本發(fā)明涉及一種用于液晶顯示裝置等的光學元件的制造方法，具體為包含形成于基板上的具有各向異性的光學膜及其保護層的光學元件的制造方法。進一步地為具備使用上述制造方法獲得光學元件和上述光學元件的圖像顯示裝置。
背景技術：
：LCD(液晶顯示器)中為了控制顯示中的旋光性和雙折射性，使用直線偏振光片和圓偏振光片。OLED(有機EL元件)中為了防止外部光線的反射，也在使用圓偏振光片。迄今為止，這些偏振光片(光學元件)中，一直廣泛使用著使碘或具有二向色性的有機色素溶解或吸附于通過在聚乙烯醇等高分子材料，并將該膜在一個方向上拉伸為薄膜狀，使碘或具有二向色性的有機色素發(fā)生取向而獲得的偏振光片。然而，這樣制造的現有的具有各向異性的光學膜，依據使用的色素和高分子材料不同，而具有耐熱性或耐光性不充分、制造液晶裝置時的偏振光片貼合的成品率差等問題。為解決這些問題，人們研究了通過在玻璃或透明薄膜等基材上，在施加剪切力的同時涂布含有二向色性色素的溶液，使二向色性色素進行取向，制造具有各向異性的光學膜的方法(專利文獻1～8)。另一方面，人們進行著從1片基板母材上切出多個用于液晶單元的基板的操作。這種情況下，在基板上形成多個形狀化(圖案化)為規(guī)定的圖案后的具有各向異性的光學膜，將其分別分割作為基板使用。專利文獻3中公開了如下的方法：通過在基板上涂布設置的含有二向色性色素的膜上，采用噴墨法等部分賦予不溶化液體并進行清洗，從而在基板上形成多個形狀化為規(guī)定的圖案后的含有二向色性色素的膜。專利文獻9中公開了使用二向色性色素的水溶液作為墨水，對所得的膜直接或間接地在單元內側進行印刷，形成具有各向異性的光學膜的方法。公開了在不溶化后的具有各向異性的光學膜上，對聚酰亞胺的液晶用取向膜通過柔性印刷進行圖案形成·燒成，之后通過蝕刻·清洗將具有各向異性的光學膜溶解并除去。公開了由于具有各向異性的光學膜位于玻璃基板的內側而被玻璃基板保護，因此無需進行為了不易對具有各向異性的光學膜造成損傷的硬涂層處理和靜電的防靜電處理等?，F有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本專利特表平8-511109號公報專利文獻2:日本專利特開2008-69300號公報專利文獻3:日本專利特開2004-348043號公報專利文獻4:日本專利特開2002-277636號公報專利文獻5:日本專利特開2007-272211號公報專利文獻6:日本專利特開2007-186428號公報專利文獻7:日本專利特表2001-504238號公報專利文獻8:日本專利特開2006-48078號公報專利文獻9:日本專利特表2004-534283號公報專利文獻10:日本專利特開2008-233819號公報技術實現要素：發(fā)明所解決的課題在制造包含具有各向異性的光學膜的光學元件時，使用從1片基板母材切出多個用于液晶單元的基板的方法。這種情況下，較多的情況是：在基板上形成多個形成規(guī)定的圖案的形狀后的具有各向異性的光學膜，將其分別分割，作為基板進行使用。此外，作為在基板的內表面?zhèn)壬暇邆渚哂懈飨虍愋缘墓鈱W膜的In-Cell型液晶顯示裝置而使用時，具有各向異性的光學膜是在預先將電極和濾色器等設置于液晶單元內的各個層在基板上層疊后，形成為向基板呈凸狀的部分(階梯結構部分)。然而，使用專利文獻1～8等所記載的方法在整個基板母材上涂布含有二向色性色素的溶液時，由于將該溶液涂布至上述的階梯結構之外的部分、即不需要涂布的部分為止，因此，涂布后必須進行除去不需要的部分的作業(yè)。作為從1片基板母材上切出多個用于液晶單元的基板的方法，例如可考慮使用間歇涂布方法僅選擇規(guī)定的圖案，涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物。然而，如果為了高效率地從1片基板母材切出液晶單元用基板而將間歇涂布的間隔縮短，則存在以下問題：難以控制用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的排出，產生涂布缺陷，不能獲得光學上均勻的具有各向異性的光學膜，繼而不能獲得光學性均勻的光學元件。當使用專利文獻1和2等所記載的方法在整個基板母材涂布含有二向色性色素的溶液時，會涂布至規(guī)定的圖案形狀之外的部分、即不需要涂布的部分為止。因此，有必要在涂布后進行削除不需要的部分的作業(yè)，但對于該削除作業(yè)，尚未從圖案形狀的精度和生產率的角度充分地進行研究。雖然公開有如專利文獻3所述地通過用噴墨法等部分賦予不溶化液體并進行清洗，從而在基板上形成多個形狀化為規(guī)定圖案的方法，但處理速度緩慢，不適于使用大型基板形成多個圖案。此外，因為不溶性處理速度緩慢，所以在賦予不溶化液體之后清洗具有各向異性的光學膜為止需要時間，趨于容易發(fā)生由具有各向異性的光學膜上的不溶化液干燥引起的具有各向異性的光學膜的裂紋和破裂等。此外，在賦予不溶化液后對具有各向異性的光學膜設置保護層等時，需要進行設置保護層的工序和對保護層進行圖案形成的工序等，存在制造工序變復雜的問題。專利文獻9中，在不溶化后的具有各向異性的光學膜上，將聚酰亞胺的液晶用取向膜進行柔性印刷，由此進行圖案形成·燒成。本發(fā)明人發(fā)現：具有各向異性的光學膜即使在不溶化后，也容易溶解于聚酰亞胺溶液(N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)等)中，產生具有各向異性的光學膜的溶解、剝離等和偏振光功能的降低。此外，本發(fā)明人發(fā)現：在使用專利文獻9所記載的方法時，在形成圖案后，為了將聚酰亞胺進行亞酰胺化，需要在高溫下進行燒成，對具有各向異性的光學膜、基板等帶來影響。對于這一點，即使在作為聚酰亞胺樹脂使用紫外線固化型聚酰亞胺時，也需要300℃左右的亞酰胺化工序(專利文獻10)，因此存在同樣的問題。本發(fā)明為解決如上所述的技術問題而完成，其目的在于提供一種在基板上包含具有各向異性的光學膜和保護層的光學元件的制造方法，該制造方法使上述光學膜的圖案化變得容易，此外，使上述光學膜和保護膜為尺寸精度優(yōu)異、無涂布缺陷的均勻的膜，進而不受在制造工序中使用的水或溶劑的影響。此外，本發(fā)明的目的在于提供一種對具有各向異性的光學膜進行圖案化的簡易方法，提供一種上述方法中所得的具有各向異性的光學膜和保護層成為尺寸精度優(yōu)異、無涂布缺陷的均勻的膜的方法，進一步地，也提供一種不受在具有各向異性的光學膜形成后的制造工序中使用的水或溶劑的影響的光學元件的制造方法。用于解決課題的方法本發(fā)明人為達成上述目的而反復進行深入研究的結果，發(fā)現在光學元件的制造方法中，通過用特定的方法將不溶化后的具有各向異性的光學膜和保護層進行圖案化，可以解決上述課題，從而完成了本發(fā)明。即，本發(fā)明的主旨如下所述。[1]一種光學元件的制造方法，其特征在于，所述光學元件包含：基板、具有各向異性的光學膜和保護層，所述光學元件的制造方法具有下述(I)工序～(III)工序，(I)在基板上連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物，形成具有各向異性的光學膜，然后通過鹽交換對所述具有各向異性的光學膜進行不溶性處理的工序；(II)在所述不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物，形成保護層的工序；(III)通過在形成的所述保護層上設置掩模并進行曝光，采用堿性溶液進行顯影，對所述保護層和所述不溶性處理后的具有各向異性的光學膜進行圖案化的工序。[2]根據上述[1]所述的光學元件的制造方法，其特征在于，所述(III)工序中使用的堿性溶液含有氫氧化鉀和四甲基氫氧化銨中的至少任意一種。[3]根據上述[1]或[2]所述的光學元件的制造方法，其特征在于，在所述(III)工序之后，具有下述(IV)工序，(IV)通過加熱，使圖案化后的所述保護層熔體流動的工序。[4]一種光學元件，其特征在于，是使用上述[1]～[3]中任意一項所述的制造方法進行制造的。[5]一種圖像顯示裝置，其特征在于，具有上述[4]所述的光學元件。發(fā)明效果依據本發(fā)明的光學元件的制造方法，可以簡易地在基板上進行多個具有各向異性的光學膜的圖案化。進一步地，上述方法中獲得的具有各向異性的光學膜成為尺寸精度優(yōu)異、無涂布缺陷的均勻的膜，因此可獲得偏振光性能等優(yōu)異的光學元件。因此，在切出從1片基板母材劃分出多個光學元件并且進行分割而成的基板之時尤其有用，其中光學元件具備在具有各向異性的光學膜形成后使用取向膜形成用的溶劑(NMP等)或作為清洗溶劑的水的工序。附圖說明[圖1]圖1為實施例1中所得的光學元件1的照片。[圖2]圖2為實施例1中所得的光學元件1的端部的顯微鏡照片。[圖3]圖3為在具有各向異性的光學膜的圖案中，表示具有各向異性的光學膜被浸蝕的狀態(tài)的概略圖。[圖4]圖4為表示使保護層為熔體流動的狀態(tài)的概略圖。[圖5]圖5為表示(VIII)工序的保護層被顯影除去而露出的具有各向異性的光學膜的部分的概略圖。[圖6]圖6(a)和圖6(b)為表示(III)工序或(VIII)工序中使具有各向異性的光學膜被浸蝕的狀態(tài)的概略圖，圖6(a)表示具有各向異性的光學膜與保護層的輪廓部在同位置的情況，圖6(b)表示具有各向異性的光學膜在保護層的輪廓部的內側的情況。[圖7]圖7為表示(V)工序～(IX)工序的概略圖。[圖8]圖8(a)～圖8(c)為表示參考例5中獲得的光學元件的偏振光性能的照片，圖8(a)為將2片光學元件并列放置的照片，圖8(b)為平行重疊的照片，圖8(c)垂直交叉地重疊的照片。符號說明a保護層被顯影除去而露出的具有各向異性的光學膜部分1基板2具有各向異性的光學膜3保護層4光學元件具體實施方式以下對用于實施本發(fā)明的代表性的方式進行具體說明，但本發(fā)明只要不超出其主旨，就不受以下方式的限定。本發(fā)明中，“(甲基)丙烯酸”是指包含丙烯酸和甲基丙烯酸的兩者，“(甲基)丙烯酸酯”、“(甲基)丙烯?！钡纫脖硎就瑯拥暮x。此外，在單體名之前附加“(聚)”的物質意味著該單體及該聚合物。本說明書中“重量％”與“質量％”、“重量份”與“質量份”分別為相同含義。本發(fā)明為包含基板、具有各向異性的光學膜和保護層的光學元件的制造方法。本發(fā)明所述的制造方法的第一方式至少具有以下的(I)～(III)的工序(下文中，(I)的工序有時表示為“(I)工序”。此外，與(I)工序同樣地，(II)的工序、(III)的工序等有時分別表示為“(II)工序”、“(III)工序”等。)。(I)在基板上連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物，形成具有各向異性的光學膜，然后通過鹽交換對所述具有各向異性的光學膜進行不溶性處理的工序；(II)在所述不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物，形成保護層的工序；(III)通過在形成的所述保護層上設置掩模并進行曝光，采用堿性溶液進行顯影，對所述保護層和所述不溶性處理后的具有各向異性的光學膜進行圖案化的工序。本發(fā)明的制造方法若具有(I)工序～(III)工序，按照(I)工序→(II)工序→(III)工序的順序進行，則沒有特別限定，在各個工序之間，也可具有其他的工序。例如，在(I)工序和(II)工序之間也可具有其他工序。本發(fā)明所述的光學元件的制造方法的第二方式，至少具有以下的(V)工序～(VIII)工序。(V)在基板上連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物，形成具有各向異性的光學膜，然后通過鹽交換對所述具有各向異性的光學膜進行不溶性處理的工序。(VI)在所述不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物，形成保護層的工序。(VII)經曝光和通過顯影液進行的顯影，將上述保護層進行圖案化的工序。(VIII)將保護層被顯影除去而露出的部分的具有各向異性的光學膜，與酸性水溶液或堿性水溶液接觸后，進行水洗的工序。本發(fā)明的制造方法若具有(V)工序～(VIII)工序，按照(V)工序→(VI)工序→(VII)工序→(VIII)工序的順序進行實施，則沒有特別限定，在各個工序之間，也可具有其他的工序。例如，在(V)工序和(VI)工序之間也可具有其他工序。(光學元件)本發(fā)明的光學元件包含通過在基板表面上連續(xù)涂布而獲得的具有各向異性的光學膜和設置在具有各向異性的光學膜上的保護層。此外，光學元件并不僅限于具有各向異性的光學膜和保護層，還可以出于提高偏振光性能、提高機械性強度等目的而具有其他層。此外，本發(fā)明中的圖案(pattern)表示在基板上被排版(面付け)的具有各向異性的光學膜的形狀圖案，圖案化(patterning)表示形成圖案。此外，輪廓部是指具有各向異性的光學膜的圖案的外周部。另外，本發(fā)明中的圖案化意指從1片基板母材上切出多個用于液晶單元的基板時的、具有各向異性的光學膜的劃分，但并非受限于此。(基板)作為本發(fā)明的基板，沒有特別限定，但優(yōu)選為具有良好的表面性狀、接觸角特性和吸水特性的基板。作為形成像這樣的基板的基材，例如可舉出玻璃等無機材料和高分子材料。作為高分子材料，可舉出三乙酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂、三乙酰纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂、環(huán)狀聚烯烴系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、聚氨酯系樹脂等。這些材料可單獨使用1種，也可并用2種以上。特別地，優(yōu)選包括含有高分子材料的基材?；宓奈?，通常為5％以下，優(yōu)選為3％以下，更優(yōu)選為1％以下。由于通過使吸水率不過大，抑制了用濕式成膜法形成各向異性材料的膜時的基板的吸濕，因而趨于難以發(fā)生基板的翹曲所引起的涂布缺陷。此外，由于也可抑制用涂布法形成具有各向異性的光學膜后的基板膨潤，因而趨于難以發(fā)生光學缺陷。另外，本實施方式中的“吸水率”是指采用ASTMD570的試驗方法測定在23℃水中浸漬4小時之時的重量變化率的值。從使具有各向異性的光學膜中所含的色素等各向異性材料更加良好地沿一定方向取向的觀點出發(fā)，可以在基板的形成有具有各向異性的光學膜的面上，預先設置取向膜等。關于取向膜的形成方法，可依照“液晶便覽”(丸善株式會社，2000年10月30日發(fā)行)226頁～239頁等所記載的公知的方法。此外，基板的形狀可為固定尺寸的薄膜狀(片狀)，也可為連續(xù)薄膜狀(帶狀)。此外，基板的膜厚通常為0.01mm～3mm，優(yōu)選為0.02mm～2mm?；宓目偼腹饴释ǔ?0％以上，優(yōu)選為85％以上，更優(yōu)選為90％以上。另外，本說明書中的“總透光率”是指使用積分球顏色測定裝置測定的值，是擴散透射光與平行光線透射光的合計值。[具有(I)工序、(II)工序和(III)工序的、包含基板、具有各向異性的光學膜和保護層的光學元件的制造方法]＜關于(I)工序＞本發(fā)明的制造方法作為(I)工序具有在基板上連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物，形成具有各向異性的光學膜，然后通過鹽交換對所述具有各向異性的光學膜進行不溶性處理的工序。(具有各向異性的光學膜)具有各向異性的光學膜是指在從膜的厚度方向和面內任意垂直交叉的兩個方向的立體坐標系的共計三個方向中所選擇的任意兩個方向中的電磁學性質上，具有各向異性的光學膜。作為電磁學性質，可舉出吸收、折射等光學性的性質，電阻、電容等電學性質。作為具有吸收、折射等光學各向異性的膜，例如可舉出直線偏振光層、圓偏振光層、相位差膜、導電各向異性膜等。本發(fā)明中的具有各向異性的光學膜也可適宜作為偏振光層、相位差膜、導電各向異性膜使用，尤其作為偏振光層有用。具有各向異性的光學膜的膜厚沒有特別限定，但干燥膜厚優(yōu)選為10nm以上，更優(yōu)選為50nm以上。另一方面，優(yōu)選為3μm以下，更優(yōu)選為1μm以下。通過使具有各向異性的光學膜的膜厚在上述范圍，在將后述的(III)工序、(VIII)工序的具有各向異性的光學膜進行圖案化時，可確保具有各向異性的光學膜溶解的范圍，趨于易于控制溶解。進一步地，趨于獲得膜內色素的均勻取向和均勻的膜厚。(各向異性材料和用于形成具有各向異性的光學膜的組合物)用于本發(fā)明的具有各向異性的光學膜的各向異性材料，若是可呈現上述的各向異性的材料，則沒有特別限定。此外，由于在基板上采用濕式涂布制作具有各向異性的光學膜，因此優(yōu)選為含有各向異性材料和溶劑的組合物(下文中有時稱為“用于形成具有各向異性的光學膜的組合物”。)。作為用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的樣態(tài)，可為溶液狀，也可為凝膠狀，也可為將各向異性材料分散于溶劑中的狀態(tài)。此外，這些成分之外，還可以根據需要含有粘合劑樹脂、單體、固化劑、添加劑等。本文中，從以高取向度形成溶劑蒸發(fā)后形成的具有各向異性的光學膜的觀點出發(fā)，優(yōu)選用于形成具有各向異性的光學膜的組合物是液晶相的狀態(tài)的組合物。另外，本說明書中，是液晶相的狀態(tài)是指《液晶的基礎與應用》(松本正一·角田市良著，1991)的1頁～16頁中所記載的狀態(tài)。尤其優(yōu)選3頁所記載的向列相。本文中，各向異性材料只要是可形成具有各向異性的光學膜的材料即可，可舉出色素等。作為使用色素作為各向異性材料的具有各向異性的光學膜，可舉出各向異性色素膜。通過使用色素，趨于獲得電磁學性質優(yōu)異的具有各向異性的光學膜，尤其可作為偏振光層使用。(色素)作為本發(fā)明的色素，使用二向色性色素。此外，為控制取向，色素優(yōu)選為具有液晶相的色素。本文中，具有液晶相的色素意指在溶劑中表現出溶致液晶性的色素。為通過涂布形成具有各向異性的光學膜，本發(fā)明中使用的表現出溶致液晶性的色素優(yōu)選可溶于水或有機溶劑中，特別優(yōu)選為水溶性。進一步優(yōu)選的是《有機概念圖-基礎與應用》(甲田善生著，三共出版，1984年)中定義的無機性值小于有機性值的化合物。另外，水溶性是指室溫下色素在水中通常溶解0.1重量％以上，優(yōu)選溶解1重量％以上。本發(fā)明的色素在不為鹽形態(tài)的游離狀態(tài)下，其分子量優(yōu)選為200以上，特別優(yōu)選為300以上。此外，優(yōu)選為1500以下，特別優(yōu)選為1200以下。此外，本發(fā)明的表現出溶致液晶性的色素可單獨僅使用1種，也可將2種以上組合使用。作為色素，具體地可舉出偶氮系色素、芪系色素、花青系色素、酞菁系色素、稠合多環(huán)系色素(苝系、惡嗪系)等。這些色素之中，優(yōu)選在具有各向異性的光學膜中可取得高度地分子排列的偶氮系色素。偶氮系色素是指至少具有1個以上的偶氮基的色素。從色調以及制造方面的觀點出發(fā)，其一分子中的偶氮基的數量優(yōu)選為2以上，優(yōu)選為6以下，更優(yōu)選為4以下。本發(fā)明中使用的色素沒有特別限定，可使用公知的色素。作為色素，例如可舉出日本專利特開2006-079030號公報、日本專利特開2010-168570號公報、日本專利特開2007-302807號公報、日本專利特開2008-081700號公報、日本專利特開平09-230142號公報、日本專利特開2007-272211號公報、日本專利特開2007-186428號公報、日本專利特開2008-69300號公報、日本專利特開2009-169341號公報、日本專利特開2009-161722號公報、日本專利特開2009-173849號公報、日本專利特開2010-039154號公報、日本專利特開2010-180314號公報、日本專利特開2010-266769號公報、日本專利特開2010-031268號公報、日本專利特開2011-012152號公報、日本專利特開2011-016922號公報、日本專利特開2010-100059號公報、日本專利特開2011-141331號公報、日本專利特開2011-190313號公報、日本專利特表平08-511109號公報、日本專利特表2001-504238號公報、日本專利特開2006-48078號公報、日本專利特開2006-98927號公報、日本專利特開2006-193722號公報、日本專利特開2006-206878號公報、日本專利特開2005-255846號公報、日本專利特開2007-145995號公報、日本專利特開2007-126628號公報、日本專利特開2008-102417號公報、日本專利特開2012-194357號公報、日本專利特開2012-194297號公報、日本專利特開2011-034061號公報、日本專利特開2009-110902號公報、日本專利特開2011-100059號公報、日本專利特開2012-194365號公報、日本專利特開2011-016920號公報等所記載的色素。本發(fā)明中使用的色素可以直接以游離酸的形態(tài)使用，可以是酸基的一部分為鹽的形態(tài)的色素。此外，也可同時存在鹽形態(tài)的色素和游離酸形態(tài)的色素。制造時以鹽形態(tài)獲得色素的情況下，可以直接進行使用，也可以變換成所期望的鹽形態(tài)(鹽交換)。鹽交換的方法可以任意使用公知的方法，例如可舉出以下的方法。1)在以鹽形態(tài)獲得的色素的水溶液中添加鹽酸等強酸，使色素以游離酸的形態(tài)進行酸析后，用具有所期望的平衡離子的堿性溶液(例如氫氧化鋰水溶液)中和色素酸性基團，進行鹽交換的方法。2)在以鹽形態(tài)獲得的色素的水溶液中，添加大量過剩的具有所期望的平衡離子的中性鹽(例如氯化鋰)，以鹽析餅的形態(tài)進行鹽交換的方法。3)對于以鹽形態(tài)獲得的色素的水溶液，采用強酸性陽離子交換樹脂進行處理，使色素以游離酸的形態(tài)進行酸析后，用具有所期望的平衡離子的堿性溶液(例如氫氧化鋰水溶液)中和色素酸性基團，進行鹽交換的方法。4)使以鹽形態(tài)獲得的色素的水溶液作用于預先用具有所期望的平衡離子的堿性溶液(例如氫氧化鋰水溶液)進行處理的強酸性陽離子交換樹脂，進行鹽交換的方法。此外，本發(fā)明中使用的色素所具有的酸性基團是成為游離酸形態(tài)還是成為鹽形態(tài)，取決于色素的pKa和色素水溶液的pH。作為上述的鹽形態(tài)的例子，可舉出Na、Li、K等堿金屬的鹽、可被烷基或羥烷基取代的銨鹽、有機胺的鹽等。作為有機胺的例子，可舉出碳原子數1～6的低級烷基胺、被羥基取代的碳原子數1～6的低級烷基胺、被羧基取代的碳原子數1～6的低級烷基胺等。在這些鹽形態(tài)的情況下，其種類并不限于1種，而是可同時存在多種。此外，本發(fā)明中，色素可單獨進行使用，也可以將并用兩種以上的這些化合物，此外，也可以不使取向降低的程度混合上述例示的色素以外的色素進行使用。由此可以制作具有各種色相的具有各向異性的光學膜。作為混合其他的色素時的用于混合的色素的例子，可舉出C.I.直接黃12、C.I.直接黃34、C.I.直接黃86、C.I.直接黃142、C.I.直接黃132、C.I.酸性黃25、C.I.直接橙39、C.I.直接橙72、C.I.直接橙79、C.I.酸性橙28、C.I.直接紅39、C.I.直接紅79、C.I.直接紅81、C.I.直接紅83、C.I.直接紅89、C.I.酸性紅37、C.I.直接紫9、C.I.直接紫35、C.I.直接紫48、C.I.直接紫57、C.I.直接藍1、C.I.直接藍67、C.I.直接藍83、C.I.直接藍90、C.I.直接綠42、C.I.直接綠51、C.I.直接綠59等。(用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的溶劑)作為溶劑適宜的有水、具有水混溶性的有機溶劑或者它們的混合物。作為有機溶劑的具體例，可舉出甲醇、乙醇、異丙醇、醇、甘油等醇類，乙二醇、二乙二醇等二元醇類，甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等溶纖劑類等。這些可單獨使用，也可以混合2種以上進行使用。(用于形成具有各向異性的光學膜的組合物中的各向異性材料的濃度)用于形成具有各向異性的光學膜的組合物中的各向異性材料的濃度根據具有各向異性的光學膜的成膜條件而不同，但優(yōu)選為0.01重量％以上，更優(yōu)選為0.1重量％以上，優(yōu)選為50重量％以下，更優(yōu)選為30重量％以下。通過使各向異性材料濃度在上述范圍，獲得能夠進行均勻的薄膜涂布的用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的粘度，并且各向異性材料趨于不會析出。此外，趨于在具有各向異性的光學膜中獲得充分的二向色比等各向異性。(用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的添加劑)在用于形成具有各向異性的光學膜的組合物中，可進一步根據需要混合表面活性劑、流平劑、偶聯劑、pH調節(jié)劑等添加劑。有通過添加劑而提高潤濕性、涂布性等的情況。作為表面活性劑，可以使用陰離子性、陽離子性和非離子性中的任意種。其添加濃度沒有特別限定，但在用于形成具有各向異性的光學膜的組合物中的濃度通常為0.05重量％以上，優(yōu)選為0.5重量％以下。通過使其在該范圍，可獲得表面活性劑的添加效果，并且趨于不阻礙色素分子的取向。出于抑制用于形成具有各向異性的光學膜的組合物中的各向異性材料的成鹽或凝集等不穩(wěn)定性等目的，也可以在混合用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的構成成分之前、之后或混合中的任一情況下，添加公知的酸/堿等pH調節(jié)劑。另外，在上述之外，作為添加劑可使用“涂布用添加劑(AdditiveforCoating)”，J.Bieleman編，Willey-VCH(2000)所記載的公知的添加劑。(具有各向異性的光學膜的涂布方法)本發(fā)明的具有各向異性的光學膜的涂布方法若是連續(xù)涂布，則沒有特別限定。本發(fā)明中所謂連續(xù)涂布不是指各個圖案的間歇涂布，而是指連續(xù)地對應構成多個圖案(劃分)的區(qū)域進行涂布。即使在基板上設置多個圖案的情況下，也可一次地進行連續(xù)涂布，沒有必要按多個圖案各個分開進行涂布。作為將用于形成具有各向異性的光學膜的組合物進行連續(xù)涂布而形成具有各向異性的光學膜的方法，沒有特別限定，例如可舉出用原崎勇次著《涂布工學(コーティング工學)》(株式會社朝倉書店，1971年3月20日發(fā)行)253頁～277頁所記載的方法、市村國宏主編的《分子協調材料的創(chuàng)制和應用(分子協調材料の創(chuàng)製と応用)》(株式會社CMC出版，1998年3月3日發(fā)行)118頁～149頁所記載的方法、以狹縫模具涂布法、旋涂法、噴涂法、棒涂法、輥涂法、刮刀涂布法、簾式涂布法、噴注(fountain)法、浸漬法等進行涂布的方法。其中，狹縫模具涂布法由于趨于獲得高均勻性的具有各向異性的光學膜，因而優(yōu)選。涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物時的、用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的供給方法、供給間隔沒有特別限定。由于存在涂布液的供給操作變繁雜、或涂布液的開始時和結束時涂布膜厚產生變動等情況，因此在具有各向異性的光學膜的膜厚較薄時，特別優(yōu)選一邊連續(xù)地供給用于形成具有各向異性的光學膜的組合物，一邊進行涂布。涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的速度通常為1mm/秒以上，優(yōu)選為5mm/秒以上。此外，通常為1000mm/秒以下，優(yōu)選為800mm/秒以下。通過使涂布速度為上述范圍，趨于在獲得具有各向異性的光學膜的各向異性的同時，可進行均勻的涂布。另外，用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的涂布溫度通常為0℃以上、80℃以下，優(yōu)選為40℃以下。此外，用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的涂布時的濕度，優(yōu)選為10％RH以上，更優(yōu)選為30％RH以上，另一方面，優(yōu)選為80RH％以下。(不溶性處理)本發(fā)明中，將在基板上形成具有各向異性的光學膜之后，將通過鹽交換使具有各向異性的光學膜不會溶解于水中的處理作為不溶性處理。通過本發(fā)明的不溶性處理，降低了具有各向異性的光學膜中的色素的溶解性，抑制色素從該具有各向異性的光學膜中的溶出，可提高具有各向異性的光學膜的穩(wěn)定性。具體地，例如可舉出將價數少的離子置換為價數比其更大的離子(例如，將1價的離子置換為多價的離子)的處理。優(yōu)選在不溶性處理后，具有各向異性的光學膜的色素在水中的溶解度為1質量％以下，從具有各向異性的光學膜的穩(wěn)定性的角度出發(fā)，更優(yōu)選為0.8質量％以下。(不溶化液)本發(fā)明的不溶化中使用的不溶化液沒有特別限制。例如可使用日本專利特開2007-241267號公報、日本專利特開2009-199075號公報、日本專利特開2010-44130號公報、日本專利特開2010-197760號公報、日本專利特開2011-257489號公報、日本專利特開2012-058427號公報等所記載的不溶化液等。本發(fā)明中使用的不溶化液的pH沒有特別限定，但基于陽離子交換的原理，有助于離子交換的陽離子濃度必須為某一固定濃度以上。因此，有時必須比有賴于材料的某種特定pH更靠酸性側。此外，不溶化液的色調也沒有特別限定，但優(yōu)選為基本不會影響偏振光性能的無色、淡色。本發(fā)明中使用的不溶化液沒有特別限定，優(yōu)選含有不溶化化合物和溶劑。不溶化化合物和溶劑可以是1種，也可以使用多種。作為不溶化化合物，優(yōu)選具有與磺基、羧基、二氧磷基以及次磷酸基形成鹽的多價離子的化合物。具體地可舉出Mg、Ca等的無機鹽、聚胺系化合物、具有陽離子性基團的聚合物和在不溶化液中作為金屬離子的化合物的混合物等。這些化合物之中，聚胺系化合物由于減少不溶化后的具有各向異性的光學膜的裂紋而優(yōu)選。聚胺系化合物是指在其分子內具有2個以上的氨基的化合物。此外，聚胺系化合物的一分子所具有的氨基的數量通常為2以上，此外，其上限通常為20以下，優(yōu)選為10以下。通過使氨基的數量在適當的范圍內，聚胺系化合物可以在具有各向異性的光學膜內擴散，趨于可以使具有各向異性的光學膜不溶化。作為聚胺系化合物，可舉出脂肪族聚胺系化合物和芳香族聚胺系化合物。其中，優(yōu)選脂肪族聚胺系化合物。作為脂肪族聚胺系化合物的具體例子，可舉出二氨基己烷、二氨基癸烷等二氨基烷烴化合物；1,4-環(huán)己二胺等二氨基環(huán)己烷；4,4'-亞甲基雙環(huán)己基胺等二氨基環(huán)烷烴化合物；二亞乙基三胺、五亞乙基六胺、雙(六亞甲基)三胺等多亞乙基多胺化合物等。其中，優(yōu)選多亞乙基多胺化合物，特別優(yōu)選雙(六亞甲基)三胺。作為芳香族聚胺系化合物的具體例子，可舉出苯二胺、苯二甲基二胺等。其中，優(yōu)選苯二胺。具有陽離子性基團的聚合物為在主鏈或支鏈上具有陽離子性基團的聚合物。作為陽離子性基團，例如可舉出氨基；甲氨基、乙氨基等單烷基氨基；二甲氨基、二乙氨基等二烷基氨基；胍基；亞氨基；銨鹽基；在環(huán)的一部分具有氮原子的基團等。此外，陽離子性聚合物可以單獨使用1種，也可以并用2種以上。不溶化液中所含有的金屬離子可為1價金屬離子，但優(yōu)選為多價金屬離子。多價金屬離子可舉出堿土金屬離子或過渡金屬離子。這些金屬離子可以通過使具有該金屬離子的化合物在適當的溶劑中溶解而在溶液中產生。作為具有上述金屬離子的化合物，可舉出氯化鋇、氯化鉛、氯化鐵、氯化鎂、碳酸鈣、磷酸鈣等多價金屬鹽等。作為上述的具有陽離子性基團的聚合物和金屬離子，具體可使用日本專利特開2010-44130號公報等所列舉的物質。不溶化液的溶劑優(yōu)選為可溶解離子的極性溶劑。具體可舉出水、離子液體等。在這之中，從經濟性和安全性的觀點出發(fā)，優(yōu)選水。不溶化液中的不溶化化合物的量，只要具有離子交換能力，就沒有特別限制，可以根據不溶化化合物和溶劑的種類、25℃中的不溶化液的粘度等而適當地調整。優(yōu)選為飽和濃度的10％以上，更優(yōu)選為飽和濃度的20％以上。此外，優(yōu)選為飽和濃度(100％)以下，更優(yōu)選為飽和濃度的90％以下。通過使其在此范圍內，可趨于抑制不必要的不溶化化合物的析出，并且可迅速進行不溶化反應。(不溶化液的添加劑)本發(fā)明的不溶化液可含有增稠劑、保濕劑、表面活性劑等添加劑。此外，不溶化液中的添加劑的量，可根據添加劑、不溶化化合物、溶劑的種類等適當地調整。本發(fā)明的不溶化液的制備方法沒有特別限定。例如可以將上述不溶化化合物與溶解混合至成為上述濃度范圍，根據需要進行攪拌等，使其在溶劑中溶解即可。此外，可根據需要在溶劑中混合所使用的添加劑，使其分別成為上述濃度范圍。另外，混合的時間、順序等也是任意的。(不溶化方法)將具有各向異性的光學膜進行不溶化的方法沒有特別限定，可以舉出浸漬法；從具有各向異性的光學膜的上方供給不溶化液的方法；通過噴霧、簾式涂布、輥涂、浸涂、浮動涂布、吹涂(吹き出しコート)等涂布不溶化液的方法；等。本發(fā)明的具有各向異性的光學膜非常薄，具有由于與物體的接觸而容易發(fā)生剝落的傾向。因此，優(yōu)選采用可以抑制具有各向異性的光學膜的偏振光性能的下降、抑制膜的剝離等缺損的方法。(不溶化后的清洗)優(yōu)選對不溶化后的具有各向異性的光學膜進行清洗。清洗的方法沒有特別限定，可使用浸漬、從具有各向異性的光學膜的上方供給清洗液的流水清洗、超聲波清洗等。此外，在清洗中可附加采用特定頻率進行搖動等促進清洗的效果?；蛘撸部梢詫⒍鄠€這些方法組合進行清洗。上述方法中，在可以不施加成為具有各向異性的光學膜的剝離和缺陷的原因的不需要的力這一點，優(yōu)選浸漬。清洗液沒有特別限定，具體可使用純水，也可使用在純水中添加了甲醇、乙醇、異丙醇等醇的液體等。為提高清洗性，這些物質可以含有清洗助劑和表面活性劑等控制清洗性的添加物。清洗后的具有各向異性的光學膜的干燥方法沒有特別限定，可舉出風干、鼓風干燥、真空干燥、加熱干燥等。這些之中，從抑制具有各向異性的光學膜的裂紋的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用風干或鼓風干燥。此外，也可將這些干燥進行組合。＜(II)工序)＞本發(fā)明中作為(II)工序，具有在(I)工序在不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物而形成保護層的工序。(保護層)本發(fā)明的保護層是出于保護具有各向異性的光學膜免受之后的工序和元件制作后的刺激和沖擊等的目的而形成的層，同時也起到作為用于除去具有各向異性的光學膜的不需要的部分并進行圖案化的抗蝕劑的作用。本發(fā)明的保護層若是通過在具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物而形成的層，則沒有特別限定，但不具有光學各向異性的物質由于不會阻礙具有各向異性的光學膜的性能，因而優(yōu)選。本發(fā)明中的光學各向異性是指，從保護層的厚度方向和任意垂直交叉的面內2個方向的立體坐標系的共計3個方向中所選擇的任意2個方向的電磁學性質上具有各向異性?；诓粨p害具有各向異性的光學膜的光學特性，本發(fā)明的保護層優(yōu)選保護層厚度為500nm時的550nm的透光率為80％以上，更優(yōu)選為85％以上，特別優(yōu)選為90％以上。上限沒有特別限制，優(yōu)選為較高。(感光性樹脂組合物)用于形成本發(fā)明的保護層的感光性樹脂組合物含有感光性樹脂。感光性樹脂組合物若是經由光的照射而致顯影液中的溶解性發(fā)生變化的組合物，則沒有特別限定，優(yōu)選經由光的照射而發(fā)生交聯反應或聚合反應而固化的負感光型感光性樹脂組合物。此外，本發(fā)明的感光性樹脂組合物可含有聚合引發(fā)劑、敏化色素等敏化劑、加速劑、各種固化劑、熱固化性樹脂、表面活性劑、粘合性改善劑、流平劑、有機溶劑等。(感光性樹脂)本發(fā)明的感光性樹脂組合物中使用的感光性樹脂沒有特別限定，例如可舉出含有自由基聚合性不飽和基團的化合物、含有陽離子聚合性基團的化合物等。(含有自由基聚合性不飽和基團的化合物)本發(fā)明的含有自由基聚合性不飽和基團的化合物為在分子內具有至少1個乙烯性不飽和基團的化合物。從反應性的觀點出發(fā)，乙烯性不飽和基團優(yōu)選是烯丙基或(甲基)丙烯酰基。作為含有自由基聚合性不飽和基團的化合物，例如可舉出不飽和羧酸和多羥基化合物的酯類、羥基(甲基)丙烯酸酯化合物與聚異氰酸酯化合物的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯酸或羥基(甲基)丙烯酸酯化合物與聚環(huán)氧化合物的環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯類等。具體地可舉出東亞合成公司的Aronix系列、新中村化學公司的NK系列、日本油脂公司的Blemmer系列、共榮社化學公司的Lightacrylate系列、大阪有機公司的Viscoat系列等。(含有陽離子聚合性基團的化合物)作為本發(fā)明的含有陽離子聚合性基團的化合物，可舉出含環(huán)氧基的化合物、含氧雜環(huán)丁基的化合物、含乙烯基的化合物等。在這之中，優(yōu)選含有環(huán)氧基的化合物。例如可舉出三菱化學公司的JER系列、大賽璐公司的Celloxide系列、新日鐵住金化學公司的Epokukdo系列、日本化藥公司的NC-、XD-、EPPN-、EOCN-等系列、DIC公司的EPICLON等。此外，除此以外，也可適當使用與甲基丙烯酸縮水甘油酯等含有乙烯性不飽和基團的化合物進行共聚的樹脂等。作為含氧雜環(huán)丁基的化合物，可舉出東亞合成公司的OXT系列、大阪有機公司的OXE-10或30，使用這些化合物的共聚樹脂等。作為本發(fā)明的感光性樹脂，至少包含含有陽離子聚合性基團的化合物，相比自由基聚合性不飽和基團，更趨于可以在低溫或短時間內熱固化，易于抑制對具有各向異性的光學膜的熱損傷。此外，也優(yōu)選將含有陽離子聚合性基團的化合物與含有自由基聚合性不飽和基團的化合物組合使用。通過組合使用，易于兼顧高曝光靈敏度和熱固化性，趨于容易獲得通過使用曝光和顯影液的顯影而進行的圖案化的容易程度和保護特性優(yōu)異的保護膜。作為具體的優(yōu)選化合物的組合，可舉出以下的組合等：支鏈上具有環(huán)氧基的含有乙烯性不飽和基團的化合物與具有(甲基)丙烯?；幕衔锏墓簿畚?、和不飽和羧酸與多羥基化合物的酯類的組合。(熱塑性樹脂)本發(fā)明的光學元件的制造方法中，在具有后述的(IV)工序時，感光性樹脂組合物優(yōu)選含有熱塑性樹脂。作為熱塑性樹脂，可舉出丙烯酸樹脂、酚醛樹脂、聚氨酯樹脂、聚酯、尼龍、聚酰亞胺、聚碳酸酯，這些物質的衍生物等。另外，在這些樹脂上也可以賦予聚合性基團和交聯性基團。本發(fā)明的熱塑性樹脂若是在(IV)工序中實施的加熱時的溫度下發(fā)生軟化的樹脂，則沒有特別限制，從與其他成分的親和性和在涂布溶劑中的溶解性的角度出發(fā)，作為優(yōu)選例可舉出丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、酚醛樹脂等。另外，在這些樹脂中，也可導入有自由基聚合性不飽和基團、陽離子聚合性基團、其他交聯基團等，這種情況下，可兼具上述的含有自由基聚合性不飽和基團的化合物和/或含有陽離子聚合性基團的化合物的作用。作為兼具含有自由基聚合性不飽和基團的化合物和熱塑性樹脂的樹脂，可舉出例如采用(甲基)丙烯酸等對以日本化藥公司的ZAR、ZCR、CCR等環(huán)氧丙烯酸酯樹脂、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等作為共聚成分進行聚合后的樹脂進行開環(huán)的樹脂等。作為兼具含有自由基聚合性不飽和基團的化合物和熱塑性樹脂的樹脂，可舉出例如將日本化藥公司的NC、EOCN、XD、EPPN等酚醛環(huán)氧樹脂、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯和(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基(甲基)丙烯酸酯等作為共聚成分進行聚合的樹脂等。(聚合引發(fā)劑)本發(fā)明的感光性樹脂組合物也可含有聚合引發(fā)劑。作為聚合引發(fā)劑可舉出自由基聚合光引發(fā)劑、陽離子聚合光引發(fā)劑、自由基聚合熱引發(fā)劑、陽離子聚合熱引發(fā)劑等。這些聚合引發(fā)劑之中，從保護層的易于固化性的角度出發(fā)，優(yōu)選使用自由基聚合光引發(fā)劑和/或陽離子聚合光引發(fā)劑。(自由基聚合光引發(fā)劑)在本發(fā)明的感光性樹脂組合物中適宜使用的自由基聚合光引發(fā)劑沒有特別限定。例如可舉出含有日本專利特開昭59-152396號公報、日本專利特開昭61-151197號各公報等所記載的二茂鈦化合物的茂金屬化合物；日本專利特開2000-56118號公報等所記載的六芳基聯咪唑衍生物；日本專利特開平10-39503號公報等所記載的鹵甲基化惡二唑衍生物；鹵甲基-s-三嗪衍生物；N-苯基甘氨酸等N-芳基-α-氨基酸類；N-芳基-α-氨基酸鹽類；N-芳基-α-氨基酸酯類等自由基活性劑；α-氨基烷基苯酮衍生物；日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特開2006-36750號公報等所記載的肟酯衍生物；等。這些物質之中，肟酯衍生物類和/或α-氨基烷基苯酮衍生物類在比較薄的膜中也易于確保靈敏度，因而優(yōu)選。作為肟酯衍生物類，可舉出例如日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特開2006-36750號公報等所記載的肟和酮肟酯系化合物。作為α-氨基烷基苯酮衍生物類，例如可舉出2-甲基-1〔4-(甲硫基)苯基〕-2-嗎啉代-1-丙酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、4-二甲基氨基乙基苯甲酸酯、4-二甲基氨基異戊基苯甲酸酯、4-二乙基氨基苯乙酮、4-二甲基氨基苯丙酮、2-乙基己基-1，4-二甲基氨基苯甲酸酯、2，5-雙(4-二乙基氨基亞芐基)環(huán)己酮、7-二乙基氨基-3-(4-二乙基氨基苯甲酰)香豆素、4-(二乙基氨基)查爾酮等。(陽離子聚合光引發(fā)劑)適宜在本發(fā)明的感光性樹脂組合物中使用的陽離子聚合光引發(fā)劑為通過可見光線、紫外線等的照射而產生陽離子物種或路易斯酸，引發(fā)陽離子固化性成分的聚合反應的物質。作為陽離子聚合光引發(fā)劑，例如可舉出芳香族碘鎓鹽、芳香族锍鹽等鎓鹽，芳香族重氮鹽，鐵-芳烴絡合物等。這些物質之中，從固化性的角度出發(fā)，優(yōu)選芳香族碘鎓鹽或芳香族锍鹽。此外，為了確保在圖像顯示裝置中與感光性樹脂層鄰接的液晶層的電氣可靠性，特別優(yōu)選芳香族碘鎓塩。芳香族碘鎓塩為具有二芳基碘鎓陽離子的化合物，芳香族锍鹽為具有三芳基锍陽離子的化合物。這些陽離子與陰離子(陰離子)成對，構成陽離子聚合光引發(fā)劑。作為構成陽離子聚合光引發(fā)劑的陰離子可舉出六氟磷酸鹽陰離子PF6-、六氟銻酸鹽陰離子SbF6-、五氟羥基銻酸鹽陰離子SbF5(OH)-、六氟砷酸鹽陰離子AsF6-、四氟硼酸鹽陰離子BF4-、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子B(C6F5)4-等。其中，為了確保在圖像顯示裝置中與感光性樹脂層鄰接的液晶層的電氣可靠性，優(yōu)選六氟磷酸鹽陰離子PF6-。作為芳香族锍鹽，作為具體例子可舉出例如SanApro公司的CPI-100P、CPI-101A、CPI-200K、CPI-210S，ADEKA公司的AdekaOptomerSP-150、SP-170、SP-171等。作為芳香族碘鎓塩，作為具體例子可舉出索爾維日本公司的PHOTOINITIATOR2074、BASF日本公司的IRGACURE250、日本曹達公司的CI-5102、和光純藥公司的WPI-113、WPI-116等。(感光性樹脂和聚合引發(fā)劑的組合)本發(fā)明的感光性樹脂和聚合引發(fā)劑的組合沒有特別限定，從確保光固化性的角度出發(fā)，優(yōu)選自由基聚合光引發(fā)劑和含有自由基聚合性不飽和基團的化合物的組合、含有陽離子聚合性基團的化合物和陽離子聚合光引發(fā)劑的組合、進一步地并用這些組合的系等。(感光性樹脂組合物的溶劑)本發(fā)明的感光性樹脂組合物中使用的溶劑，若是對具有各向異性的光學膜沒有不良影響，則沒有特別限定，因為有必要進行涂布后干燥，優(yōu)選選擇沸點(壓力1013.25[hPa]條件下。下文有關沸點的均如此。)為100～300℃的范圍的熔劑。更優(yōu)選具有120～280℃的沸點的有機溶劑。作為有機溶劑，可舉出二醇單烷基醚類、二醇二烷基醚類、二醇烷基醚乙酸酯類、乙酸烷基酯類、醚類、酮類、一元或多元醇類、脂肪族烴類、脂肪族烴類、脂環(huán)式烴類、芳香族烴類、鏈狀或環(huán)狀酯類、烷氧基羧酸類、鹵化烴類、醚酮類、腈類等。這些物質之中，從涂布性、表面張力等的良好均衡，對感光性樹脂組合物的構成成分的溶解度相對較高的角度出發(fā)，優(yōu)選二醇烷基醚乙酸酯類。此外，有機溶劑可單獨使用，也可2種以上并用。作為有機溶劑例如舉出如下物質。(二醇單烷基醚類)作為二醇單烷基醚類，可舉出乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇叔丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單正丁醚、甲氧基甲基戊醇、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、三丙二醇甲基醚等。(二醇二烷基醚類)作為二醇二烷基醚類可舉出乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚、二丙二醇二甲醚等。(二醇烷基醚乙酸酯類)作為二醇烷基醚乙酸酯類可舉出乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單正丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯、甲氧基丁基乙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、甲氧基戊基乙酸酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單正丁醚乙酸酯、二丙二醇單甲醚乙酸酯、三乙二醇單甲醚乙酸酯、三乙二醇單乙醚乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯等。(二醇二乙酸酯類)作為二醇二乙酸酯類，可舉出乙二醇二乙酸酯、1，3-丁二醇二乙酸酯、1，6-己二醇二乙酸酯等。(烷基乙酸酯類)作為烷基乙酸酯類，可舉出環(huán)己醇乙酸酯等。(醚類)作為醚類可舉出戊醚、二乙醚、二丙醚、二異丙醚、二丁醚、二戊醚、乙基異丁醚、二己醚等。(酮類)作為酮類，可舉出丙酮、甲基乙基酮、甲基戊基酮、甲基異丙基酮、甲基異戊基酮、二異丙基酮、二異丁基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮、乙基戊基酮、甲基丁基酮、甲基己基酮、甲基壬基酮、甲氧基甲基戊酮等。(一元或多元醇類)作為一元或多元醇類，可舉出乙醇、丙醇、丁醇、己醇、環(huán)己醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇、甲氧甲基戊醇、甘油、芐基醇等。(脂肪族烴類)作為脂肪族烴類，可舉出正戊烷、正辛烷、二異丁烯、正己烷、己烯、異戊二烯、二戊烯、十二烷等。(脂環(huán)式烴類)作為脂環(huán)式烴類，可舉出環(huán)己烷、甲基環(huán)己烷、甲基環(huán)己烯、聯環(huán)己烷等。(芳香族烴類)作為芳香族烴類，可舉出苯、甲苯、二甲苯、異丙基苯等。(鏈狀或環(huán)狀酯類)作為鏈狀或環(huán)狀酯類，可舉出甲酸戊酯、甲酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸戊酯、異丁酸甲酯、乙二醇乙酸酯、丙酸乙酯、丙酸丙酯、丁酸丁酯、丁酸異丁酯、異丁酸甲酯、辛酸乙酯、硬脂酸丁酯、苯甲酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、γ-丁內酯等。(烷氧基羧酸類)作為烷氧基羧酸類可舉出3-甲氧基丙酸、3-乙氧基丙酸等。(鹵化烴類)作為鹵化烴類，可舉出氯丁烷、氯戊烷等。(醚酮類)作為醚酮類，可舉出甲氧基甲基戊酮等。(腈類)作為腈類，可舉出乙腈、芐腈等。作為符合上述的市售溶劑，可舉出Mineralspirit、Barsolq#2、Apco#18Solvent、ApcoThinner、SocalSolvent1號及2號、Solvesso#150、ShellTS28Solvent、卡必醇(Carbitol)、乙基卡必醇(EthylCarbitol)、丁基卡必醇(ButhylCarbitol)、甲基溶纖劑(MethylCellosolve)、乙基溶纖劑(EthylCellosolve)、乙基溶纖劑乙酸酯(EthylCellosolveAcetate)、甲基溶纖劑乙酸酯、二甘醇二甲醚(Diglyme)等(均為商品名)。在本發(fā)明的感光性樹脂組合物中使用溶劑時，優(yōu)選使總固體成分的含有率為3重量％以上，更優(yōu)選為5重量％以上。另一方面，優(yōu)選使其為30重量％以下，更優(yōu)選為20重量％以下。通過使其為上述下限值以上，趨于可容易地控制保護層的膜厚，通過使其為上述上限值以下，趨于易于維持感光性樹脂組合物的適用期。(感光性樹脂組合物的制備)本發(fā)明的感光性樹脂組合物的制備方法沒有特別限制，例如，可以將上述各成分與溶劑共同混合，通過攪拌或施加超聲波，使其溶解或分散，進行制備。另外，制備感光性樹脂組合物時，在含有自由基聚合性不飽和基團的化合物或含有陽離子聚合性基團的化合物為液體狀時，也可以用它們代替溶劑。本發(fā)明的感光性樹脂組合物優(yōu)選在將上述各成分與溶劑共同混合之后，通過使用過濾器進行過濾，由此將不溶物、樹脂等可能在合成時產生的凝膠成分、廢物、微量金屬等除去。作為過濾器，例如可使用EntegrisOptimizer、CUNONanoSHIELD、ZetaPlusEC(均為商品名)等。過濾器的篩目的尺寸優(yōu)選盡可能地小，至少優(yōu)選小于保護層的膜厚。通過使過濾器的篩目的尺寸較小，趨于可減少不溶物、凝膠成分、廢物、微量金屬等，抑制對保護層進行成膜時的感光性樹脂組合物的縮孔。此外，能夠抑制貫通保護層的異物和縮孔等缺陷，由此趨于可抑制后述的顯影液侵入到下層的具有各向異性的光學膜。(保護層的涂布方法)本發(fā)明的保護層可以使用在具有各向異性的光學膜的涂布方法中所示的方法等，通過在具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物而獲得。從保護膜的均勻性和工序的簡略化的角度出發(fā)，涂布優(yōu)選為連續(xù)涂布。在這之后，當感光性樹脂組合物含有溶劑時，可以對保護層進行干燥。干燥可以通過使用潔凈烘箱、熱板、紅外線、鹵素加熱器、微波照射等加熱設備進行加熱而進行。在這之中，從易于均等地對膜的整體進行加熱的角度出發(fā)，優(yōu)選潔凈烘箱和熱板。干燥條件只要根據溶劑的種類和具有各向異性的光學膜的耐熱性等進行適當選擇即可。出于充分干燥后可易于獲得穩(wěn)定的固化性的角度出發(fā)，優(yōu)選在高溫下進行長時間干燥。此外，從干燥所需要的時間短則生產率優(yōu)異的觀點和加熱難以影響具有各向異性的光學膜和基板的觀點出發(fā)，優(yōu)選在低溫下短時間進行干燥。此處，干燥溫度通常為40℃以上，優(yōu)選為50℃以上，另一方面，通常為120℃以下，優(yōu)選為100℃以下。干燥時間優(yōu)選為15秒以上，更優(yōu)選為30秒以上，此外，優(yōu)選為5分鐘以下，更優(yōu)選為3分鐘以下。干燥可通過減壓干燥法進行，也可同時使用加熱法和減壓干燥法。保護層的膜厚沒有特別限定，干燥膜厚優(yōu)選為100nm以上，進一步優(yōu)選為200nm以上。另一方面，優(yōu)選為5μm以下，進一步優(yōu)選為4μm以下。通過使保護層的膜厚在上述范圍，則趨于易于同時完成：對下層的具有各向異性的光學膜的保護性、為了將具有各向異性的光學膜進行圖案化而確保保護層的膜強度、維持具有各向異性的光學膜的光學特性。具有各向異性的光學膜與保護層的膜厚的關系沒有特別限定，可為其中任意一方較大。在具有后述的(IV)工序時，保護層的膜厚較大者可以使通過熔體流動進行的密封變得更為容易，因而優(yōu)選。具有各向異性的光學膜與保護層的優(yōu)選的膜厚差，以干燥膜厚計為100nm以上，更優(yōu)選為500nm以上。此外，優(yōu)選為4μm以下，更優(yōu)選為3μm以下。此外，膜厚也可以相同。通過使膜厚的差在特定的范圍，趨向于充分地清洗除去(III)工序中使用的堿性溶液變得容易。此外，具有(IV)工序時，趨于容易兼顧上述清洗除去的容易性和對具有各向異性的光學膜的露出部進行密封。＜(III)工序＞本發(fā)明的制造方法作為(III)工序而具有如下工序：通過在形成的保護層上設置掩模并進行曝光，采用堿性溶液進行顯影，對所述保護層和不溶性處理后的具有各向異性的光學膜進行圖案化。本工序是在(II)工序中形成的保護層上設置掩模并進行曝光，使一部分保護層發(fā)生聚合反應，保護層的非曝光部(非聚合部)通過進行經由堿性溶液的顯影而被溶解。其特征在于在該保護層溶解的同時，使存在于溶解后的保護層的下層的具有各向異性的光學膜進行溶解或剝離，進行圖案化。本工序可以采用單一顯影液，在一個工序中將保護層的非曝光部和不溶化的具有各向異性的光學膜的兩者進行圖案化，可完成工序的簡略化和制造成本的削減。(曝光)曝光中所使用的光源若能使保護層發(fā)生聚合，則沒有特別限定。具體地，例如可舉出氙燈、鹵燈、鎢燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、中壓汞燈、低壓汞燈、碳弧燈、熒光燈、LED等燈光光源，氬離子激光器、YAG激光器、準分子激光器、氮激光器、氦鎘激光器、藍紫色半導體激光器、近紅外線半導體激光器等激光光源。本文中在使用特定波長的光時，也可使用光學濾波器。曝光量通常為0.01mJ/cm2以上，優(yōu)選為0.1mJ/cm2以上，更優(yōu)選為1mJ/cm2以上，此外，通常為1000mJ/cm2以下，優(yōu)選為800mJ/cm2以下，更優(yōu)選為500mJ/cm2以下。(保護層的掩模)本發(fā)明的掩模若為具有遮光性的物質，則沒有特別限制，可使用半導體圖案化工序中使用的硬掩模和乳膠掩模，或者加工為所期望的圖案的金屬、金屬薄膜等遮光物等。硬掩?？梢酝ㄟ^如下所述而獲得：使鉻膜薄薄地附著在玻璃或合成石英上，接著對感光性抗蝕劑進行涂布、曝光·顯影之后，通過蝕刻除去鉻膜，然后，通過再除去上層的抗蝕劑膜，形成曝光用圖案而獲得。乳膠掩模是在浮法玻璃和樹脂薄膜上附加主要由明膠材料和作為感光物的鹵化銀構成的膜而成的掩模，可以與照片的負片同樣地通過進行曝光、顯影、定影而獲得。(顯影液)本發(fā)明的顯影中使用的堿性溶液沒有特別限定，優(yōu)選為pH7.5以上，更優(yōu)選為pH8以上。此外，優(yōu)選為pH14以下，更優(yōu)選為pH12以下。通過使其在該范圍內，趨于易于使保護層和具有各向異性的光學膜發(fā)生溶解或剝離。具體可舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣、氫氧化銨、四甲基氫氧化銨、碳酸鈉、碳酸氫鈉等。這些物質之中，從材料易獲得性和控制顯影液的pH的容易性的角度出發(fā)，優(yōu)選使用氫氧化鉀和/或四甲基氫氧化銨。此外，本發(fā)明的顯影中使用的堿性溶液也可含有水系、非離子系、其他可溶解的表面活性劑。(顯影方法)關于顯影方法及其條件，沒有特別限制。作為顯影方法，可舉出浸漬顯影、槳式顯影、噴霧顯影、刷式顯影、超聲波顯影等。在這之中，浸漬顯影和噴霧顯影由于難以附著污漬，易于均勻地進行顯影因而優(yōu)選。此外，出于減少顯影液的使用量的觀點，優(yōu)選槳式顯影。關于顯影溫度，通常在10℃以上，優(yōu)選15℃以上，此外，另一方面，通常在50℃以下、優(yōu)選在45℃以下中進行。優(yōu)選在顯影后直接或者在使用其他溶劑或水進行清洗之后通過抖落或壓縮空氣進行干燥。此處所謂其他溶劑優(yōu)選選擇不會溶解曝光后的保護層和具有各向異性的光學膜、與顯影液為混合形態(tài)的溶劑。＜其他工序＞為獲得本發(fā)明的光學元件，也可在上述的(I)工序～(III)工序之外具有工序。例如可舉出在基板上設置取向膜的工序、對板賦予潤濕性的工序、通過加熱使保護層熔體流動的工序等。(在基板上設置取向膜的工序)為提高具有各向異性的光學膜的取向性，可在上述(I)工序之前，在基板上設置取向膜。具體地可使用“液晶便覽”(丸善株式會社、2000年10月30日發(fā)行)的226頁～239頁等所記載的公知的方法。(賦予基板潤濕性的工序)在通過涂布形成具有各向異性的光學膜時，為抑制用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的縮孔，可對基板賦予潤濕性。作為賦予潤濕性而形成親液部分的處理，沒有特別限定，可舉出作為物理性或化學性改質處理手段的電暈處理、等離子體處理、紫外線照射(UV臭氧)處理等表面處理。此時，也可通過調整氣體組成和處理時間來調整親液狀態(tài)。(通過加熱使保護層熔體流動的工序((IV)工序))本發(fā)明的制造方法作為(IV)工序，可具有通過加熱使(III)工序中圖案化后的保護層熔體流動(MeltFlow)的工序。如圖4所示，通過使保護層進行熔體流動，可以將顯影后露出的具有各向異性的光學膜輪廓部的側面進行密封。熔體流動的方法若能夠軟化顯影后的保護層，將具有各向異性的光學膜的輪廓部側面密封，則不特別限定條件。從具有各向異性的光學膜的耐熱性的角度出發(fā)，加熱溫度優(yōu)選為200℃以下，特別優(yōu)選為180℃以下。此外，出于通過加熱進一步地促進保護層的固化的目的，優(yōu)選為100℃以上，特別優(yōu)選為120℃以上。從避免具有各向異性的光學膜的劣化的角度出發(fā)，加熱時間優(yōu)選盡可能地短，但出于進一步促進保護層的固化的目的，優(yōu)選為較長，通常為1分鐘以上、優(yōu)選為10分鐘以上，通常為120分鐘以下，優(yōu)選為60分鐘以下。加熱方法可自由地選擇公知的方法，可舉出例如熱板、IR烘箱、對流式烘箱等。(III)工序結束時的具有各向異性的光學膜的輪廓部可以是與保護層的輪廓部為相同位置，或者也可在保護層的輪廓部的更內側這兩者中的任一項。具有各向異性的光學膜(符號2)與保護層(符號3)的輪廓部為相同位置的情況的例子如圖6(a)所示，具有各向異性的光學膜(符號2)在保護層(符號3)的輪廓部的更內側的情況的例子如圖6(b)所示。作為本發(fā)明的制造方法在具有(IV)工序時，優(yōu)選在(III)工序中如圖3所示地將具有各向異性的光學膜(符號2)的輪廓部除去至保護層(符號3)的輪廓部的更內側為止。通過使進行除去后的、在具有各向異性的光學膜的輪廓更外側的保護層部分成為(IV)工序中的熔體流動的充分的留出部(日語：糊代)，由此保護層可密封具有各向異性的光學膜輪廓部的側面。作為具有各向異性的光學膜的輪廓部比保護層的輪廓部更向內側深入的距離，優(yōu)選為具有各向異性的光學膜的膜厚以上，優(yōu)選為5mm以下。通過使其為上述的下限值以上，趨于即使在之后的工序中也能充分地保護具有各向異性的光學膜的輪廓部側面，另一方面，通過使其為上述上限值以下，趨于可抑制具有各向異性的光學膜的圖案化所需要的時間。使具有各向異性的光學膜的輪廓部為保護層的輪廓部的更內側或與保護層的輪廓部為相同位置的方法，沒有特別限定?？赏ㄟ^顯影時間的調整、顯影液的pH調整、添加的表面活性劑等而適當進行調整。具體地，具有各向異性的光學膜，相比于保護層，趨于容易因與其與顯影液的接觸時間而相應地被浸蝕。因此，如果延長顯影時間，則可使具有各向異性的光學膜的輪廓部為相應地比保護層的輪廓部更靠內側。此外，通過顯影液的pH或添加劑的調整，可調整浸蝕具有各向異性的光學膜的速度。[具有(V)工序～(VIII)工序的光學元件的制造方法]作為本發(fā)明的第二方式的包含基板、具有各向異性的光學膜和保護層的光學元件的制造方法，可舉出具有下述(V)工序～(VIII)工序的制造方法。(V)在基板上連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物，形成具有各向異性的光學膜，然后通過鹽交換對所述具有各向異性的光學膜進行不溶性處理的工序；(VI)在所述不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物，形成保護層的工序；(VII)經由曝光和通過顯影液進行的顯影，將上述保護層進行圖案化的工序。(VIII)將保護層被顯影除去而露出的部分的具有各向異性的光學膜，與酸性水溶液或堿性水溶液接觸后，進行水洗的工序。上述制造方法中，上述顯影液優(yōu)選含有80容量％以上的有機溶劑。此外，上述感光性樹脂組合物優(yōu)選含有熱塑性樹脂。此外，上述具有各向異性的光學膜的膜厚優(yōu)選為保護層的膜厚以下。上述(VII)中的顯影液優(yōu)選為含有80容量％以上的有機溶劑而構成的顯影液。此外，上述(VIII)工序中，上述具有各向異性的光學膜優(yōu)選被浸蝕到與保護層的輪廓部相同位置或輪廓部的更內側為止。進一步地，優(yōu)選具有下述(IX)工序。(IX)通過加熱，使圖案化后的所述保護層熔體流動的工序。此外，本發(fā)明還涉及使用上述光學元件的制造方法制造的光學元件和具備該光學元件的圖像顯示裝置。本發(fā)明的包括(V)工序～(VIII)工序的制造方法，若按照(V)工序→(VI)工序→(VII)工序→(VIII)工序的順序進行實施，則沒有特別限定，在各個工序之間也可具有其他的工序。例如，在(V)工序和(VI)工序之前也可具有其他工序。依據上述具有(V)工序～(VIII)工序的光學元件的制造方法，可以沒有涂布缺陷地、容易地將均勻的具有各向異性的光學膜和保護層進行圖案化。此外，可不受具有各向異性的光學膜形成后的制造工序中使用的水和溶劑的影響，抑制具有各向異性的光學膜溶解、剝離等的發(fā)生、偏振光機能損失。因此，在切出從1片基板母材劃分出多個光學元件進行分割而成的基板之時尤其有用，其中光學元件具備在具有各向異性的光學膜形成后使用取向膜形成用的溶劑(NMP等)或作為清洗溶劑的水的工序。((V)工序)本發(fā)明作為(V)工序具有如下工序：在基板上連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物，形成具有各向異性的光學膜，然后通過鹽交換對所述具有各向異性的光學膜進行不溶性處理的工序。(V)工序與上述(I)工序相同，優(yōu)選的范圍等也相同。((VI)工序)本發(fā)明作為(VI)工序具有在(V)工序中進行不溶化后的具有各向異性的光學膜上涂布感光性樹脂組合物，形成保護層的工序。(VI)工序與上述(II)工序相同，優(yōu)選的范圍等也相同。((VII)工序)本發(fā)明的制造方法作為(VII)工序具有如下工序：通過經由曝光和通過顯影液進行的顯影，將所述保護層進行圖案化的工序。通過曝光和顯影進行圖案化的方法為：在上述(VI)工序中形成的保護層上設置曝光掩模進行曝光，使一部分保護層發(fā)生聚合反應。進一步地，除去未受通過曝光進行的光照射而未進行聚合反應的部分的保護層，進行顯影處理，將保護層圖案化。(曝光)曝光中使用的光源若能夠聚合保護層，則沒有特別限定。具體地，與上述(III)工序中所列舉的光源相同，曝光量的優(yōu)選的范圍等也相同。(顯影液)本發(fā)明的顯影液若是在溶解保護層的非曝光部的同時對曝光部的保護層和位于其下部的具有各向異性的光學膜不產生不良影響的顯影液，則沒有特別限定，但優(yōu)選以有機溶劑為主成分的顯影液。以有機溶劑為主成分的顯影液的有機溶劑的含量，優(yōu)選含有80容量％以上的有機溶劑，更優(yōu)選含有90容量％以上。此外，不存在上限值，可為100容量％。通過使其在該范圍內，可以不溶解具有各向異性的光學膜，僅對保護層進行顯影，進一步地趨于不損害保護層的電氣可靠性。此外，除了有機溶劑之外，顯影液也可含有水、非離子系表面活性劑等。作為本發(fā)明的顯影液中使用的有機溶劑的具體例，例如可舉出上述感光性樹脂組合物的溶劑一項中記載的溶劑等。在這些溶劑之中，由于良好地溶解保護層，干燥時不會使保護層發(fā)生白化，因而優(yōu)選二醇烷基醚乙酸酯類和二醇烷基醚乙酸酯類，特別優(yōu)選丙二醇單甲醚乙酸酯和丙二醇單甲醚。本發(fā)明的顯影液中使用的有機溶劑可使1種，也可以混合2種以上進行使用。(顯影方法)關于顯影方法及其條件，沒有特別限制。作為顯影方法，與上述(III)工序中舉出的方法相同，優(yōu)選的顯影方法也相同。此外，顯影溫度也與上述(III)工序相同，優(yōu)選的范圍也相同。((VIII)工序)本發(fā)明的制造方法作為(VIII)工序具有如下的工序：將保護層被顯影除去而露出的部分的具有各向異性的光學膜，與酸性水溶液(下文中稱為“方法(1)”)或堿性水溶液(下文中稱為“方法(2)”)接觸后，進行水洗。通過該工序，可以進行具有各向異性的光學膜的圖案化。本文中，保護層被顯影除去而露出的部分是指通過在(VII)工序的圖案化中除去保護層，而暴露在外部的具有各向異性的光學膜。具體指圖5的符號a所表示的部分。(方法(1))方法(1)為將保護層被顯影除去而露出的部分的具有各向異性的光學膜通過酸性水溶液進行水可溶性處理后，用水洗除去水可溶性化后的具有各向異性的光學膜的方法。方法(1)的水可溶性處理自與酸性水溶液接觸的具有各向異性的光學膜的表面進行。另一方面，酸性水溶液自不溶性處理后的具有各向異性的光學膜表面侵入的速度緩慢。這種酸性水溶液向具有各向異性的光學膜中的侵入速度的緩慢，在容易控制酸性水溶液向具有各向異性的光學膜的橫向的浸蝕(酸性水溶液向位于存在保護層的圖案的部分之下具有各向異性的光學膜的侵入)的同時，也可抑制酸成分向具有各向異性的光學膜的混入(contamination)。因此，在重視具有各向異性的光學膜的尺寸精度和高度的電氣可靠性時，優(yōu)選采用方法(1)。方法(1)中，因為酸性水溶液自不溶性處理后的具有各向異性的光學膜表面侵入的速度緩慢，相比于一次處理中進行水溶性處理至具有各向異性的光學膜的底部為止，多次反復進行以下循環(huán)：將表面水可溶化→將水可溶化部分的表面水洗除去→將新的表面水可溶化，可以縮短水可溶性處理時間，因而優(yōu)選。本發(fā)明中使用的酸性水溶液若是酸性的水溶液，則沒有特別限定，例如為將硫酸、鹽酸、硝酸等無機酸和乙酸、草酸等有機酸適當地溶解于水中的溶液。這些物質之中，從電氣可靠性、氣味、腐蝕性、操作性等角度出發(fā)，優(yōu)選使用有機酸，特別優(yōu)選使用草酸。此外，這些酸也可為多種物質的混合物。上述酸性水溶液也可含有增稠劑、保濕劑、表面活性劑等添加劑。(方法(1)水可溶性處理方法)使用上述的酸性水溶液對具有各向異性的光學膜進行水可溶性處理的方法沒有特別限定，可舉出在酸性水溶液中浸漬具備具有各向異性的光學膜的基板的方法；從具有各向異性的光學膜的上方供給酸性水溶液的方法；在具備具有各向異性的光學膜的基板上進行酸性水溶液噴霧的方法；在具備具有各向異性的光學膜的基板上通過簾式涂布、輥涂、浸涂、浮動涂布(フローティングコート)、吹涂等涂布酸性水溶液的方法；等。本發(fā)明的具有各向異性的光學膜非常薄，具有由于與物體的接觸而容易發(fā)生剝落的傾向。因此，優(yōu)選采用可以抑制具有各向異性的光學膜的偏振光性能的降低，抑制膜的剝離等缺陷的方法。(方法(1)具有各向異性的光學膜的水洗除去)通過水洗而除去水可溶性處理后的具有各向異性的光學膜。水洗的方法沒有特別限定，可舉出浸漬式、槳式、噴霧式等。如果水洗除去中使用的水為酸性，則具有各向異性的光學膜變得難以溶出，因此，為了高效地除去具有各向異性的光學膜，優(yōu)選避免水可溶性處理中所使用的酸性水溶液混入到清洗水中。從這一點出發(fā)，優(yōu)選始終供給新的水的噴霧式等，浸漬式時優(yōu)選策劃準備多個水槽等。此外，也可使用堿性化合物等調節(jié)pH以使清洗水不會成為酸性，但若清洗水成為堿性，則未進行水可溶性處理的部分的具有各向異性的光學膜也易于溶出，難以對圖案化進行控制，因而不優(yōu)選。在任意情況下，均優(yōu)選在最終用沒有不需要的溶液的混入的潔凈的水進行沖洗。(方法(2))方法(2)為通過使保護層被顯影除去而露出的部分的具有各向異性的光學膜與酸性水溶液接觸而溶解除去的方法。不溶性處理后的具有各向異性的光學膜在堿性水溶液中為可溶，因而通過與堿性水溶液接觸，直接被溶解除去。方法(2)可在一次處理中以短時間除去具有各向異性的光學膜，因而在重視工序上的合理性時優(yōu)選使用堿性水溶液。本發(fā)明中使用的堿性水溶液為將堿性化合物適當地溶解在水中的溶液。堿性化合物沒有特別限定，可以是無機堿性化合物，也可以是有機堿性化合物。此外，這些堿性化合物也以是1種，也可以為多種的混合物。進一步地，也可含有增稠劑、保濕劑、表面活性劑等添加劑。作為無機堿性化合物，例如可舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、硅酸鈉、硅酸鉀、偏硅酸鈉、磷酸鈉、磷酸鉀、磷酸氫鈉、磷酸氫鉀、磷酸二氫鈉、磷酸二氫鉀、氫氧化銨等。作為有機堿性化合物，可舉出單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等的乙醇胺；單甲基胺、二甲基胺、三甲基胺等的甲基胺；單乙基胺、二乙基胺、三乙基胺等的乙基胺；單異丙基胺、二異丙基胺等的異丙基胺；正丁基胺；單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺等的異丙醇胺；乙烯亞胺；乙烯二亞胺；四甲基氫氧化銨(TMAH)；膽堿等。這些物質之中，從電氣特性的角度出發(fā)，優(yōu)選有機堿性化合物，特別優(yōu)選使用TMAH。(方法(2)具有各向異性的光學膜的除去方法)方法(2)中，通過與堿性水溶液接觸，溶解除去具有各向異性的光學膜的方法沒有特別限定。可舉出在堿性水溶液中浸漬具備具有各向異性的光學膜的基板的方法；從具有各向異性的光學膜的上方供給堿性水溶液的方法；在具備具有各向異性的光學膜的基板上進行堿性水溶液噴霧的方法；在具備具有各向異性的光學膜的基板上通過簾式涂布、輥涂、浸涂、浮動涂布、吹涂等涂布堿性水溶液的方法；等。本發(fā)明的具有各向異性的光學膜非常薄，具有由于與物體的接觸而容易發(fā)生剝落的傾向。因此，優(yōu)選采用可以抑制具有各向異性的光學膜的偏振光性能的降低、抑制膜的剝離等缺陷的方法。(方法(2)水洗方法)通過與堿性水溶液接觸，溶解除去具有各向異性的光學膜之后，通過水洗，可以除去在具有各向異性的光學膜中殘留的堿性化合物。通過除去在具有各向異性的光學膜中殘留的堿性化合物，可抑制對具有各向異性的光學膜部分的過度浸蝕，趨于獲得光學元件的電氣可靠性。水洗的方法沒有特別限定，可舉出浸漬式、槳式、噴霧式等。這些方法之中，從堿性化合物的除去效率的角度出發(fā)，優(yōu)選始終供給新的水的噴霧式等。在浸漬式的情況時優(yōu)選準備多個水洗用的水槽等，充分地除去堿性化合物。在方法(1)和方法(2)之后進行的具有各向異性的光學膜的干燥方法沒有特別限定，可舉出風干、鼓風干燥、真空干燥、加熱干燥等。這些之中，從抑制具有各向異性的光學膜的裂紋的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用風干或鼓風干燥。此外，可將這些干燥進行組合使用。上述方法中浸蝕具有各向異性的光學膜的程度沒有特別限定，可與保護層的輪廓部為相同位置，也可以是保護層的輪廓部的更內側。具有各向異性的光學膜(符號2)與保護層(符號3)的輪廓部為相同位置的情況的例子如圖6(a)所示，具有各向異性的光學膜(符號2)為保護層(符號3)的輪廓部的更內側的情況的例子如圖6(b)所示。具有各向異性的光學膜與保護層的膜厚的關系沒有特別限定，可為其中任意一方較大。在具有后述的(IX)工序時，保護層的膜厚較大者可以使通過熔體流動進行的密封變得更為容易，因而優(yōu)選。具有各向異性的光學膜與保護層的優(yōu)選的膜厚差，以干燥膜厚計為100nm以上，更優(yōu)選為500nm以上。此外，優(yōu)選為4μm以下，更優(yōu)選為3μm以下。此外，膜厚也可以相同。通過使膜厚的差在特定的范圍內，趨于容易地充分清洗除去(VIII)工序中使用的酸性或堿性水溶液。此外，具有(IX)工序時，趨于容易兼顧上述清洗除去的容易性和對具有各向異性的光學膜的露出部的密封。使具有各向異性的光學膜的浸蝕在保護層的輪廓部的內側以及與保護層的輪廓部為相同位置的方法，沒有特別限定，但在使具有各向異性的光學膜的浸蝕為保護層的輪廓部的內側時，可舉出在(VIII)工序中在完全除去無保護層的部分的具有各向異性的光學膜后經歷短暫時間等方法。此外，使具有各向異性的光學膜的浸蝕與保護層的輪廓部相同位置的方法，可舉出在(VIII)工序中在完全能夠除去無保護層的部分的具有各向異性的光學膜的瞬間進入水洗工序等方法。本發(fā)明的制造方法中，在具有后述的(IX)工序時，優(yōu)選在(VIII)工序中如圖6(b)所示地使具有各向異性的光學膜(符號2)浸蝕至保護層(符號3)的輪廓部的更內側為止。通過使進行浸蝕后的、在具有各向異性的光學膜的輪廓外側的保護層部分成為(IX)工序中的熔體流動的充分的留出部(糊代)，保護層可密封具有各向異性的光學膜輪廓部的側面。作為具有各向異性的光學膜的輪廓部比保護層的輪廓部更向內側深入的距離，優(yōu)選為具有各向異性的光學膜的膜厚以上，此外優(yōu)選為5mm以下，更優(yōu)選為500μm以下，特別優(yōu)選為50μm以下。通過使其為上述的下限值以上，趨于可使具有各向異性的光學膜的輪廓部側面在之后的工序中充分地得到保護，另一方面，通過使其為上述上限值以下，趨于可抑制具有各向異性的光學膜的圖案化所需要的時間，也易于除去(VIII)工序中使用的酸或堿。(其他工序)為獲得本發(fā)明的光學元件，也可在上述的(V)工序～(VIII)工序之外具有工序。例如可舉出在上述基板上設置取向膜的工序、對基板賦予潤濕性的工序、通過加熱使保護層熔體流動的工序等。(在基板上設置取向膜的工序)為提高具有各向異性的光學膜的取向性，可在上述(V)工序之前，在基板上設置取向膜。具體地可使用“液晶便覽”(丸善株式會社、2000年10月30日發(fā)行)的226頁～239頁等所記載的公知的方法。(賦予基板潤濕性的工序)在通過涂布而形成具有各向異性的光學膜時，為抑制用于形成具有各向異性的光學膜的組合物的縮孔，可對基板賦予潤濕性。作為賦予潤濕性而形成親液部分的處理，沒有特別限定，可實施作為物理性或化學性改質處理手段的電暈處理、等離子體處理、紫外線照射(UV臭氧)處理等表面處理。此時，也可通過調整氣體組成和處理時間來調整親液狀態(tài)。((IX)工序通過加熱使保護層熔體流動的工序)作為(IX)工序，在上述(VIII)工序之后，也可具有通過加熱使保護層熔體流動的工序。如如圖7的最下段所示，通過使保護層(符號3)熔體流動，可以對顯影后露出的具有各向異性的光學膜輪廓部的側面進行密封。通過該密封，可以進一步地在光學元件形成后的圖像顯示裝置的工序中提高對具有各向異性的光學膜的保護。在切出從1片基板母材劃分出多個In-Cell型光學元件并進行分割而成的基板之時尤其有用，其中光學元件具備在具有各向異性的光學膜形成后使用取向膜形成用的溶劑(NMP等)的工序。(IX)工序中，保護層的熔體流動的方法、溫度、時間等加熱方法，與上述(IV)工序相同，優(yōu)選的范圍等也相同。＜光學元件＞本發(fā)明的光學元件并不僅限于具有各向異性的光學膜和保護層，出于提高偏振光性能，提高機械性強度等目的，也可以具有其他的層。此外，光學元件也可以使用粘附層或防反射層；取向膜；具有作為相位差膜的機能、作為亮度增強膜的機能、作為反射膜的機能、作為半透射反射膜的機能、作為散射膜的機能等光學機能的層；等作為基板，也可以通過涂布或貼合具有各種機能的層形成層疊，作為層疊體進行使用。這些層可以根據制造工序、特性和機能而適當地設置，其層疊的位置、順序等沒有特別限定。例如，形成上述各層的位置可為在保護層之上形成，此外，也可在設有具有各向異性的光學膜的基板的背對面上形成。另一方面，形成上述各層的順序，可在具有各向異性的光學膜的形成之前，也可在形成之后。具有這些光學機能的層可通過如下所述的方法形成。具有作為相位差膜的機能的層可通過將采用如下所述的方法獲得的相位差膜貼合于構成光學元件的其他層等而形成。相位差膜可通過例如實施日本專利特開平2-59703號公報、日本專利特開平4-230704號公報等所記載的延伸處理，或者實施日本專利特開平7-230007號公報等記載的處理等而形成。具有作為亮度增強膜的機能的層，可通過將采用如下所述的方法獲得的亮度增強膜貼合于構成光學元件的其他層等而形成。亮度增強膜可通過例如采用如日本專利特開2002-169025號公報和日本專利特開2003-29030號公報所記載的方法形成微細孔、或將選擇反射的中心波長不同的2層以上的膽甾型液晶層進行重疊而形成。具有作為反射膜或半透射反射膜的機能的層可通過例如將通過蒸鍍或濺射得到的金屬薄膜與構成光學元件的其他層進行貼合等而形成。具有作為散射膜的機能的層，可通過例如在構成光學元件的其他層上涂布含有微粒的樹脂溶液而形成。此外，具有作為相位差膜和光學補償膜的機能的層可通過將盤狀液晶性化合物、向列型液晶性化合物等液晶性化合物涂布在構成光學元件的其他層上并使之取向而形成。＜圖像顯示裝置＞將本發(fā)明中的光學元件用于LCD和OLED等各種圖像顯示裝置時，圖像顯示裝置的構成等沒有特別限定，光學元件的位置等也沒有特別限定。例如，可以在構成圖像顯示裝置的電極基板等的表面或濾色器上直接形成光學元件，或者將形成有光學元件的基板作為這些圖像顯示裝置的構成部件使用。此外，在本發(fā)明的光學元件上也可設置液晶用的取向膜等?？紤]到本發(fā)明的具有各向異性的光學膜和保護層可通過涂布形成這一點，本發(fā)明的光學元件也能適宜地用于柔性顯示等用途。實施例下文中通過實施例對本發(fā)明進行更為具體的說明，但本發(fā)明只要不超出其主旨，就不受以下的實施例的限定。另外，在以下的記載中，“份”表示“質量份”。＜透射率、偏振光度和對比度的測定方法＞透射率、偏振光度和對比度使用具備格蘭湯普森(GlanThompson)起偏鏡的分光光度計(大塚電子(株)制，產品名"RETS-100")而求得。向具有各向異性的光學膜入射直線偏振光的測定光，基于通過測定獲得的400nm～800nm的透射率波長依賴性(Ty(λ)、Tz(λ)、Tm(λ))，經由如下所示的計算，算出測定元件的單體透射率(Tm)[％]、偏振光度(PE)[％]、對比度(CR)。Tm[％]＝ΣV(λ)D65(λ)Tm(λ)/ΣV(λ)D65(λ)x100Ty[％]＝ΣV(λ)D65(λ)Ty(λ)/ΣV(λ)D65(λ)x100Tz[％]＝ΣV(λ)D65(λ)Tz(λ)/ΣV(λ)D65(λ)x100CR＝Ty/TzPE＝{(Ty-Tz)/(Ty+Tz)}1/2x100各符號的意義如下所示。Tm(λ)：各波長中的具有各向異性的光學膜的單體透射率Tz(λ)：各波長中的具有各向異性的光學膜對吸收軸方向的偏振光的透射率Ty(λ)：各波長中的具有各向異性的光學膜對偏振光軸方向的偏振光的透射率D65(λ)：在各波長下的物體顏色的測定用光源強度(CIE、ISO的標準光強度)V(λ)：由國際照明委員會、國際度量衡局定義的相對可見度波長依賴性[實施例1](用于形成具有各向異性的光學膜的組合物1的制作)通過在79份水中攪拌溶解20份下述式(1)所表示的色素的鋰鹽和1份下述式(2)所表示的色素，制作用于形成具有各向異性的光學膜的組合物1。[化1](不溶化液1的制作)在24.4份雙(六亞甲基)三胺(東京化成公司制)中加入6N的硫酸75.6份，進行攪拌溶解，制作不溶化液1。不溶化液1的粘度為50cP。(感光性樹脂組合物1的制作)混合表1所示的各成分，使用丙二醇甲基醚乙酸酯調整至固體成分濃度成為15重量％，制作感光性樹脂組合物1。另外，表中的各成分如下所述。·光聚合性單體(含有自由基聚合性不飽和基團的化合物)a-1：二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化學(株)制)·樹脂(含有自由基聚合性不飽和基團的化合物)b-1：日本化藥(株)制ZAR1035(屬于環(huán)氧基(甲基)丙烯酸酯樹脂。在雙酚A型環(huán)氧樹脂加成丙烯酸，進一步地加成琥珀酸酐而成的樹脂。分子量13，000，酸值約100)·自由基聚合光引發(fā)劑(α-氨基烷基苯酮衍生物類)c-1：BASF(株)制IRGACURE907·表面活性劑：DIC(株)制RS-72-K(具有聚合性基團的氟系表面活性劑)[表1]感光性樹脂組合物1的成分(重量份)光聚合性單體a-147.4樹脂b-147.4自由基聚合光引發(fā)劑c-15表面活性劑0.2((I)工序)作為基板，準備在玻璃制基板(10×10cm、厚度0.7mm)上形成取向膜(聚酰亞胺膜厚約60nm)，在端面實施水平方向的摩擦處理后的基板。在該取向膜上，采用模具涂布機(濕膜厚2μm，機頭速度15mm/s)連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物1，使其自然干燥，從而形成膜厚約為0.4μm的具有各向異性的光學膜。另外，涂布時的環(huán)境條件為23℃、50RH％。使形成有具有各向異性的光學膜的基板含浸于不溶化液1中3秒鐘。取出基板之后，使用軟化水，為了將多余的不溶化液進行沖洗而實施充分的清洗，然后進行基板的風干。((II)工序)在(I)工序中進行不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上，滴加約1.0mL的感光性樹脂組合物1，調節(jié)旋涂機的轉速使膜厚成為500nm，進行40秒的旋轉涂布。然后在熱板上進行90℃、90秒鐘的加熱干燥，形成保護層。((III)工序)使用3kW高壓汞燈，介由具有負片圖案(1英寸Φ的圓狀)的掩模，以500mJ/cm2的曝光量對在(II)工序中形成有保護層的基板進行曝光。接著，將曝光后的基板在0.06％氫氧化鉀水溶液(顯影液)中進行90秒鐘的搖動浸漬，進行顯影。顯影后，采用25℃軟化水充分地搖動含浸清洗后，吹出壓縮空氣對其進行干燥，獲得光學元件1。光學元件1上未發(fā)現膜的剝落等缺陷。光學元件1的從基板上面拍攝的照片如圖1所示。中央的黑色圓的部分為光學元件1(符號4)?？芍鈱W元件1以外的不需要的部分(不溶化后的具有各向異性的光學膜和保護層)通過實施例1中的(III)工序的曝光顯影被一次性地除去。此外，圖1的光學元件1的端部放大照片如圖2所示。光學元件1(符號4)的端部形狀良好，可知獲得了尺寸特性優(yōu)異的光學元件。此外，采用大塚電子制的RETS-100測定該元件的偏振光特性時，表現出單體透射率41.0％、偏振光度99.4％的良好的值，可知具有作為光學元件的充分特性。((IV)工序)接著，將該光學元件1用180℃的烘箱進行30分鐘的加熱。觀察加熱后的光學元件1的相當于具有各向異性的光學膜的輪廓部的部分的截面的SEM時，用顯微鏡觀察確認到保護層如圖4的最下段的圖所示地熔體流動，密封了具有各向異性的光學膜的輪廓部側面。[實施例2](聚合物A的制作)在具備有回流冷凝器、攪拌機和氮氣通入管的燒瓶中，加入甲基丙烯酸二環(huán)戊基酯(日立化成(株)制“FA-513M”)11質量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯61質量份、甲基丙烯酸-4-羥基苯基酯14質量份、丙二醇單甲醚乙酸酯400質量份、二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)8.0質量份，進行氮氣置換后，一邊攪拌一邊使液溫上升至80℃，在80℃下進行6小時的反應。進一步地，在100℃下進行1小時的二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)的分解處理之后，在80℃減壓條件下，蒸餾丙二醇單甲醚乙酸酯，濃縮至固體成分濃度成為50質量％左右，獲得聚合物A。該聚合物A的重均分子量(Mw)約為9,000。另外，重均分子量以島津制作所制的“凝膠滲透色譜系統(tǒng)LSSolution”使用島津制作所制的“ColumnGPC-804”進行測定。聚合物A中的來源于含有環(huán)氧基的乙烯基化合物(甲基丙烯酸縮水甘油酯)的重復單元結構的含有比例為67摩爾％，來源于含有環(huán)狀脂肪族基團的乙烯基化合物(甲基丙烯酸二環(huán)戊基酯)的重復單元結構的含有比例為13摩爾％，來源于含有芳香族性羥基的乙烯基化合物(甲基丙烯酸-4-羥基苯基酯)的重復單元結構的含有比例為20摩爾％。聚合物A中含有的重復單元的結構如下所示。[化2](感光性樹脂組合物2的制作)分別稱取表2的各成分，使用磁力攪拌器進行攪拌而使其完全溶解，進一步地繼續(xù)攪拌10分鐘。接著，使用Entegris公司的OptimizerV470.02μmFD5AXFR進行過濾，獲得感光性樹脂組合物2。[表2](*1)固體成分的含量(*2)也包含來源于聚合物A、B的溶劑另外，表2中所示的各成分的結構如下所示。結構式中，Et表示乙基。(含有陽離子聚合性基團的化合物OXT-121(東亞合成公司制))[化3](陽離子聚合光引發(fā)劑IRGACURE250(BASF公司制))[化4](敏化劑UVS-1331(川崎化成公司制))[化5](加速劑ET-2201(川崎化成公司制))[化6](流平劑BYK-330(畢克化學公司制))聚醚改性聚甲基烷基硅氧烷((I)工序)作為基板，準備在玻璃制基板(10×10cm、厚度0.7mm)上形成取向膜(膜厚約60nm的聚酰亞胺膜)并在端面實施水平方向的摩擦處理后的基板。在該取向膜上，采用模具涂布機(濕膜厚2μm，機頭速度15mm/s)連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物1，通過使其自然干燥，形成膜厚約為0.4μm的具有各向異性的光學膜。另外，涂布時的環(huán)境條件為23℃、50RH％。將形成有具有各向異性的光學膜的基板在不溶化液1中含浸5秒鐘。取出基板之后，使用軟化水進行清洗，然后進行基板的風干。((II)工序)在(I)工序中進行不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上，滴加約0.5mL的感光性樹脂組合物1，調節(jié)旋涂機的轉速，進行50秒的旋轉涂布，使后述的(III)工序的顯影后的膜厚成為1.5μm。然后在熱板上進行90℃、90秒鐘的加熱干燥，形成保護層。((III)工序)使用3kW高壓汞燈，介由具有負片圖案的掩模，以50mJ/cm2的曝光量對在(II)工序中形成有保護層的基板進行曝光。接著，將曝光后的基板在0.04％氫氧化鉀水溶液(顯影液)中進行3分鐘的一邊搖動一邊顯影，之后采用流水進行30秒鐘的水洗，吹出壓縮空氣對其進行干燥，獲得光學元件2。光學元件2被圖案化，未發(fā)現膜的剝落等缺陷。((IV)工序)接著，將該光學元件2用180℃的烘箱進行30分鐘的加熱。保護層之下的具有各向異性的光學膜為不存在裂紋、膜的脫落等的均勻且良好的膜。(偏振光特性的評價)對所得的光學元件2進行偏振光特性的評價。將光學元件2分割為兩半，觀察將其重疊為成為正交尼科爾或平行尼科爾時的樣態(tài)時，可確認到光被均勻地遮光或透射。[實施例3](聚合物B的制作)在具備有回流冷凝器、攪拌機和氮氣通入管的燒瓶中，加入具有三環(huán)癸烷骨架的單甲基丙烯酸酯(日立化成(株)制“FA-513M”)16質量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯61質量份、甲基丙烯酸12質量份、二乙二醇甲基乙基醚300質量份、二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)9質量份，進行氮氣置換后，一邊攪拌一邊使液溫上升至80℃，在80℃下進行6小時反應，獲得聚合物B。該聚合物B的重均分子量(Mw)約為8，000。另外，重均分子量以島津制作所制的“凝膠滲透色譜系統(tǒng)LSSolution”使用島津制作所制的“ColumnGPC-804”進行測定。聚合物B中含有的重復單元的結構如下所述。聚合物B中的來源于含有環(huán)氧基的乙烯基化合物(甲基丙烯酸縮水甘油酯)的重復單元結構的含有比例為67摩爾％，來源于含有環(huán)狀脂肪族基團的乙烯基化合物(甲基丙烯酸二環(huán)戊基酯)的重復單元結構的含有比例為11摩爾％，來源于甲基丙烯酸的重復單元結構的含有比例為22摩爾％。[化7](感光性樹脂組合物3的制作)稱取表2的各成分，與實施例2的感光性樹脂組合物2同樣地實施，獲得感光性樹脂組合物3。除使在(III)工序中的0.04％的氫氧化鉀水溶液(顯影液)中的搖動時間為1分鐘外，與實施例2同樣地進行(I)工序～(III)工序，獲得光學元件3。光學元件3被圖案化，未發(fā)現膜的剝落等缺陷。((IV)工序)接著，將該光學元件3與實施例2同樣地進行加熱。保護層之下的具有各向異性的光學膜為不存在裂紋、膜的脫落等的均勻且良好的膜。(偏振光特性的評價)對所得的光學元件3，與實施例2同樣地進行偏振光特性的評價?？纱_認到光學元件3可均勻地對光進行遮光或透射。[參考例]＜含有陽離子聚合性基團的化合物1的制造方法＞在具備有回流冷凝器、攪拌機和氮氣通入管的燒瓶中，加入具有三環(huán)癸烷骨架的單甲基丙烯酸酯(日立化成(株)制“FA-513M”)47質量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯61質量份、丙二醇單甲醚乙酸酯400質量份、二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)8.0質量份，進行氮氣置換后，一邊攪拌一邊使液溫上升至80℃に，在80℃下進行6小時反應。進一步地，在100℃下進行1小時的二甲基-2，2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)的分解處理之后，在80℃減壓條件下，蒸餾丙二醇單甲醚乙酸酯，濃縮至固體成分濃度成為50質量％左右，獲得含有陽離子聚合性基團的化合物1。該樹脂的重均分子量(Mw)約為11，000。另外，重均分子量以島津制作所制的“凝膠滲透色譜系統(tǒng)LSSolution”使用島津制作所制的“ColumnGPC-804”進行測定。[化8]＜感光性樹脂組合物4的制備＞在如表3所示的感光性樹脂組合物4的成分之中，首先分別稱取陽離子聚合光引發(fā)劑(Irg250)、敏化劑(UVS-1331)、加速劑(ET-2201)、自由基聚合光引發(fā)劑(Irg369)和自由基聚合熱引發(fā)劑(VAm-110)，在其中加入作為有機溶劑的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)，使用磁力攪拌器進行攪拌而使其完全溶解。接著，加入上述以外的感光性樹脂組合物4的成分，進一步地繼續(xù)攪拌10分鐘。接著，使用Entegris公司的OptimizerV470.02μmFD5AXFR進行過濾，獲得感光性樹脂組合物4。＜感光性樹脂組合物5的制備＞在如表3所示的感光性樹脂組合物5的成分之中，首先分別稱取陽離子聚合光引發(fā)劑(Irg250)、敏化劑(UVS-1331)、加速劑(ET-2201)，在其中加入作為有機溶劑的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)，使用磁力攪拌器進行攪拌而使其完全溶解。接著，加入上述以外的感光性樹脂組合物5的成分，進一步地繼續(xù)攪拌10分鐘。接著，使用Entegris公司的OptimizerV470.02μmFD5AXFR進行過濾，獲得感光性樹脂組合物5。[表3](*1)固體成分的含量(*2)也包含來源于含有陽離子聚合性基團的化合物1的溶劑[參考例4]((V)工序)作為基板，準備在玻璃制基板(10×10cm、厚度0.7mm)上形成取向膜(聚酰亞胺膜厚約60nm)并且在端面實施水平方向的摩擦處理的基板。在該取向膜上，采用模具涂布機(濕膜厚2μm，機頭速度15mm/s)連續(xù)涂布用于形成具有各向異性的光學膜的組合物1，通過使其自然干燥，形成膜厚約為0.4μm的具有各向異性的光學膜。另外，涂布時的環(huán)境條件為23℃、50RH％。使形成有具有各向異性的光學膜的基板在不溶化液1中含浸5秒鐘。取出基板之后，使用軟化水進行清洗，然后進行基板的風干。((VI)工序)在(V)工序中進行不溶性處理后的具有各向異性的光學膜上，滴加約0.5mL的感光性樹脂組合物4，調節(jié)旋涂機的轉速以使下一個工序(VII)工序的顯影后的膜厚成為1μm，進行50秒的旋轉涂布。然后，在熱板上進行90℃、90秒鐘的加熱干燥，形成保護層。((VII)工序)使用3kW高壓汞燈，介由具有負片圖案的掩模，以500mJ/cm2的曝光量對在(VI)工序中形成有保護層的基板進行曝光。接著，將曝光后的基板，以丙二醇單甲醚乙酸酯作為顯影液，進行30秒的一邊搖動一邊浸漬，進行顯影。顯影后，采用軟化水進行清洗之后，進行干燥，在具有各向異性的光學膜上形成圖案化后的保護層。((VIII)工序)將(VII)工序后的基板在1N草酸水溶液中30秒搖動浸漬后，施以軟化水而進行流動水洗。通過進行3次該工序，完全除去保護層被顯影除去而露出的部分的具有各向異性的光學膜，進行干燥，獲得光學元件4。用顯微鏡對光學元件4進行確認時，可觀察到具有各向異性的光學膜被浸蝕至相比保護層的輪廓部的更內側1.5μm左右。此外，保護層之下的具有各向異性的光學膜為不存在裂紋、膜的脫落等的均勻且良好的膜。((IX)工序)接著，將(VIII)工序中所得的光學元件4用180℃的烘箱進行30分鐘的加熱。觀察加熱后的光學元件4的相當于具有各向異性的光學膜的輪廓部的部分的截面的SEM時，確認到保護層進行熔體流動，密封了具有各向異性的光學膜的輪廓部側面。此外，保護層之下的具有各向異性的光學膜為不存在裂紋、膜的脫落等的均勻且良好的膜。此外，如后述的參考例5，將2片光學元件4正交或平行地重疊，確認了其作為光學元件發(fā)揮機能。[參考例5]將參考例4的感光性樹脂組合物4變更為感光性樹脂組合物5，進一步地將(VII)工序的曝光量變更為200mJ/cm2，其他同樣地進行，獲得光學元件5。與參考例4同樣地采用顯微鏡確認光學元件時，具有各向異性的光學膜被浸蝕至相比保護層的輪廓部的更內側1.5μm左右。此外，保護層之下的具有各向異性的光學膜為不存在裂紋、膜的脫落等的均勻且良好的膜。進一步地，觀察截面SEM時，確認到保護層進行熔體流動，密封了具有各向異性的光學膜的輪廓部側面。此外，保護層之下的具有各向異性的光學膜為不存在裂紋、膜的脫落等的均勻且良好的膜。如圖8(a)～(c)所示，將2片光學元件5進行正交或平行地重疊，確認了其作為光學元件發(fā)揮機能。[參考例6]除(VIII)工序按下述進行之外，其他與參考例5同樣地進行，獲得光學元件6。((VIII)工序)將(VII)工序后的基板在0.4％TMAH水溶液中進行20秒的搖動浸漬，完全除去保護層被顯影除去而露出的部分的具有各向異性的光學膜，施以軟化水而進行流動水洗并且進行干燥。觀察所得的光學元件6的相當于具有各向異性的光學膜的輪廓部的部分的截面的SEM時，確認到保護層進行熔體流動，密封了具有各向異性的光學膜的輪廓部側面。此外，保護層之下的具有各向異性的光學膜為不存在裂紋、膜的脫落等的均勻且良好的膜。進一步地，與參考例5同樣地，將2片光學元件6進行正交或平行地重疊，確認了其作為光學元件發(fā)揮機能。詳細地并且參照特定的實施方法進行說明，但本領域技術人員知曉，可以不超出本發(fā)明的精神和范圍地進行各種變更和修正。本申請基于2014年8月1日申請的日本專利申請(特愿2014-157886)、2014年8月1日申請的日本專利申請(特愿2014-157887)、2015年3月23日申請的日本專利申請(特愿2015-059748)和2015年7月22日申請的日本專利申請(特愿2015-144891)，作為參考將其內容引入至本文。當前第1頁1 2 3