本發(fā)明涉及光刻工藝制備領(lǐng)域，尤其涉及一種顯影裝置及光刻設(shè)備。

背景技術(shù)：

tft-lcd(thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay，薄膜晶體管-液晶顯示器)作為一種平板顯示裝置，因其具有體積小、功耗低、無(wú)輻射以及制作成本相對(duì)較低等特點(diǎn)，而越來(lái)越多地被應(yīng)用于高性能顯示領(lǐng)域當(dāng)中。

tft-lcd的陣列基板中具有通過(guò)光刻(mask)工藝形成的薄膜圖案，例如tft的柵極、源極、漏極等。其中，上述光刻工藝包括成膜、曝光、顯影等工藝。在顯影過(guò)程中，圖形的分布密度不同，顯影速度也不同。例如，陣列基板中，待形成圖形的密度較大的像素區(qū)，顯影液消耗少，顯影液濃度大，顯影速度快；而圖形密度較小的外圍電路區(qū)，顯影液消耗多，顯影液濃度小，顯影速度較慢。在此情況下，顯影速度較快的區(qū)域容易造成過(guò)顯影，使得該區(qū)域的光刻膠厚度較小，從而導(dǎo)致像素區(qū)和外圍電路區(qū)之間的交接區(qū)域處，光刻膠的厚度存在差異，使得整個(gè)成膜基板上光刻膠厚度的臨界尺寸值不均一。這樣一來(lái)，受到不同厚度的光刻膠覆蓋的金屬薄膜層，在刻蝕工藝后，形成的金屬圖形的線寬不一致，降低整個(gè)陣列基板的關(guān)鍵尺寸(criticaldimension，cd)的均一性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種顯影裝置及光刻設(shè)備，能夠解決成膜基板上不同區(qū)域的顯影速度不同的問(wèn)題。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例的一方面，提供一種顯影裝置，包括顯影腔室，所述顯影腔室內(nèi)設(shè)置有用于承載成膜基板的承載板，以及與所述承載板相連接的驅(qū)動(dòng)部件；所述驅(qū)動(dòng)部件用于驅(qū)動(dòng)所述承載板移動(dòng)；所述承載板的承載面具有多個(gè)加熱區(qū)，所述承載板中在每個(gè)加熱區(qū)內(nèi)設(shè)置有一個(gè)加熱源；所述顯影裝置還包括與每個(gè)所述加熱源單獨(dú)連接的控制器，所述控制器用于根據(jù)調(diào)溫指令控制每個(gè)所述加熱源產(chǎn)生的熱量。

優(yōu)選的，所述顯影腔室內(nèi)，且在所述顯影腔室的入口處設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)用于將所述入口處的成膜基板傳送至所述承載板。

優(yōu)選的，所述傳送機(jī)構(gòu)包括多個(gè)平行設(shè)置的傳送桿，每個(gè)傳送桿上安裝有多個(gè)間隔設(shè)置的滾輪；其中，所述傳送桿的延伸方向和所述滾輪徑向方向相同。

優(yōu)選的，還包括設(shè)置于所述顯影腔室內(nèi)，且位于所述承載板背離所述承載面一側(cè)的支撐板；所述支撐板的支撐面靠近所述承載板，所述支撐面上設(shè)置有與所述支撐面垂直的多個(gè)支撐針；所述承載板位于所述傳送機(jī)構(gòu)靠近所述顯影腔室的底面的一側(cè)；且所述支撐針位于相鄰兩個(gè)傳送桿之間。所述承載板上設(shè)置多個(gè)通孔，每個(gè)所述通孔在所述支撐面上的正投影與一個(gè)所述支撐針在所述支撐面上的正投影重疊；所述通孔的孔徑大于所述支撐針的直徑。

優(yōu)選的，所述顯影腔室的底面設(shè)置有導(dǎo)向槽；所述驅(qū)動(dòng)部件包括水平驅(qū)動(dòng)子部，所述水平驅(qū)動(dòng)子部包括驅(qū)動(dòng)器以及與所述驅(qū)動(dòng)器相連接的滾輪；所述滾輪設(shè)置于所述導(dǎo)向槽內(nèi)，用于在所述驅(qū)動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)下沿所述導(dǎo)向槽滾動(dòng)。

優(yōu)選的，在所述顯影裝置包括支撐板的情況下，所述驅(qū)動(dòng)部件包括豎直驅(qū)動(dòng)子部，所述豎直驅(qū)動(dòng)子部位于所述支撐板與所述水平驅(qū)動(dòng)部件之間；所述豎直驅(qū)動(dòng)子部包括固定端以及活動(dòng)端，所述活動(dòng)端用于相對(duì)于所述固定端沿垂直于所述顯影腔室的底面的方向運(yùn)動(dòng)；其中，所述固定端與所述水平驅(qū)動(dòng)部件相連接，所述活動(dòng)端與所述支撐板相連接。

優(yōu)選的，所述導(dǎo)向槽包括依次收尾相接的去程子導(dǎo)槽、下行子導(dǎo)槽、回程子導(dǎo)槽以及上行子導(dǎo)槽；其中，所述去程子導(dǎo)槽的一端設(shè)置于所述顯影腔室的入口處，另一端設(shè)置于所述顯影腔室的出口處；所述回程子導(dǎo)槽與所述去程子導(dǎo)槽平行；所述下行子導(dǎo)槽、所述上行子導(dǎo)槽與所述去程子導(dǎo)槽垂直。

優(yōu)選的，所述顯影腔室的入口處且位于所述顯影腔室的頂面設(shè)置有用于噴出顯影液的第一噴嘴和第二噴嘴；所述第一噴嘴與所述承載板的承載面之間具有傾角；所述第二噴嘴與所述承載板的承載面之間垂直。

優(yōu)選的，所述加熱源為電阻絲或者內(nèi)部設(shè)置有所述電阻絲的加熱塊。

本發(fā)明實(shí)施例的另一方面，提供一種如上所述的任意一種顯影裝置。

由上述可知，本申請(qǐng)?zhí)峁┑娘@影裝置中，用于承載成膜基板的承載板具有多個(gè)加熱區(qū)，通過(guò)控制器對(duì)位于不同加熱區(qū)中的加熱源產(chǎn)生的熱量進(jìn)行單獨(dú)調(diào)節(jié)，從而可以分區(qū)域?qū)Τ赡せ暹M(jìn)行加熱，以增大cd偏大區(qū)域的顯影溫度，提高該區(qū)域的顯影速度，并減小cd偏小區(qū)域的顯影溫度，降低該區(qū)域的顯影速度，使得整個(gè)成膜基板各個(gè)區(qū)域的顯影速度均一，從而達(dá)到cd均一的目的。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中承載板的傳送路線示意圖；

圖3為圖1中承載板的具體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為在顯影腔室內(nèi)設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)的顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為圖5中傳送結(jié)構(gòu)的具體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為圖6中傳送桿與滾輪的安裝示意圖；

圖8為圖6中承載板承接傳送機(jī)構(gòu)傳送的成膜基板的過(guò)程示意圖；

圖9為圖8中支撐針與傳送機(jī)構(gòu)的俯視圖；

圖10為圖1中驅(qū)動(dòng)裝置的一種結(jié)構(gòu)以及驅(qū)動(dòng)方式示意圖；

圖11為圖1中驅(qū)動(dòng)裝置的另一種結(jié)構(gòu)以及驅(qū)動(dòng)方式示意圖。

附圖標(biāo)記：

01-顯影裝置；02-傳送路線；10-顯影腔室；100-成膜基板；101-承載板；102-支撐板；103-支撐針；104-通孔；105-第一噴嘴；106-第二噴嘴；120-加熱區(qū)；121-加熱源；13-傳送機(jī)構(gòu)；130-傳送桿；131-滾輪；132-支撐架；1320-支撐部；1321-轉(zhuǎn)軸部；200-驅(qū)動(dòng)部件；201-水平驅(qū)動(dòng)子部；2010-驅(qū)動(dòng)器；202-豎直驅(qū)動(dòng)子部；2021-固定端；2022-活動(dòng)端；211-控制器；20-等候腔室；30-水洗腔室；40-烘干腔室；50-導(dǎo)向槽；501-去程子導(dǎo)槽；502-下行子導(dǎo)槽；503-回程子導(dǎo)槽；504-上行子導(dǎo)槽；a1-去程路線；a2-回程路線；b1-下行路線；b2-上行路線。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯影裝置01，如圖1所示，包括顯影腔室10。該顯影腔室10內(nèi)設(shè)置有用于承載成膜基板100的承載板101，以及與該承載板101相連接的驅(qū)動(dòng)部件200。其中，該驅(qū)動(dòng)部件200用于驅(qū)動(dòng)承載板101移動(dòng)。

其中，優(yōu)選的，在該顯影腔室01的入口處且位于顯影腔室10的頂面設(shè)置有用于噴出顯影液的第一噴嘴105和第二噴嘴106。

具體的，第一噴嘴105與承載板101的承載面之間具有傾角。該第二噴嘴106與承載板101的承載面之間垂直。這樣一來(lái)，通過(guò)傾斜設(shè)置的第一噴嘴105可以對(duì)位于該承載板101上的成膜基板100的上表面進(jìn)行預(yù)噴淋，以對(duì)第二噴嘴106噴淋的顯影液的覆蓋范圍進(jìn)行補(bǔ)償，使得成膜基板100的上表面能夠均勻的被顯影液覆蓋。

需要說(shuō)明的是，上述成膜基板100包括襯底基板，或者包括襯底基板以及位于該襯底基板上的由至少一層薄膜層構(gòu)成的薄膜圖案，例如陣列基板。

此外，該驅(qū)動(dòng)部件200可以驅(qū)動(dòng)承載板沿如圖2所示的傳送路線02進(jìn)行移動(dòng)。上述傳送路線02是指，承載板101在顯影腔室10內(nèi)，根據(jù)顯影工藝的要求承載成膜基板100進(jìn)行移動(dòng)，以使得至少一塊成膜基板100能夠完成顯影工藝所需的路線。

例如，上述傳送路線02如圖1所示，可以為將成膜基板100從顯影腔室10的入口傳送至顯影腔室10出口位置。這樣一來(lái)，承載板101可以將成膜基板100由顯影腔室10的入口傳送至顯影腔室10內(nèi)部，使得該成膜基板100在顯影腔室10內(nèi)完成顯影工藝，然后再將上述成膜基板100傳輸中顯影腔室10出口位置，以使得該成膜基板進(jìn)行后續(xù)工藝處理。

或者，又例如，上述傳送路線02可以包括如圖2所示的去程路線a1、分別位于顯影腔室10出口位置和入口位置的下行路線b1和上行路線b2，以及回程路線a2。其中，回程路線a2與去程路線a1平行，下行路線b1和上行路線b2平行。下行路線b1和行路線b2的上端均與去程路線a1相連接，下端均與回程路線a2相連接。

具體的，當(dāng)承載板101沿去程路線a1將成膜基板100由顯影腔室10的入口輸送至顯影腔室10的出口，且成膜基板100移除顯影腔室10后，承載板101沿下行路線b1移動(dòng)至回程路線a2，再沿回程路線a2從顯影腔室10的觸控移動(dòng)至顯影腔室10的入口所在的一側(cè)；然后再沿上行路線b2返回去程路線a1的起始位置，從而承接后續(xù)進(jìn)入顯影腔室10進(jìn)行顯影工藝的成膜基板100。由上述可知圖3提供的傳送路線為回型，在此情況下，可以由多個(gè)承載板101依次沿上述回型傳送路線順時(shí)針移動(dòng)，從而可以實(shí)現(xiàn)多個(gè)成膜基板100的流水線作業(yè)。

在此基礎(chǔ)上，如圖3所示，上述承載板101的承載面具有多個(gè)加熱區(qū)120，且該承載板101中在每個(gè)加熱區(qū)120內(nèi)設(shè)置有一個(gè)加熱源121。

此外，上述顯影裝置01還包括與每個(gè)加熱源121單獨(dú)連接的控制器211，該控制器211用于根據(jù)調(diào)溫指令控制每個(gè)加熱源121產(chǎn)生的熱量。

優(yōu)選的，上述加熱源121可以為電阻絲或者內(nèi)部設(shè)置有電阻絲的加熱塊。這樣一來(lái)，加熱源121產(chǎn)生的熱量q＝i²×r×t。其中，“i”為流過(guò)加熱源121的電流；“r”為加熱源121的電阻；“t”為加熱源121的工作時(shí)間。通常為了方便承載板101的制備，上述多個(gè)加熱源121的電阻r相同。因此上述控制器211可以根據(jù)調(diào)溫指令對(duì)不同加熱源121的加熱時(shí)間和供電電流進(jìn)行調(diào)節(jié)，以達(dá)到單獨(dú)控制不同加熱源121產(chǎn)生熱量的目的。

需要說(shuō)明的是，控制器211接收到的調(diào)溫指令可以是工作人員對(duì)產(chǎn)品的cd均一性的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行分析，編輯出上述調(diào)溫指令，并手動(dòng)將上述調(diào)溫指令通過(guò)操作界面輸入至控制器211。或者還可以通過(guò)一處理器將控制器211與用于檢測(cè)產(chǎn)品的cd均一性的設(shè)備相連接。該處理器能夠?qū)z測(cè)結(jié)果進(jìn)行分析，并編輯出上述調(diào)溫指令。

此外，cd均一性檢測(cè)設(shè)備可以實(shí)時(shí)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行檢測(cè)，并使得控制器211能夠?qū)崟r(shí)對(duì)承載板101上的加熱源121產(chǎn)生的熱量進(jìn)行調(diào)節(jié)?；蛘?，為了降低制作成本，cd均一性檢測(cè)設(shè)備可以對(duì)同一批次的產(chǎn)品只檢測(cè)一次，而控制器211上述同批次產(chǎn)品進(jìn)行顯影的過(guò)程中，接收到的調(diào)溫指令相同。

對(duì)于陣列基板而言，cd可以為該陣列基板上同層同材料的連接線的線寬。例如，當(dāng)像素區(qū)的柵線與外圍電路區(qū)中與該柵線同層同材料的金屬引線的線寬形同或近似相同時(shí)，可以認(rèn)為該陣列基板的cd均一。然而，顯影過(guò)程中，顯影速度快的區(qū)域容易發(fā)生過(guò)顯影，導(dǎo)致該區(qū)域的光刻膠厚度較小，使得該區(qū)域形成圖案的線寬較小，cd偏??；顯影速度慢的區(qū)域的光刻膠厚度較大，使得該區(qū)域形成圖案的線寬較大，cd偏大。在此情況下，由于本申請(qǐng)?zhí)峁┑娘@影裝置中，用于承載成膜基板100的承載板101具有多個(gè)加熱區(qū)120，通過(guò)控制器211對(duì)位于不同加熱區(qū)120中的加熱源121產(chǎn)生的熱量進(jìn)行單獨(dú)調(diào)節(jié)，從而可以分區(qū)域?qū)Τ赡せ?00進(jìn)行加熱，以增大cd偏大區(qū)域的顯影溫度，提高該區(qū)域的顯影速度，并減小cd偏小區(qū)域的顯影溫度，降低該區(qū)域的顯影速度，使得整個(gè)成膜基板100各個(gè)區(qū)域的顯影速度均一，從而達(dá)到cd均一的目的。

在此基礎(chǔ)上，上述顯影裝置01還包括，如圖4所示的，與顯影腔室10的入口相連接的等候腔室20，以及依次與顯影腔室10的觸控相連接的水洗腔室30以及烘干腔室40。具體的，等候腔室20用于放置待顯影的成膜基板100。水洗腔室30用于對(duì)經(jīng)過(guò)顯影的成膜基板100進(jìn)行沖洗，以將該成膜基板100上的顯影液沖洗掉。此外，烘干腔室40用于對(duì)經(jīng)過(guò)水洗的成膜基板100進(jìn)行烘干，以為該成膜基板100進(jìn)入后續(xù)制作工藝做準(zhǔn)備。

在此基礎(chǔ)上，為了使得等候腔室20內(nèi)的成膜基板100能夠更好的傳輸至顯影腔室10，優(yōu)選的，如圖5所示，在顯影腔室10內(nèi)，且在該顯影腔室10的入口處設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)13，該傳動(dòng)機(jī)構(gòu)13用于將由等候腔室20傳送至上述顯影腔室10入口處的成膜基板100，再傳送至承載板101上。這樣一來(lái)，可以實(shí)現(xiàn)成膜基板100在等候腔室20與顯影腔室10之間無(wú)縫傳遞。

其中，上述傳送結(jié)構(gòu)13可以為機(jī)械手，或者為了進(jìn)一步提高現(xiàn)成膜基板100在等候腔室20與顯影腔室10之間傳遞的連貫性，優(yōu)選的上述傳送機(jī)構(gòu)13如圖6所示(該傳送結(jié)構(gòu)13的俯視圖)，包括多個(gè)平行設(shè)置的傳送桿130，每個(gè)傳送桿130上安裝有多個(gè)間隔設(shè)置的滾輪131。

其中，傳送桿130的延伸方向和滾輪131徑向方向相同。具體的，上述滾輪131在傳送桿130的安裝方式，如圖7所示，滾輪131通過(guò)支撐架132安裝于傳送桿130上。該支撐架132至少包括相互垂直的支撐部1320和轉(zhuǎn)軸部1321。具體的，如圖8所示，支撐架132的一端固定連接于傳送桿130上，另一端于支撐部1320的一端相連接。轉(zhuǎn)軸部1321的另一端穿過(guò)滾輪131的中心位置，以使得滾輪131能夠繞該轉(zhuǎn)軸部1321進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。此外，該轉(zhuǎn)軸部1321上還可以設(shè)置限位部件，以使得滾輪131在轉(zhuǎn)動(dòng)的過(guò)程中不會(huì)脫離轉(zhuǎn)軸部1321。

在此基礎(chǔ)上，可以將承載板101設(shè)置于傳送結(jié)構(gòu)13的一側(cè)，以承接傳送結(jié)構(gòu)13中傳送的成膜基板100。但是采用上述承接方式，如圖5所示，成膜基板100在與承載板101接觸的過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生較大的摩擦力，因此會(huì)對(duì)成膜基板100的損壞。此外，為了克服上述摩擦力，使得成膜基板100能夠完全平移至承載板101上，該傳送結(jié)構(gòu)13中的至少一個(gè)滾輪131需要設(shè)置為主動(dòng)輪，以增加傳送結(jié)構(gòu)13的傳輸能力，然而這樣一來(lái)會(huì)增加功耗。

為了解決上述問(wèn)題，優(yōu)選的，如圖8所示，該顯影裝置01還包括設(shè)置于顯影腔室10內(nèi)，且位于承載板101背離承載面一側(cè)的支撐板102。

其中，支撐板102的支撐面f靠近承載板101。此外，該支撐面f上設(shè)置有與支撐面f垂直的多個(gè)支撐針103。

在此情況下，為了使得傳送機(jī)構(gòu)13上的成膜基板100能夠承接于承載板101上。該承載板101位于傳送機(jī)構(gòu)13靠近顯影腔室01的底面的一側(cè)。

基于此，該承載板101上設(shè)置多個(gè)通孔104，每個(gè)通孔104在支撐面f上的正投影與一個(gè)支撐針103在支撐面f上的正投影重疊。且該通孔104的孔徑大于支撐針103的直徑，從而使得上述支撐針103能夠穿過(guò)與該支撐針103位置相對(duì)應(yīng)的通孔104。此外，如圖9所示，支撐針103位于相鄰兩個(gè)傳送桿130之間。

由上述結(jié)構(gòu)可知，傳送機(jī)構(gòu)13上的成膜基板100承接于承載板101上的過(guò)程具體為：

首先，在驅(qū)動(dòng)部件200的驅(qū)動(dòng)作用下，將承載板101移動(dòng)至傳動(dòng)機(jī)構(gòu)13的下方，位于如圖8所示的工位a處，然后驅(qū)動(dòng)部件200驅(qū)動(dòng)支撐板102向靠近成膜基板100的方向運(yùn)動(dòng)，從而帶動(dòng)支撐針103向上運(yùn)動(dòng)。該支撐針103穿過(guò)承載板101上的通孔104，并穿過(guò)相連兩個(gè)傳送桿130之間，并于成膜基板100的下表面相接觸，使得成膜基板100的下表面與傳送機(jī)構(gòu)13上的滾輪131脫離。

接下來(lái)，在驅(qū)動(dòng)部件200的驅(qū)動(dòng)作用下，承載板101、支撐板102、支撐針103以及被支撐針103支撐的成膜基板100移動(dòng)至工位b，從而使得成膜基板100與傳送結(jié)構(gòu)13完全脫離。

接下來(lái)，在驅(qū)動(dòng)部件200的驅(qū)動(dòng)作用下，支撐板102向遠(yuǎn)離成膜基板100的方向運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)支撐針103向下運(yùn)動(dòng)，直至支撐針103的上表面低于承載板101的承載面，從而使得成膜基板100的下表面與承載面相接觸，使得承載板101對(duì)成膜基板100進(jìn)行承載。此外，該驅(qū)動(dòng)部件200還驅(qū)動(dòng)承載板101以及被支撐針103支撐的成膜基板100移動(dòng)至工位c，以對(duì)該成膜基板100噴灑顯影液，進(jìn)行顯影工藝。

由上述可知，承載板100在承接成膜基板100的過(guò)程中，成膜基板100無(wú)需滑動(dòng)至承載板100的承載面上，因此能夠避免由于滑動(dòng)造成成膜基板100的損壞。

基于此，上述滾輪131可以均為從動(dòng)輪。在此情況下，等候腔室20中的成膜基板100被傳送顯影腔室10入口處，且該成膜基板100與上述滾輪131相接觸，成膜基板100將動(dòng)能傳遞至滾輪131，使得滾輪131轉(zhuǎn)動(dòng)，從而能夠減小功耗。此外，由于滾輪131與成膜基板100之間為滾動(dòng)摩擦，因此摩擦力較小，對(duì)成膜基板100的磨損也較小。

需要說(shuō)明的是，“上”和“下”等方位術(shù)語(yǔ)是相對(duì)于附圖中的成膜基板任意置放的方位來(lái)定義的，應(yīng)當(dāng)理解到，這些方向性術(shù)語(yǔ)是相對(duì)的概念，它們用于相對(duì)于的描述和澄清，其可以根據(jù)成膜基板所放置的方位的變化而相應(yīng)地發(fā)生變化。

由上述可知，驅(qū)動(dòng)部件200即可以驅(qū)動(dòng)支撐板102沿垂直于顯影腔室10底面的方向上、下移動(dòng)，又可以驅(qū)動(dòng)承載板101、支撐板102、支撐針103沿平行于顯影腔室10底面的方向水平移動(dòng)。

因此，為了使得該驅(qū)動(dòng)部件200具有上述功能。優(yōu)選的驅(qū)動(dòng)部件200如圖8所示包括水平驅(qū)動(dòng)子部201。

在此情況下，該顯影腔室10的底面設(shè)置有如圖10所示的導(dǎo)向槽50。上述水平驅(qū)動(dòng)子部201包括驅(qū)動(dòng)器2010以及與該驅(qū)動(dòng)器2010相連接的滾輪131。具體的，滾輪131設(shè)置于導(dǎo)向槽50內(nèi)，且該滾輪131用于在驅(qū)動(dòng)器2010的驅(qū)動(dòng)下沿導(dǎo)向槽50滾動(dòng)。

可選的，上述驅(qū)動(dòng)器2010可以為馬達(dá)。此外，為了驅(qū)動(dòng)承載板101水平移動(dòng)，該承載板101可以通過(guò)一根立柱與驅(qū)動(dòng)器2010的外殼固定連接。

此外，上述導(dǎo)向槽50的導(dǎo)向方向沿上述傳送路線02設(shè)置。在此情況下，當(dāng)上述傳送路線02如圖2所示包括去程路線a1、下行路線b1、上行路線b2以及回程路線a2時(shí)，該導(dǎo)向槽50如圖10所示可以包括依次收尾相接的去程子導(dǎo)槽501、下行子導(dǎo)槽502、回程子導(dǎo)槽503以及上行子導(dǎo)槽504。

其中，去程子導(dǎo)槽501的一端設(shè)置于顯影腔室10的入口處，另一端設(shè)置于顯影腔室10的出口處，從而使得去程子導(dǎo)槽501的延伸方向能夠與上述去程路線a1相匹配。此外，回程子導(dǎo)槽503與去程子導(dǎo)槽501平行，以使得回程子導(dǎo)槽503與上述回程路線a2相匹配。下行子導(dǎo)槽502、上行子導(dǎo)槽504與去程子導(dǎo)槽501，且下行子導(dǎo)槽502位于顯影腔室10的出口所在的一側(cè)，與該下行路線b1相匹配；上行子導(dǎo)槽504位于顯影腔室10的入口所在的一側(cè)，與該上行路線b2相匹配。

在此情況下，水平驅(qū)動(dòng)子部201驅(qū)動(dòng)承載板101從而去程子導(dǎo)槽501的一端移動(dòng)至去程子導(dǎo)槽501的另一端，從而在顯影腔室10的入口處承接待顯影的成膜基板100，并將顯影后的成膜基板100運(yùn)送至顯影腔室10的出口位置，以使得成膜基板100能夠移除顯影腔室10。接下來(lái)，水平驅(qū)動(dòng)子部201驅(qū)動(dòng)承載板101沿下行子導(dǎo)槽502移動(dòng)至回程子導(dǎo)槽503，再沿回程子導(dǎo)槽503移動(dòng)至上行子導(dǎo)槽504，繼續(xù)沿上行子導(dǎo)槽504移動(dòng)，最終回到顯影腔室10的入口，以承接新的待顯影的成膜基板100。

此外，為了使得驅(qū)動(dòng)部件200驅(qū)動(dòng)支撐板102沿垂直于顯影腔室10底面的方向上、下移動(dòng)，該驅(qū)動(dòng)部件200如圖8所示包括豎直驅(qū)動(dòng)子部202。該豎直驅(qū)動(dòng)子部202位于支撐板102與水平驅(qū)動(dòng)部件201之間。

具體的，豎直驅(qū)動(dòng)子部202，如圖11所示，包括固定端2021以及活動(dòng)端2022。其中，活動(dòng)端2022用于相對(duì)于固定端2021沿垂直于顯影腔室10的底面的方向運(yùn)動(dòng)。固定端2021與水平驅(qū)動(dòng)部件201相連接，活動(dòng)端2022與支撐板102的下表面相連接。這樣一來(lái)，當(dāng)活動(dòng)端2022相對(duì)于固定端2021垂直于顯影腔室10的底面上、下運(yùn)動(dòng)時(shí)，可以使得支撐板102帶動(dòng)支撐針103上、下運(yùn)動(dòng)。

可選的，上述豎直驅(qū)動(dòng)子部202可以為液壓缸。其中，上述固定端2021為液壓缸的缸體，而活動(dòng)端2022為液壓缸的活塞桿。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種光刻設(shè)備包括如上所述的任意一種顯影裝置。該顯影裝置具有與前述實(shí)施例提供的光刻設(shè)備相同的有益效果，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。