蒸鍍設(shè)備及采用該蒸鍍設(shè)備的操作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示器制造領(lǐng)域，尤其是指一種蒸鍍設(shè)備及采用該蒸鍍設(shè)備的操作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting D1de，0LED)顯示器以其色彩鮮艷、功耗低、產(chǎn)品薄等諸多優(yōu)點在市場上受到了廣大消費(fèi)者的喜愛。目前對于OLED顯示器的制作，需要在高真空腔室中設(shè)置有機(jī)材料的坩禍，加熱坩禍蒸鍍有機(jī)材料，形成OLED顯示器的有機(jī)薄膜，因此OLED顯示器中蒸鍍是必不可少的制程。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍設(shè)備中，在蒸鍍過程每次材料用盡后都需要破真空，打開真空腔室重新添加材料，該種方式使OLED顯示器的制作過程耽誤時間，且容易造成污染，因此有必要對用于OLED顯示器制作的蒸鍍設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)，以達(dá)到降低蒸鍍制作過程污染的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明技術(shù)方案的目的是提供一種蒸鍍設(shè)備及采用該蒸鍍設(shè)備的操作方法，用于解決現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍設(shè)備在重新添加材料時破真空對內(nèi)部蒸鍍環(huán)境造成污染以及使OLED顯示器的制作效率較低的問題。
[0005]本發(fā)明提供一種蒸鍍設(shè)備，包括具有一內(nèi)部空間的主腔體和設(shè)置于主腔體下方的蒸鍍機(jī)構(gòu)，其中，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)包括至少兩個坩禍容納腔體；
[0006]其中，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)包括第一狀態(tài)和第二狀態(tài)；在第一狀態(tài)，第一坩禍容納腔體位于蒸鍍執(zhí)行位置，且與所述主腔體之間連通，構(gòu)成真空空間，所述第一坩禍容納腔體中的坩禍所盛放材料執(zhí)行蒸鍍過程；在第二狀態(tài)，在真空環(huán)境下，所述第一坩禍容納腔體移離所述蒸鍍執(zhí)行位置，第二坩禍容納腔體移動至所述蒸鍍執(zhí)行位置處，且與所述主腔體之間連通。
[0007]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)還包括一個外圍腔體，各個所述坩禍容納腔體均設(shè)置于所述外圍腔體中；所述蒸鍍機(jī)構(gòu)在所述第二狀態(tài)，所述外圍腔體內(nèi)形成真空空間。
[0008]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)還包括具有容納空間的第一安裝支架，各個所述坩禍容納腔體設(shè)置于所述第一安裝支架的容納空間中，且所述坩禍容納腔體相組合的形狀與所述容納空間的形狀相對應(yīng)。
[0009]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)還包括驅(qū)動結(jié)構(gòu)，與所述第一安裝支架連接，用于使所述第一安裝支架進(jìn)行上、下升降運(yùn)動以及旋轉(zhuǎn)運(yùn)動；通過驅(qū)動所述第一安裝支架運(yùn)動，在所述第二狀態(tài)，使所述第一坩禍容納腔體移離所述蒸鍍執(zhí)行位置，所述第二坩禍容納腔體移動至所述蒸鍍執(zhí)行位置處。
[0010]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，每一所述坩禍容納腔體的外壁均包覆有密封材料。[0011 ] 優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)還包括蒸鍍加熱部件，所述蒸鍍加熱部件固定設(shè)置于所述主腔體的側(cè)壁上，且所述主腔體的側(cè)壁上、所述蒸鍍加熱部件的一側(cè)設(shè)置有能夠開閉的通孔結(jié)構(gòu)；所述坩禍容納腔體朝向所述主腔體的一側(cè)設(shè)置有開口 ；所述坩禍容納腔體位于所述蒸鍍執(zhí)行位置，所述開口與所述主腔體的側(cè)壁緊密貼合，所述通孔結(jié)構(gòu)與所述開口相對，所述坩禍容納腔體通過呈打開狀態(tài)的所述通孔結(jié)構(gòu)與所述主腔體連通，所述蒸鍍加熱部件通過所述開口插設(shè)進(jìn)入所述坩禍容納腔體的內(nèi)部。
[0012]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述外圍腔體與所述主腔體的側(cè)壁貼合連接，且所述主腔體的側(cè)壁的一部分構(gòu)成為所述外圍腔體在其中一側(cè)面的側(cè)壁。
[0013]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，每一所述坩禍容納腔體的側(cè)壁上設(shè)置有能夠開閉的第一開口結(jié)構(gòu)，通過所述第一開口結(jié)構(gòu)的打開狀態(tài)，蒸鍍用坩禍能夠進(jìn)入所述坩禍容納腔體的內(nèi)部或者能夠從所述坩禍容納腔體的內(nèi)部移出。
[0014]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述外圍腔體的側(cè)壁上設(shè)置有能夠開閉的第二開口結(jié)構(gòu)，所述第二開口結(jié)構(gòu)呈關(guān)閉狀態(tài)，所述外圍腔體的內(nèi)部形成封閉空間；所述第二開口結(jié)構(gòu)呈打開狀態(tài)，所述坩禍容納腔體露出。
[0015]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述蒸鍍設(shè)備還包括:
[0016]第一抽真空結(jié)構(gòu)，用于對所述主腔體和與所述主腔體連通的所述坩禍容納腔體抽取真空；
[0017]第二抽真空結(jié)構(gòu)，用于對所述外圍腔體抽取真空。
[0018]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述蒸鍍設(shè)備包括多個所述蒸鍍機(jī)構(gòu)，各個所述蒸鍍機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述主腔體的下方，且圍繞所述主腔體在豎直方向的軸心均勻分布。
[0019]優(yōu)選地，上述所述的蒸鍍設(shè)備，所述蒸鍍設(shè)備還包括具有容納空間的第二安裝支架，設(shè)置于所述主腔體下方且與所述主腔體連接，各個所述蒸鍍機(jī)構(gòu)均安裝設(shè)置于所述第二安裝支架的容納空間內(nèi)。
[0020]本發(fā)明還提供一種采用以上任一項所述蒸鍍設(shè)備的操作方法，其中，所述操作方法包括:
[0021]將所述第一坩禍容納腔體移動至所述蒸鍍執(zhí)行位置，且使所述第一坩禍容納腔體與所述主腔體相連通；
[0022]所述第一坩禍容納腔體中的坩禍所盛放材料執(zhí)行蒸鍍過程；
[0023]所述第一坩禍容納腔體中的坩禍所盛放材料耗盡時，在真空環(huán)境下，所述第一坩禍容納腔體移離所述蒸鍍執(zhí)行位置，所述第二坩禍容納腔體移動至所述蒸鍍執(zhí)行位置處，且與所述主腔體之間連通；
[0024]所述第二坩禍容納腔體中的坩禍所盛放材料執(zhí)行蒸鍍過程。
[0025]優(yōu)選地，上述所述的操作方法，所述第二坩禍容納腔體中的坩禍所盛放材料執(zhí)行蒸鍍過程的步驟中，所述操作方法還包括:
[0026]將所述第一坩禍容納腔體中的坩禍取出，重新添加材料后放回所述第一坩禍容納腔體。
[0027]優(yōu)選地，上述所述的操作方法，在所述第二坩禍容納腔體中的坩禍所盛放材料執(zhí)行蒸鍍過程執(zhí)行完畢后，所述操作方法還包括:
[0028]將所述第一坩禍容納腔體和所述第二坩禍容納腔體中的坩禍分別取出，重新添加材料后分別放回所述第一坩禍容納腔體和所述第二坩禍容納腔體。
[0029]優(yōu)選地，上述所述的操作方法，所述第一坩禍容納腔體中的坩禍所盛放材料執(zhí)行蒸鍍過程的步驟具體包括:
[0030]對所述主腔體抽取真空，使所述主腔體和所述第一坩禍容納腔體均達(dá)到預(yù)設(shè)真空度；
[0031]對所述第一坩禍容納腔體內(nèi)的坩禍進(jìn)行預(yù)熱，預(yù)熱達(dá)到預(yù)設(shè)溫度時，執(zhí)行蒸鍍過程，直到坩禍內(nèi)的材料用盡。
[0032]本發(fā)明具體實施例上述技術(shù)方案中的至少一個具有以下有益效果:
[0033]所述蒸鍍設(shè)備通過設(shè)置至少兩個坩禍容納腔體，在第一坩禍容納腔體內(nèi)的坩禍蒸鍍完成之后，在真空環(huán)境下可以直接將第二坩禍容納腔體移動至蒸鍍執(zhí)行位置進(jìn)行蒸鍍，該過程無需破真空更換材料，既能夠達(dá)到節(jié)約時間又能夠保證不會造成污染的技術(shù)效果。
【附圖說明】
[0034]圖1表示本發(fā)明實施例所述蒸鍍設(shè)備的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖2表示本發(fā)明實施例所述蒸鍍設(shè)備的主視剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖3表示本發(fā)明實施例所述蒸鍍設(shè)備的主視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖4表示本發(fā)明實施例所述蒸鍍設(shè)備的坩禍容納腔體的主視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖5表示