1.一種烤箱的控制方法,所述烤箱包括位于放置食材的腔體內(nèi)的第一加熱裝置、用于產(chǎn)生熏煙并向所述腔體內(nèi)投放的產(chǎn)煙裝置、位于所述腔體外并用于對(duì)所述產(chǎn)煙裝置加熱的第二加熱裝置以及用于向所述腔體內(nèi)投放水的水量投放裝置,其特征在于,所述控制方法包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烤箱的控制方法,其特征在于,確定熏烤的控制參數(shù)的所述目標(biāo)值,具體包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烤箱的控制方法,其特征在于,根據(jù)控制參數(shù)的所述目標(biāo)值和所述實(shí)時(shí)值確定所述實(shí)際控制量,包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烤箱的控制方法,其特征在于,根據(jù)控制參數(shù)的所述目標(biāo)值和所述實(shí)時(shí)值確定所述實(shí)際控制量,包括:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的烤箱的控制方法,其特征在于,所述產(chǎn)煙裝置包括送料電機(jī),所述實(shí)際進(jìn)煙量根據(jù)在所述第二加熱裝置工作過程中的所述送料電機(jī)的轉(zhuǎn)速確定;
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烤箱的控制方法,其特征在于,根據(jù)控制參數(shù)的所述目標(biāo)值和所述實(shí)時(shí)值確定所述實(shí)際控制量,包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的烤箱的控制方法,其特征在于,所述控制方法還包括:
8.一種烤箱的控制裝置,所述烤箱包括位于放置食材的腔體內(nèi)的第一加熱裝置、用于產(chǎn)生熏煙并向所述腔體內(nèi)投放的產(chǎn)煙裝置、位于所述腔體外并用于對(duì)所述產(chǎn)煙裝置加熱的第二加熱裝置以及用于向所述腔體內(nèi)投放水的水量投放裝置,其特征在于,所述控制裝置包括:
9.一種烤箱,包括位于放置食材的腔體內(nèi)的第一加熱裝置、用于產(chǎn)生熏煙并向所述腔體內(nèi)投放的產(chǎn)煙裝置、位于所述腔體外并用于對(duì)所述產(chǎn)煙裝置加熱的第二加熱裝置以及用于向所述腔體內(nèi)投放水的水量投放裝置,其特征在于,所述烤箱還包括上述權(quán)利要求8所述的烤箱的控制裝置。
10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí),實(shí)現(xiàn)上述權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的烤箱的控制方法。