如，一個(gè)陽極實(shí)施方案可具有斜邊，使得電子束可以X射線發(fā)射的正確角度來撞擊陽極實(shí)施方案。此外，陽極實(shí)施方案(例如，磁盤)可旋轉(zhuǎn)，使得電子束命中的點(diǎn)可描出可在陽極的較大表面積上分布能量的線段，以降低損害(例如，過熱、熔化)。
[0036]在附圖中示出的某些示例性實(shí)施方案還說明具有更傳統(tǒng)的準(zhǔn)直器的中心X射線源。該中心X射線源可用于捕獲傳統(tǒng)的X射線圖像。進(jìn)一步地，中心X射線源還可用作分布源中的一個(gè)，以捕獲可被處理來獲得有限的角度斷層融合數(shù)據(jù)集(例如，通過將重構(gòu)處理應(yīng)用到所述數(shù)據(jù))的多個(gè)投影X射線圖像。在一個(gè)實(shí)施方案中，中心X射線源也可使用可移動(dòng)以減少加熱的陽極(如，分開的另外的陽極)。
[0037]雖然本文中示出了分布式的低功率X射線源的示例性圓形排列，但是其它線性或非線性排列或甚至規(guī)定的圖案(例如，形狀、星星、菱形、規(guī)則或不規(guī)則組合、重復(fù)的)可與可提供組合的斷層融合和投影X射線成像的準(zhǔn)直窗口的對應(yīng)的可選擇陣列一起使用。在一個(gè)實(shí)施方案中，多個(gè)單元陣列￠-8個(gè)單元陣列)可被實(shí)施為單獨(dú)的直線源，但是可被配置成近似圓形。
[0038]在一個(gè)示例性實(shí)施方案中，標(biāo)準(zhǔn)的輻射X射線源(或具有標(biāo)準(zhǔn)的輻射能力的至少一個(gè)分布源)可被包圍在具有多個(gè)分布源的單個(gè)輻射屏蔽中。例如，碳納米管(CNT)陣列管可以連同傳統(tǒng)的管一起封裝在相同的殼體中。在一種配置中，包圍源的組合的單個(gè)輻射屏蔽可提供對標(biāo)準(zhǔn)的輻射X射線源的外部訪問，而不干擾額外多個(gè)低功率分布源。圖7是示出包圍組合的斷層融合和gen rad(例如，投影X射線成像)x射線源(例如，x射線源組件)的輻射屏蔽的實(shí)施方案的視圖。
[0039]如在圖7中示出，根據(jù)本申請的實(shí)施方案，用于放射攝影成像系統(tǒng)和/或方法的輻射源組件700可實(shí)施投影和形貌成像二者。輻射源組件100可包括gen rad或第一 x射線源710，以輸出足夠用于標(biāo)準(zhǔn)的投影放射攝影的波束。輻射源組件700可包括斷層融合成像源720，其可以是可具有規(guī)定形狀的多個(gè)組的分布源720a、720b、720c、720d。如在圖7中示出，斷層融合成像源720可以是可被配置成矩形形狀的多個(gè)線性排列的分布源720a、720b、720c、720d。輻射源組件700可輸出X射線波束，以撞擊數(shù)字放射攝影檢測器140。在一個(gè)實(shí)施方案中，用于分布源720a、720b、720c、720d的一個(gè)或多個(gè)準(zhǔn)直器可在兩個(gè)或更多個(gè)位置之間選擇性地調(diào)節(jié)。在一個(gè)示例性實(shí)施方案中，輻射源組件700可包括用于分布源720a、720b、720c、720d的共享陽極。進(jìn)一步地，圖7中示出的實(shí)施方案可將可選擇的準(zhǔn)直器用于斷層融合成像源，并且將單獨(dú)的準(zhǔn)直器(例如，可充分調(diào)節(jié))用于gen rad成像源。優(yōu)選地，標(biāo)準(zhǔn)的輻射X射線源710可被包圍在具有斷層融合成像源720 (例如，分布源組720a、720b、720c、720d)的單個(gè)輻射屏蔽750中。在一個(gè)實(shí)施方案中，可通過單個(gè)輻射屏蔽750提供對標(biāo)準(zhǔn)的輻射X射線源710的訪問，而不會(huì)影響用于斷層融合成像源720的輻射屏蔽750的一部分。在一個(gè)實(shí)施方案中，可通過單個(gè)輻射屏蔽750提供對斷層融合成像源720(例如，720a)的訪問，而不會(huì)影響用于標(biāo)準(zhǔn)的福射X射線源710的福射屏蔽750的一部分。在一個(gè)實(shí)施方案中，分布源組720a、720b、720c、720d可被獨(dú)立地調(diào)節(jié)，或具有相對于對應(yīng)的波束狀發(fā)射將撞擊的檢測器的不同相對位置。
[0040]在一個(gè)實(shí)施方案中，單個(gè)放射攝影源組件可允許使用與一個(gè)源(例如，gen rad或分布式斷層融合源)對應(yīng)的準(zhǔn)直光束源來為操作人員定位將被單個(gè)放射攝影源組件的另一個(gè)源(例如，分布式斷層融合源或gen rad)曝光的對象提供可視指導(dǎo)。
[0041]在一個(gè)實(shí)施方案中，單個(gè)放射攝影源組件可允許將第一生成器用于gen rad源中的每一個(gè)，并且將第二生成器用于斷層融合成像源。在一個(gè)實(shí)施方案中，單個(gè)放射攝影源組件可允許將單個(gè)生成器用于gen rad源和斷層融合成像源中的每一個(gè)。在一個(gè)實(shí)施方案中，單個(gè)放射攝影源組件可允許使用具有到成像源的陽極的單個(gè)通用線纜的單個(gè)生成器。
[0042]在一個(gè)實(shí)施方案中，單個(gè)放射攝影源可提供斷層融合和gen rad (例如，投影)x射線成像。對于某些示例性實(shí)施方案，單個(gè)放射攝影源包括至少兩個(gè)準(zhǔn)直器。例如，所述至少兩個(gè)準(zhǔn)直器可包括用于gen rad源的可充分調(diào)節(jié)(例如，3D x射線波束成形)的第一準(zhǔn)直器和用于斷層融合成像的可使用有限的波束成形能力(例如，兩個(gè)方向、兩個(gè)距離或兩個(gè)孔隙)的第二準(zhǔn)直器。斷層融合成像源可以是分布源的陣列，諸如線序列或有序序列(例如，線性或非線性)的低功率源(例如，CNT X射線源)。在一個(gè)實(shí)施方案中，第二準(zhǔn)直器可以是圍繞可將至少兩個(gè)孔隙排列(例如，旋轉(zhuǎn)、滑動(dòng))到用于波束成形的位置的斷層融合成像源的管。在另一實(shí)施方案中，第二準(zhǔn)直器可以是對應(yīng)單元，其可相對于用于波束成形的斷層融合成像源而(使用一個(gè)或多